切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • 2004阅读
    • 0回复

    [技术]TRCX:掺杂过程分析 [复制链接]

    上一主题 下一主题
    在线infotek
     
    发帖
    7196
    光币
    30121
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-12-30
    在 LTPS 制造过程中,使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时,应用与实际工艺相同的原理工程可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容,并分析有源层离子注入前后的电位分布,如下图所示。 )0fQ(3oOg  
    6~;fj+S  
    .'5yFBS  
    o9q%=/@,  
    qJ#?=ITE  
    Q3wD6!'&m  
    (a)FIB #e+%;5\  
    >xJt&jW-  
    a%*W^R9Ls  
    (b) 掺杂前后对比
    @\u)k  
    本主题包含附件,请 登录 后查看, 或者 注册 成为会员
     
    分享到