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    [技术]TRCX:掺杂过程分析 [复制链接]

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    离线infotek
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-12-30
    在 LTPS 制造过程中,使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时,应用与实际工艺相同的原理工程可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容,并分析有源层离子注入前后的电位分布,如下图所示。 7Q,<h8N\5  
    e)3Mg^  
    uLNOhgSUf  
    \x5>H:\Y  
    &3)6WD?:U  
    =`Ky N/  
    (a)FIB TJB4N$-}A  
    /nEK|.j  
    uzLm TmM+  
    (b) 掺杂前后对比
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