切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 Zemax光学设计从基础到实践 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) ZEMAX光学系统设计实战
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 1435阅读
    • 0回复

    [技术]TRCX：掺杂过程分析 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    5766
    光币
    22982
    光券
    0
    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2021-12-30
    在 LTPS 制造过程中，使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时，应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容，并分析有源层离子注入前后的电位分布，如下图所示。 8f1M6GK?  
    d&AO 4^  
    Wx8:GBM$2  
     S?6 -I,]h  
    Td|u-9OM  
     =)G]\W)m  
    (a)FIB }30Sb &"  
    f_$hK9I  
     ]R>NmjAI  
    (b) 掺杂前后对比
    Sa%%3_&  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表