铠侠开发NIL半导体工艺 无需EUV光刻机制程直奔5nm

在半导体工艺进入10nm节点之后，EUV工艺是少不了的，但是EUV光刻机价格高达10亿一台，而且产量有限，导致芯片生产成本很高。日本铠侠公司现在联合伙伴开发了新的工艺，可以不使用EUV光刻机，工艺直达5nm。 w]J9Kv1)-  
L<'3O),}  
据媒体报道，铠侠从2017年开始与半导体设备厂佳能，以及光罩、模板等半导体零组件制造商DNP合作，在日本三重县四日市的铠侠工厂内研发纳米压印微影技术(NIL)的量产技术，铠侠已掌握15nm量产技术，目前正在进行15nm以下技术研发，预计2025年达成。 7O^ySy"l  
Ri=>evx  
与目前已实用化的极紫外光(EUV)半导体制程细微化技术相比，NIL更加减少耗能且大幅降低设备成本。 /7/d u[P6  
d!mtSOh  
因NIL的微影制程较单纯，耗电量可压低至EUV生产方式的10%，并让设备投资降低至40%。 '/trM%<  
`xMmo8u4  
而EUV设备由ASML独家生产供应，不但价格高，且需要许多检测设备配合。 "7mYs)=  
mtu/kd'(  
目前NIL在量产上仍有不少问题有待解决，包括更容易因细微尘埃而形成瑕疵等问题。 eKPxSN Z  
*$~H
=4t  
如果铠侠能成功率先引进NIL量产技术，可望弥补在设备投资竞赛中的不利局面，又能符合减少碳排放的需求。 ^1^k<  
?-1r$z  
对铠侠来说，NAND组件采取3D堆叠立体结构，更容易因应NIL技术的微影制程。 W ZdEfY{  
:vZ8n6J[  
VJmX@zX9  
铠侠表示，已解决NIL的基本技术问题，正在完善量产技术，希望能率先引入NAND生产。 0*^ J;QGE  
Fa:fBs{  
根据DNP说法，NIL技术电路精细程度可达5nm，DNP从2021年春起，根据设备的规格值进行内部仿真。 %xF j;U?  
?^t"tY  
DNP透露，从半导体制造商询问增加，显示不少厂商对NIL技术寄予厚望。 /`McKYIP  
v10p]=HmO  
而佳能则致力于将NIL技术广泛应用于制作DRAM及PC用CPU等逻辑IC的设备，供应多种类型的半导体制造商，将来也希望能应用于手机应用处理器等最先进制程。