-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-04-22
- 在线时间1968小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
内容简介： |.)oV;9
kDS4 t?Ig 1.在VirtualLab中如何进行结构设计； | 94"bDL3~
[- a2<E 2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 =UM30
P/
op/HZa 结构设计 :hwZz2Dhi 1) 点击 ，打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 1<\@i{;xsU
-s,^_p{H B'lWs; 2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布，默认为振幅视图. 点击 ，将默认的振幅视图转换为相位视图，点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 506B =
k*w] a ,<d[5;7x 3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 jY(' ?3
1*Yf[;L 目标(Target)标签，可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 6
GO 7[?U< u-qg9qXJb 光学设置(Optical Setup)标签，在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium)，同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长（Wavelength）。 w byY? tH
+=)<
Su. S>/p6}3] 光学界面参数(Interface Parameters)标签，在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None)，以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面，并选择像素化的高度轮廓（最临近点插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值 h*Rh:yCR> T u?+pz`h  8 T):b2h
`M6!V <IC=x(T \j+O |#`|) 导出加工数据 lQ<2Vw#Yl
cuO(*%Is1 1) 在LPD中双击生成的元件，可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component，简称DIC)的形式保存的，而高度轮廓以取样光学界面（Sampled interface）的形式保存，点击编辑(Edit) \3-XXq
/XeDN-{ Vl %AN;o 2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口，在结构(Structure)标签上，选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值，并进行3D预览 m$ ) yd~
d(3F:dbk 8V`NQS$ 3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中，点击鼠标右键，选择精度(Accuracy)，将界面取样精度设置为5，提高取样光学界面的显示精度 j&6,%s-M`a D^baXp8  Kyt.[" p
+dX1`%RR[ 在一般(General)标签进行如下图所示的设置 ZR.1SA0x?O Sf);j0G,D 在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置 {>H#/I8si iS&~oj_-% 在GDSII/CIF标签上选择默认设置，并点击Export导出加工数据 ,24NMv7 kTb.I;S #s$b\"4
导出加工数据列表 bZHuE h2w
#+N\u*-S G~1#kg 8/,m8UOY 导入加工数据 *%l&'+
XSyCT0f08 1) 点击 ，新建一个LPD，在LPD中选取单光学界面(Single Optical Interface)元件，以下简称SOI 9uV/G7Geq
Tf7$PSupP %Koc^
pb) 2) 双击SOI，进入其编辑窗口，点击加载(Load) ,],"tzKtE
J~eY,n.6] |RDmY!9& 3) 导入取样光学界面(Sampled Interface) w$n\`rQ $e& ( ncM 4) 点击编辑(Edit)，进入取样光学界面编辑窗口，导入加工数据 ,DK |jf
SweaE Rl ?BT\)@ h  5!$m3j_,]? ;
Xrx>( n  3G9"La,b
6) 导入完成，观察3D视图 <h^'x7PkW5
vpcHJ ^19  cTu7U=% -ZFeE[Z
QQ：2987619807
|
