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内容简介： Fgskb"k/
]c5DOv & 1.在VirtualLab中如何进行结构设计； tSI& "-
+O&RBEa[ 2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 f V*}c `
p
"/(>8 结构设计 hx*HY%\P 1) 点击 ，打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 ^GE^Q\&D&
j p! ,tcP=f dk] 2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布，默认为振幅视图. 点击 ，将默认的振幅视图转换为相位视图，点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 D~5yj&&T;
GSC{F#:z WC3W+v G7 3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 G(:s-x ig6
1NuR/DO 目标(Target)标签，可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 Hde]DK,d z Z@L4ZT 光学设置(Optical Setup)标签，在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium)，同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长（Wavelength）。 '$n:CNha
tCuN?_ UG )Y=w40Yzd 光学界面参数(Interface Parameters)标签，在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None)，以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面，并选择像素化的高度轮廓（最临近点插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值 qUifw @ \m(ymp<c`  67}]s@:l](
V V?]U$ 7fap* : : F! 导出加工数据 `l+ >iM
<sgZ3*, A 1) 在LPD中双击生成的元件，可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component，简称DIC)的形式保存的，而高度轮廓以取样光学界面（Sampled interface）的形式保存，点击编辑(Edit) 9B qQ^`bu
"}0)YRz% , D exJ1 2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口，在结构(Structure)标签上，选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值，并进行3D预览 A
Z4|&i T
F9Ifw><XM N|UBaPS|o 3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中，点击鼠标右键，选择精度(Accuracy)，将界面取样精度设置为5，提高取样光学界面的显示精度 Sg/: n,68 }l,T~Pjb  <P+G7!KZ&
^zvA?'s 在一般(General)标签进行如下图所示的设置 A Oby*c ybD{4&ZE 在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置 66I |0_ +CsI,Uf4* 在GDSII/CIF标签上选择默认设置，并点击Export导出加工数据 ,"P5D&,_ ."~7 \E> t 4y|xUO:
导出加工数据列表 T
[ T 6
DCEvr " ( T)b3N| ONB S
23S.]r 导入加工数据 JK@iz I
Iq4 Kgc 1) 点击 ，新建一个LPD，在LPD中选取单光学界面(Single Optical Interface)元件，以下简称SOI hg[l{)Q
tU+@ 1~
~ z1Bj_u{ 2) 双击SOI，进入其编辑窗口，点击加载(Load) Gl?P.BCW.&
PWf{aHsr :N^@a- 3) 导入取样光学界面(Sampled Interface) hKk\Y{wv' -D !#W%y8 4) 点击编辑(Edit)，进入取样光学界面编辑窗口，导入加工数据 cJU!zG
B6tcKh9d, PphR4 sIM  qT4I Y$h O ,Pl7x%tK  7,V!Iv^X 6) 导入完成，观察3D视图 OmT Z-*N
s,UN'~e1  !.;xt L bR>o!(M'Z\
QQ：2987619807
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