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内容简介： tMy<MO)Ei
bjq+x: > 1.在VirtualLab中如何进行结构设计； {e/6iSpT
3oo Tn-`{ 2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 FS+v YqwK
Bu{1^g: 结构设计 s.uw,x 1) 点击 ，打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 U
%,K8u|WH
fR^aFT ;) c 4 2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布，默认为振幅视图. 点击 ，将默认的振幅视图转换为相位视图，点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 ,ve$bSp
Ho^rYz .[Hv/?L 3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 pD@2Mt0|]=
`@tn E g 目标(Target)标签，可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 ,su C`)R kv8
/UW 光学设置(Optical Setup)标签，在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium)，同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长（Wavelength）。 =rL^^MZp
_v\L'`bif '#*5jn]CqB 光学界面参数(Interface Parameters)标签，在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None)，以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面，并选择像素化的高度轮廓（最临近点插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值 KD(}- zUs .ou#BWav/  *z3wm-z1&
z>& |:VGG jb'A Os q\I2lZ 导出加工数据 2 y;J 11\
#ouE, < 1) 在LPD中双击生成的元件，可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component，简称DIC)的形式保存的，而高度轮廓以取样光学界面（Sampled interface）的形式保存，点击编辑(Edit) qiyX{J7Z
Wf>P[6 oBpoZ @[Z 2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口，在结构(Structure)标签上，选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值，并进行3D预览 `9>1 w d
\~4I Ou "I
n[= 2w 3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中，点击鼠标右键，选择精度(Accuracy)，将界面取样精度设置为5，提高取样光学界面的显示精度 H6Dw5vG"l gQ8Fj L6?  @TqqF:c7
Z<A BK`rEO 在一般(General)标签进行如下图所示的设置 { g@?\ &40# _>W7 在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置 r,FPTf
=,HxtPJ 在GDSII/CIF标签上选择默认设置，并点击Export导出加工数据 d:"#_ ,+mH1#-3 L^b / +R#
导出加工数据列表 W_\ ~CntyZ
%j7HIxZh L2$`S'U W /ZpwJc`e 导入加工数据 lBN1OL[N
s/cclFji] 1) 点击 ，新建一个LPD，在LPD中选取单光学界面(Single Optical Interface)元件，以下简称SOI 83[gV@LW0m
O% }EpIP_ ;+6TZqklQ 2) 双击SOI，进入其编辑窗口，点击加载(Load) z<h?WsL
4
>2g&);B $?FA7=_ 3) 导入取样光学界面(Sampled Interface) AJWV#J%nB >$ok3-tuU 4) 点击编辑(Edit)，进入取样光学界面编辑窗口，导入加工数据 iI
4X M>`a
Kx<T;iJ} QswbIP/>:'  D& C83^m 9s9_a4t5  Hp}d m93T 6) 导入完成，观察3D视图 Ee0}Xv
x } X1
O)  X`'
@ G 6:$+"@ps
QQ：2987619807
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