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内容简介： FBAC9}V"
b=U MoWS 1.在VirtualLab中如何进行结构设计； &U*J{OP|
[Be53U{= 2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 \,gZNe&Vv
{l&2 Kd* 结构设计 xJLO\B+gM 1) 点击 ，打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 eKz~viM'
"EYj Y-> TQd FC\@f" 2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布，默认为振幅视图. 点击 ，将默认的振幅视图转换为相位视图，点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 K!K"}%/_
Qsxkw Gy6 qLM 3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 ]3,.g)U*m
9*+0j2uhQ 目标(Target)标签，可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 f sc~$^.~\ -xu.=n@, 光学设置(Optical Setup)标签，在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium)，同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长（Wavelength）。 @n X2*j*u
<lmJa# K_|~3g 光学界面参数(Interface Parameters)标签，在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None)，以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面，并选择像素化的高度轮廓（最临近点插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值 ( E}cA&{ >DUE8hp ;<  &9_\E{o%]
~1 r*/@M[V B=bI'S8\ "E|r 3cN 导出加工数据 E:4P1,%01+
0 ;_wAk 1) 在LPD中双击生成的元件，可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component，简称DIC)的形式保存的，而高度轮廓以取样光学界面（Sampled interface）的形式保存，点击编辑(Edit) L sDz V)
,PMb9 O\B EY&C [= 2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口，在结构(Structure)标签上，选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值，并进行3D预览 Qy^ z *s
+F~0\# d -Bo~"q 3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中，点击鼠标右键，选择精度(Accuracy)，将界面取样精度设置为5，提高取样光学界面的显示精度 hY=
s9\ ?hJ sN  Ym.l@(
i$JG^6,O 在一般(General)标签进行如下图所示的设置 Q_kT}6#(J= Vo 6y8@\ 在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置 -RH4y 2 S
$_Y/x 在GDSII/CIF标签上选择默认设置，并点击Export导出加工数据 {y&\?'L' ~nj bLUB YNg\"XjJM<
导出加工数据列表 9]L! .
Z cTL#OTP zyZ ok*s c
BHL, 导入加工数据 &:DCtjK
l$-=Pqb 1) 点击 ，新建一个LPD，在LPD中选取单光学界面(Single Optical Interface)元件，以下简称SOI "y~muE:.
ii_|)udz Q tnM(m 2) 双击SOI，进入其编辑窗口，点击加载(Load) 4+5OR&kxZ
{b|3]_-/ xTJ Sr2f 3) 导入取样光学界面(Sampled Interface) t +3 :dY.D|j* 4) 点击编辑(Edit)，进入取样光学界面编辑窗口，导入加工数据 "%oH@
=
.'^6QST 8h&oSOkQk,  fiE>H~ YN,y0t/cQ  n|70x5Z?}J 6) 导入完成，观察3D视图 i?GfY
C2q
oLrkOn/aY  yhcNE8mkQ/ Io$w| ~x
QQ：2987619807
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