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内容简介： P^ptsZ%
tIq>Ooj dx 1.在VirtualLab中如何进行结构设计； duX0Mc. 0P
>(hSW~i~ 2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 MaZM%W8Z
<,\ `Psa)N 结构设计 hf;S]8|F 1) 点击 ，打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 gks ==| s.
,Pn-ZF 8 RVS)D'' 2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布，默认为振幅视图. 点击 ，将默认的振幅视图转换为相位视图，点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 =E QJqj1T
fJaubDxa sU\c#|BSC" 3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 :6 XguU
C\
tprn Y 目标(Target)标签，可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 <3d;1o 2ck 4C/ h 光学设置(Optical Setup)标签，在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium)，同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长（Wavelength）。 4| `Yz%'
>DHp*$y vu=m e?m?( 光学界面参数(Interface Parameters)标签，在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None)，以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面，并选择像素化的高度轮廓（最临近点插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值 ~A6 "sb= X*i/A<Y`=  W+_ R hJ
MhNFW'_ ~
|6dH W4(v6>5l 导出加工数据 >1A*MP4
2K;#Evn'j 1) 在LPD中双击生成的元件，可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component，简称DIC)的形式保存的，而高度轮廓以取样光学界面（Sampled interface）的形式保存，点击编辑(Edit) )l_ @t(_
O` WIkBV! blGf !4H 2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口，在结构(Structure)标签上，选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值，并进行3D预览 Cezh l
(:5G#?6, u_PuqRcs 3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中，点击鼠标右键，选择精度(Accuracy)，将界面取样精度设置为5，提高取样光学界面的显示精度 2R]&v;A !YiuwFt  +iy 7e6P
sc W'AJJq 在一般(General)标签进行如下图所示的设置 MM?`voj~`p \ p4*$ 在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置 %r;w;`/hA
m*Lo|F 在GDSII/CIF标签上选择默认设置，并点击Export导出加工数据 [$\z'} z% 1{ +Ng0WS_0
导出加工数据列表 P}V=*g
|E TiLR=& mf' ]O, ,LZX@'5 导入加工数据 ;Wc4qJ.@
[iS,#w`
5 1) 点击 ，新建一个LPD，在LPD中选取单光学界面(Single Optical Interface)元件，以下简称SOI w%dL 8k
I;7nb4]AmF ^N{ltgQY 2) 双击SOI，进入其编辑窗口，点击加载(Load) <*|?x86~
B&Y_2)v \'Z<P,8~ 3) 导入取样光学界面(Sampled Interface) -Xz&}Q A ]JE TeZ^/ 4) 点击编辑(Edit)，进入取样光学界面编辑窗口，导入加工数据 <YFY{VC(
S [,8TErz :!fG; )=  f[sF:f(zI 4v'A\~ZU  ; n6b%,s 6) 导入完成，观察3D视图 9bJQT'<R
93O;+Z5J  !}KqB8 ; Gi FXX
QQ：2987619807
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