切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 Zemax光学设计从基础到实践 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) ZEMAX光学系统设计实战
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 1390阅读
    • 1回复

    [分享]结构设计和导出加工数据 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    5734
    光币
    22822
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-09-23
    内容简介： =|IlORf<  
     ;xzaW4(3  
    1.在VirtualLab中如何进行结构设计； t4v'X}7q]  
     VlA]A,P}i  
    2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 JOt(r}gU  
     MSvZ3[5Io  
    结构设计 \#dacQ2E@  
    1) 点击 ，打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 &5b 3k[K"  
     B^P&+,\[}  
    M;ADL|  
    2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布，默认为振幅视图. 点击，将默认的振幅视图转换为相位视图，点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 eU%49 A  
     -2J37   
         04;s@\yX4  
    3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 -NN=(p!<  
     &Q?@VN i  
    目标(Target)标签，可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 wxh\CBxG  
    ;]=w6'dP!  
    光学设置(Optical Setup)标签，在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium)，同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长（Wavelength）。 Wmcd{MOS  
     ]&Y^  
    F.$z7ee@  
    光学界面参数(Interface Parameters)标签，在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None)，以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面，并选择像素化的高度轮廓（最临近点插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值 .aY $-Y<  
    KU` *LB:  
    ?=&S?p)-<  
    4) 完成结构设计，在新的LPD中设计好的结构已经包含在名为“Generated Structure Design Component”的元件中 ur'<8pDb$  
     {P~rf&Ee  
    IV. })8  
    3_XLx{["'  
    导出加工数据 13 #ff  
     #vV]nI<MF.  
    1) 在LPD中双击生成的元件，可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component，简称DIC)的形式保存的，而高度轮廓以取样光学界面（Sampled interface）的形式保存，点击编辑(Edit) uWdF7|PN7  
     /v5A)A$7  
    vQi=13Pw  
    2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口，在结构(Structure)标签上，选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值，并进行3D预览 eP>_CrJb  
     ,k4pW&A  
    Y#68_%[  
    3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中，点击鼠标右键，选择精度(Accuracy)，将界面取样精度设置为5，提高取样光学界面的显示精度 <L qJg  
           0!dNW,NfJ  
    \/3(>g?4  
    kpn|C 9r  
    2n@`O g_0  
    4) 进入界面高度离散化(Height Discontinuities)标签，将离散高度阶数(Discrete Height Levels)设置为8，通过工具(Tools)中的导出(Export)生成可用于光学界面加工的数据 ktTP~7UVi  
    m#RJRuZ|2V  
    Ju47}t%HB  
    \Yr*x7!  
    5) 进入光学界面数据导出窗口 aH_c84DS  
     `Fr ,,Q81\  
    在一般(General)标签进行如下图所示的设置 lF!PiL  
    4DCh+|r  
    在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置 ;Y*K!iFWH  
    mk1R~4v  
    在GDSII/CIF标签上选择默认设置，并点击Export导出加工数据 LsERcjwwK  
    S^p b9~  
    mv8H:T  
    导出加工数据列表 C 6 \  
     "73y}'  
    6Oy:5Ps8a  
    )9yQ C  
    导入加工数据 +-|""`I1I  
     LQPQ !):;  
    1) 点击 ，新建一个LPD，在LPD中选取单光学界面(Single Optical Interface)元件，以下简称SOI "{D/a7]lC  
     +S(# 7  
    :wIA.1bK}  
    2) 双击SOI，进入其编辑窗口，点击加载(Load) h76j|1gI  
     .-rz30xT  
    %MHL@Nn>e  
    3) 导入取样光学界面(Sampled Interface) EZB0qZIp  
    ^vd$j-kjTP  
    4) 点击编辑(Edit)，进入取样光学界面编辑窗口，导入加工数据 G=17]>U  
     *P*~CHx>  
    iw,uwh|L  
    *>=tmW;%  
    /r~2KZE  
    %;QK5L   
    5) 打开文件夹中的.xml文件，导入加工文件 (]'wQ4iQ  
    8m iJQIq  
    f<bB= 9J  
    6) 导入完成，观察3D视图 *g+ ZXB  
     \UK}B  
    u/j\pDl.  
    2: gh q  
    wL),/i&<  
    QQ：2987619807
     
    回复
    举报
    分享到
    离线wx349643041
    实习生
    发帖
    10
    光币
    1
    光券
    0
    只看该作者 1楼 发表于: 2022-06-08
    谢谢指导 3\m !  
    回复
    举报
    发帖 回复
    返回列表