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摘要 MuFU?3ovG* 7+D'W7Yx 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 M k'n~.mb 0'V- PBAz`y2 建模任务 j?f,~Y<k s!j(nUd/ ~7ATt8T 结果 /SPAJHh \[IdR^<YM 7uv/@(J"$ 结果 0'\FrG nIT ^' FQ9csUjpB 结果 XD+cs.{5 I?> - PFDWC3< 文件信息 YzhN |!;!k W3o}.|] xPfnyAo?%z
QQ:2987619807
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