-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-09-29
- 在线时间1866小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 D=sc41] _O,ZeES 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 +*{5ORq= ;OJ0}\*iP8 JsEEAM:w 建模任务 _:p_#3s$ 9:w,@Phe .
\0=1P: 结果 I8]NY !'cW X3O$Sd(D SY)$2RC+} 结果 Iw7r}G Hll}8d6[ BIf].RY 结果 Y(Ezw !a 2I7` NB+O; 文件信息 swL|Ff`$ VDY1F_Fk HWOH8q{f!
QQ:2987619807
|