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摘要 q&?hwX
Z7 NCzabl 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 G~u$BV' <<gW`KF
^q& Rl\ 建模任务 iumwhb bw/mF5AsW `~lG5| 结果 tQT<1Q02i 4:O.x#p z!b:|*m]w 结果 UfO='&U^ <1lB[:@%U
ac@\\2srV 结果 m;xa}b{(i FcZ)^RQ4G bYem0hzOe 文件信息 V(LfFO{^>? wi.E$RckD +.^pAz U}R
QQ:2987619807
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