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摘要 VK]U* V1 4[@YF@_=M 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 nV7Vc; Cp(2]Eb u30D`sky 建模任务 g/JF(nkP kFwFPK%B 1'\QD`M9^ 结果 J _;H +ZM,E8 z'"7zLQ 结果 tLWw<)t Q0Ft.b VwE4:/7YN 结果 0mujf d(o=)!p l P3|h* 文件信息 X n$ZA- 7bzm5w@v +ODua@ULFB
QQ:2987619807
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