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摘要 @*_#zU#g 6
*Q5.g 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 BNaZD<< `&0?e- ,riwxl5*E/ 建模任务 h2,AcM |a'Q^aT ,Hp9Gkm8I/ 结果 Ya=QN< 9E
(>mN R?X9U.AcW 结果 PqvwM2}4 9:@os0^O ?u8+F 结果 B&L{/.v_z\ TcRnjsY$ ^hbh|Du 文件信息 }rGDM 4e*0kItC <5L!.Ci
QQ:2987619807
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