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摘要 oU/CXz?H @J J,$? 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 SN
w3xO!;& k?(x}IZdG /S4$qr cM 建模任务 80qSPitj E=N44[`.G XLwmXi 结果 5:3%RTLG -+1_ 1! -M]NdgI 结果 %:61@< l#40VHa?S :|j,x7&/{ 结果 w[`2t{^j "J51\8G@@ -1\*}m%1e 文件信息 LjZvWts? "9mVBa|Q n*%o!=
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