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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 )^+$5OR\c  
    ENzeVtw0  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 9Ba<'wk/>"  
    Vi_|m?E  
    @Q!j7I  
    \m!."~%  
    建模任务 ~^*tIIOX  
    O 7sn>uO  
    2<|5zF  
    概观 4J1Q])G9  
    ![V- e  
    ~Zm(p*\T  
    光线追迹仿真 :O%O``xT  
    OA0\b_  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 4E)[<%  
    Q~kwUZ  
    •点击Go！ `ijX9c  
    •获得3D光线追迹结果。 ($TxVFNT  
    oSoG&4  
     ;`+,gVrp  
    I"1\R8 R  
    光线追迹仿真 T Bco  
    ^5+-7+-S  
    T9^i#8-^  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ')+EW" e  
    •单击Go！ ?8 F7BS4oQ  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     mx yT==E  
    1"k@O)?JP  
    pK`rm"6G  
    pqK3u)  
    场追迹仿真 *)1,W+A5L  
    k <qQ+\X  
    ^:#%TCJ  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ol\IT9Zb~  
    •单击Go！     .H&;pOf  
    LtQy(F%8/  
    O\w%E@9Fh  
    mR^D55k  
    场追迹结果（摄像机探测器） [I9d  
     -~q]0>  
    /iK )tl|X  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 uP$K{ )  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 -h_v(s2  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 +uA<g`4  
    pV!(#45~W  
    k[p  
     =aCv Xa&,  
    场追迹结果（电磁场探测器）  0c{N)  
    $I9zJ"*  
    rtpjx%  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。      xOT3>$  
    r0sd_@Oj  
    t^'1Ebg  
    文件信息 dw-r}Qioe  
    mKg~8q 3  
     !>tXib]:  
    S92Dvw?  
     ObCwWj^qO  
    QQ：2987619807 r?Vob}'Pt]  
     
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