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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 eQ9{J9)?  
    EkWe6m  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 E3NYUHfZ  
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    建模任务 },[S9I`p  
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    概观 A[+op'>k  
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    光线追迹仿真 K"-N:OV  
    ,u~\$ Az6  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 y<3v/ ,Y  
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    •点击Go！ l\$_t2U  
    •获得3D光线追迹结果。 {fIH9+v  
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    光线追迹仿真 u$<FKp;I  
    DgOoEHy[  
    &[RC4^;\V  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Kau*e8  
    •单击Go！ m{+lG*  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     .=^h@C*   
    Wuc,Cjm9(!  
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    mjs*Z{_F^  
    场追迹仿真 >(%im :_  
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    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 | G%MiYd  
    •单击Go！     $I1p"6  
    kAy.o  
    1egryp  
    .iew5.eB+  
    场追迹结果（摄像机探测器） ,FBF;zED  
     tQ2*kE  
    Z$WT ~V  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 _MMz x2}  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 $T3/*xN  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 J anLJe)  
    +[~\\X  
    vO4 &ZQ>6  
     by8d18:it  
    场追迹结果（电磁场探测器） B8a!"AQ~5  
    EidIi"sr  
    @ju-cv+  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     o_\b{<^I  
    )(DV~1r=  
    vBM\W%T|d  
    文件信息 `L9o !OsQ  
    R9=,T0Y p  
     ={feN L  
    dm,bZHo  
     5l)p5Bb48c  
    QQ：2987619807 vZ|-VvG  
     
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