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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 n$:IVX"2b  
    U'*t~x <  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ^W7X(LQ*+  
    x^*1gv $o  
    /xJqJ_70X  
    }!i` 0p  
    建模任务 gf+d!c(/  
    vJ`.iRU|  
    c '\SfW<  
    概观 Ac|5. ?|N  
    Xes|[*Y!V  
    D?M!ra  
    光线追迹仿真 [= "r<W0  
    p#KW$OQ]8  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 gLsU:aeCT  
    Q7bq  
    •点击Go！ HvxJj+X9  
    •获得3D光线追迹结果。 g-vg6@6  
    $t-n'Qh^2  
     (3dPLp:K  
    ueG|*[  
    光线追迹仿真 `8\Ja$ =  
    *U l*%!?D  
    [4J6 iF  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 bY~@}gC**@  
    •单击Go！ OU7 %V)X5  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     8p1ziz`4>$  
    ZlKw_Sq:  
    FP"$tt(  
    A4mSJ6K]  
    场追迹仿真 y/c%+ Ca/  
    Ov82ibp_1  
    rp7W }P+uU  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 XUV!C 7  
    •单击Go！     gBk5wk_j|  
    <f~Fl^^8  
    (ozb%a#B  
    u2(eaP8d  
    场追迹结果（摄像机探测器） `3q;~ 9  
     T{vR,  
    <EO<x D=:  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 #:ns64|  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ]|:uU  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 =sOo:s  
    @oe\"vz  
    9j|gdfb%ml  
     Cpx+qQt0  
    场追迹结果（电磁场探测器） q\9d6u=Gm  
    AN9[G  
    'q%%m/,VPQ  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     Cef:tdk7  
    8rbG*6  
    g\M5:Qm  
    文件信息 ")lw9t`  
    b*,3< 9  
     ,7d|O}B  
    l*7?Y7FK  
     W$?e<@  
    QQ：2987619807 #^mqQRpgq  
     
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