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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 \wZ 4enm  
    S_eD1iY2-  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Rb/|ae  
    8SZZ_tS3r  
    ^;8dl.;  
    PF+F^;C  
    建模任务 4h*c{do  
    14~#k%zO(  
    b6%[?k  
    概观 K#%@4]jO3  
    at|.Q*&a#  
    m|uVmg!*  
    光线追迹仿真 2y"L&3W  
    ;W 3#q:  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 <lkt'iT=Sz  
    &gLXS1O  
    •点击Go！ `w8Ejm?n  
    •获得3D光线追迹结果。 w,T-vf  
    c)j60y   
     49o/S2b4z  
    <`V_H~Z  
    光线追迹仿真 $x/VO\Z{-  
    6:Hd`  
    $RA+StF!]  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 n-he|u  
    •单击Go！ !#Pr'm/,mu  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     1Y:JGon  
    G_QV'zQ  
    xeB-fy)5+  
    ]>/oo=E  
    场追迹仿真 Fy*t[>  
    6fm oI K{  
    :@b=;  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 h1~/zM/`  
    •单击Go！     l3Qt_I)L  
    !ra,HkU'  
    &s8vmUt  
    03n+kh  
    场追迹结果（摄像机探测器） g8R@ol0  
     \IhHbcF`d  
    +<T361eyY  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 B)x^S >  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 F Jp<J  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 en"\2+{Cg  
    .wO-2h{Q  
    6{w'q&LYcE  
     jA? 7>"|  
    场追迹结果（电磁场探测器） Ub{7Xk n  
    _oHxpeM  
    2U`!0~pod  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     mhMTn*9  
    GP(nb,  
    '};mBW4z  
    文件信息 k5|GN Y6a  
    qL?$u07<9'  
     Cb6K!5[q]  
    Gb4p "3  
     L0R$T=~%)  
    QQ：2987619807 YIs_.CTi  
     
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