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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 N5 $c]E  
    R58-wUto  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 _cu:aktf2  
    ,Jd ',>3  
    9'r:~ O  
    wQRZ"ri,  
    建模任务 s+Q~~]HJM  
    Dgy]ae(Hb3  
    K# Jk _"W  
    概观 s>^dxF!+  
    / z}~zO  
    clk[/'1  
    光线追迹仿真 1bH;!J  
    uJ6DO#d`P  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 aXL{TD:]  
    sVl-N&/  
    •点击Go！ $]8h $  
    •获得3D光线追迹结果。 *W kIq>  
    i F+vl]  
     O9r>E3-q  
    J&T.(  
    光线追迹仿真 0@EwM  
    u?+Kkkk  
    c_V;DcZ  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 eGX %KT"O  
    •单击Go！ I}t#%/'YA  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     7[.6axL  
    k2AJXw  
    $H-!j%hV  
    [/X4"D-uOK  
    场追迹仿真 AGbhJ=tB  
    4fKC6UR  
    "70WUx(\t  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Jm42b4  
    •单击Go！     El@(mOu|  
    =" g*\s?r  
    YJo["Q  
    kSDZZx  
    场追迹结果（摄像机探测器） _N@ro  
     D#o}cC.  
    0q'w8]m  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 DS)RX.k_#  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 o0pII )v  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 [B|MlrZ  
    EbdfV-E  
    cra+T+|>Kc  
     ma((2My'H  
    场追迹结果（电磁场探测器） tuhA 9}E  
    [AW" D3  
    FD8N"p  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     /jRRf"B  
    *;Ed*ibf  
    B~_d^`  
    文件信息 t8dm)s[r8  
    |P%DkM*X  
     1[yq0^\]M[  
    X3V'Cy/sy  
     xa pq*oj  
    QQ：2987619807 :Cp'm'omb  
     
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