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摘要 -""(>$b2 " c+$GS 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 &gcZ4gpH QCO,f ]3~u @6 uU=!e&3 建模任务 S6Y:Z0 5+UNLvsZ _*Ej3=u 概观 -us:!p1T W#2} EX 10xza=a 光线追迹仿真 u4$R ZTC /D964VR1M\ •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 q:=jv6T# B$qTH5)W •点击Go! A0OA7m:~4 •获得3D光线追迹结果。 bd H+M?k }X. Fm'`
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"yt}"| rBOH9L 光线追迹仿真 - ,?LS w }rUAYr~V Z CY.4 >, •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 qWf[X' •单击Go! (\o4 c0UzK •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 _l+C0lQl= eL.WP`Lz AD+OQLG]`
n(|rs 场追迹仿真 o2cc3`*8d ,U)&ny Kv)} •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 Uf
MQ?(, •单击Go! *Ms&WYN- !cdY`f6x QN|=/c<U Mdh]qKw
场追迹结果(摄像机探测器) mn\A)RQ I@\D
tQZ R+_!FnOJ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 bZr,jLEf •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 |3 Iug Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 v+}${h9 XE&h&v=>
wS+!>Q_]w /DP0K
@% 场追迹结果(电磁场探测器) g*`xEb=' 5W$Jxuyqj i+pQ 7wx •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 BO7XN; Z/!awf>
tCm]1ZgRW 文件信息 ,p /{!BX ,LP^v'[V7
y?P`vHf e6bh,BwgQq E m^Dg9 QQ:2987619807 |)C*i
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