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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 EsA)o 5  
    /15e-(Zz/  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 y8T%g(  
    <0,c{e  
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    '~?\NeO=  
    建模任务 d! 0p^!3  
    JTu^p]os?  
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    概观 Hm=!;xAFX  
    V:?exJg9  
    ~9.0:Fm<  
    光线追迹仿真 n6T@A;_g  
    zcCX;N  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 %%["&  
    `TvpKS5.Y  
    •点击Go! sdq8wn  
    •获得3D光线追迹结果。 p|Po##E}g^  
    JTuU}nm+  
    E? > ERO3  
     uY]nqb  
    光线追迹仿真 . IBy'  
    yyZV/ x~  
    BM+v,hGY  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 O)g\/uRy  
    •单击Go! tuzw% =Ey  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    ,k}-I65M*t  
    Ew>E]Ys  
    Kj| l]'  
    \v(}@zcB|  
    场追迹仿真 gkDyWZG B  
    {j%'EJ5  
    ?Rlo<f:Mf  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 -ea":}/  
    •单击Go!
    ~Rx:X4|H  
    |l)z^V!  
    E/MD]ox  
    dTN[E6#R  
    场追迹结果(摄像机探测器) Gh3b*O_,  
    j2A Z.s  
    ttlFb]zZh  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 +C4UM9  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 #*QnO\.  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 NRU&GCVwu  
    JQCQpn/  
    yu ~Rk  
    hV,)u3  
    场追迹结果(电磁场探测器) }GV5':W@WG  
    ,,_$r7H`  
    R-Y07A  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    S>AM?  
    EqW/Wxv7b  
    ygiZ~v4P/  
    文件信息 B}n tD  
    G.CkceWRn  
    d\% |!ix  
    pY75S5h:  
    M^f+R'Q3  
    QQ:2987619807 ifyWhS++  
     
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