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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 -""(>$b 2  
    "c+$GS  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 & gcZ4 gpH  
    Q CO,f  
    ]3~ u @6  
     uU=!e&3  
    建模任务 S6Y:Z0  
    5+UNLvsZ  
    _*E j3=u  
    概观 -us:!p1T  
    W#2} EX  
    10xza=a  
    光线追迹仿真 u4$R ZTC  
    /D964VR1M\  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 q:=jv6T#  
    B$qTH5)W  
    •点击Go! A0OA7m:~4  
    •获得3D光线追迹结果。 bd H+M?k  
    }X. Fm'`  
    %/ "yt}"|  
    rBOH9L  
    光线追迹仿真 - ,?LS w  
    }rUAYr~VZ  
    CY.4>,  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 qWf[X'  
    •单击Go! (\o4 c0UzK  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    _l+C0lQl=  
    eL.WP`Lz  
    AD+OQLG]`  
     n (|rs  
    场追迹仿真 o2cc3`*8d  
    ,U)&ny  
    Kv)}  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 Uf MQ?(,  
    •单击Go!
    *Ms&WYN-  
    !c dY`f6x  
    QN|=/c<U  
    Mdh]qKw  
    场追迹结果(摄像机探测器) mn\A)R Q  
    I@\D tQZ  
    R+_!FnOJ  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 bZr,jLEf  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 |3 Iug  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 v+}${h9  
    XE&h&v=>  
    wS+!>Q_]w  
    / DP0K @%  
    场追迹结果(电磁场探测器) g*`xEb= '  
    5W$Jxuyqj  
    i+pQ 7wx  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    BO7XN;  
    Z/!awf>  
    tCm]1ZgRW  
    文件信息 ,p /{!BX  
    ,LP^v'[V7  
    y?P`vHf  
    e6bh,BwgQq  
    E m^Dg9  
    QQ:2987619807 |)C *i  
     
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