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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 (xfh 9=.  
    i;rcg d  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 MaPOmS8?  
    -"NK"nb  
    @U3:9~Q  
    E!'6v DVC:  
    建模任务 ^@3,/dH1 t  
    b'``0OB)  
    |1GOm=GNK  
    概观 *`} !{ Mb  
    FDFwx|  
    -woFKAy`  
    光线追迹仿真 zYrJ Hn#vB  
    o$eo\X?J?  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 =A!r ZG  
    ]#Cc7wa  
    •点击Go！ ),CKuq>  
    •获得3D光线追迹结果。 [YP{%1*RM  
    55 '  
     U shIQh  
    DK eB%k  
    光线追迹仿真 4Q/{lqG  
    l$1NI#&  
    C6EGM/m8  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ,{mv6?_  
    •单击Go！ D Qz+t  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     p^|6 /b  
     IMr#5  
    .%y'q!?  
    pHuR_U5*?  
    场追迹仿真 Cdy,8*   
    9/! 1J  
    m~ 5"q%;  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 5JhvYsf3_  
    •单击Go！     JO*/UC>"  
    S2DG=hi`GK  
    ]=VRct "  
    ]Zt]wnL+  
    场追迹结果（摄像机探测器） WQ 2{`'z  
     aW*k,\:e  
    ~;?<OOt|wG  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 xL1Li]fM!'  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 }NoP(&ebz*  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 VP>*J`'H  
    ,cL;,YN  
    2,dWD<h  
     (:qc[,m  
    场追迹结果（电磁场探测器） =w}JAEE|(i  
    Pw| h`[h  
    L-}J=n\  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     J,:&U wkv  
    Bcarx<P-p  
    t[J=8rhER  
    文件信息 X3a9-  
    9sT5l"?g  
     (5 @H  
    Y*$>d/E  
     ka!v(j{E  
    QQ：2987619807 5e$1KN`  
     
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