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摘要 EsA)o
5 /15e-(Zz/ 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 y8T%g( <0,c{e
<^j,jX '~?\NeO= 建模任务 d!0p^!3 JTu^p]os? zZ3Ko3L%g_ 概观 Hm=!;xAFX V:?exJg9 ~9.0:Fm< 光线追迹仿真 n6T@A;_g zcCX;N •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 %%[ "& `TvpKS5.Y •点击Go! sdq8wn •获得3D光线追迹结果。 p|Po##E}g^ JTuU}nm+
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ERO3 uY]nqb 光线追迹仿真 .
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x~ BM+v,hGY •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 O)g\/uRy •单击Go! tuzw%=Ey •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 ,k}-I65M*t Ew>E]Ys Kj|l]' \v(}@zcB| 场追迹仿真 gkDyWZG B {j%'EJ5 ?Rlo<f:Mf •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 -ea":}/ •单击Go! ~Rx:X4|H |l)z^V! E/MD]ox dTN[E6#R 场追迹结果(摄像机探测器) Gh3b*O_, j2A
Z.s ttlFb]zZh •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 +C4UM9 •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 #*QnO\. Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 NRU&GCVwu
JQCQpn/
yu ~Rk hV,)u3 场追迹结果(电磁场探测器) }GV5':W@WG ,,_$r7H` R-Y07A •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 S>AM? EqW/Wxv7b
ygiZ~v4P/ 文件信息 B}n
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