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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 @$e!|.{1q  
    R cz;|h8  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 RV&=B%w+  
    KA"D2j9wn  
    |z5`h  
    9"jhS0M  
    建模任务 *k(|r>  
    X}Oo5SNgff  
    V>Zw" #Q  
    概观 T&/ ]|4  
    YpGG^;M$  
    ~zcHpxO^W  
    光线追迹仿真 A<+veqb4  
    aj$#8l |zu  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 '5*8'.4Sy  
    E\X:VQ9  
    •点击Go！ G<8d=}  
    •获得3D光线追迹结果。 5Y#W$Fx($R  
    h"/y$  
     -9f> rH\3  
    .5'_5>tkv  
    光线追迹仿真 qZcRK9l]F1  
    @_+B'<2  
    Q#Vg5H4  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 HqZ3]  
    •单击Go！ !n?8'eqWru  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     Pr!H>dH8o  
    'on8r*  
    '0\v[f{K3G  
    \QZ~w_  
    场追迹仿真 =MsQ=:ZV  
    lV*dQwa?i  
    .}O _5b(  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Cd"cU~HAB  
    •单击Go！     >7[o=!^:4  
    soTmKqj E  
    lo!.%PP|  
    BSMM3jXb  
    场追迹结果（摄像机探测器） 5g$]ou  
     }1sFddGVt  
    Z#1 'STg  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 !=Hu?F p  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 .wb[cCUQ  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 wUj#ACqB  
    XuY#EJbZ  
    SdJGhU  
     RdirEH *H  
    场追迹结果（电磁场探测器） ;Sqn w  
    GjfPba4>  
    L2j7w006  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     l, [cR?v  
    0[O."9  
    DMcH, _(  
    文件信息 u@{z xYn  
    FD+y?UF  
     y;r{0lTB  
    mk'$ |2O  
     [ljC S  
    QQ：2987619807 ]c=nkS  
     
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