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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 SKL4U5D{  
    #c^]p/  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 iWf+wC|  
    1'E=R0`pA  
    a|7C6#iz$  
    j#5a&Z  
    建模任务 i-OD"5a`  
    4H-eFs%5  
    .*-8rOcc  
    概观 [Km{6L&  
    L7C ;l,ot  
    2<EV iP9  
    光线追迹仿真 "[_j8,t`  
    'v6@5t19j  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 1&=)Bxg4  
    IgX &aW  
    •点击Go！ q`c!!Lg  
    •获得3D光线追迹结果。 5~[7|Y  
    U#[&(  
     ^5sA*%T4  
    0Qt!w(  
    光线追迹仿真 pWV_KS  
    Fc1!i8vv  
    j&d5tgLB  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 H -Mb:4  
    •单击Go！ fvC,P#z'|  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ,eyh%k*hz  
    F06o-xH=  
    v76Gwu$ d  
    ^^N|:80  
    场追迹仿真 `}Zqmfs  
    TJ"-cWpO1  
    lx:$EJ  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 GmH DG-  
    •单击Go！     Z3S+")^  
    Z}+}X|  
    dR S:S_  
    _i05' _  
    场追迹结果（摄像机探测器） ^9Pr`\   
     w|9 >4  
    1+FVM\<&  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 6gV*G  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Dkz/hg:q  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 PK[mf\G\  
    su%(!XJQpg  
    B0@ Tz39=  
     >w S'z]T9  
    场追迹结果（电磁场探测器） W8d-4')|  
    eY<<Hld  
    (7Z+De?  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     !D??Y^6bI  
     <mn[-  
    _,J+b R+b  
    文件信息 EF`}*7)  
    FzInIif  
     NrqJf-ldo  
    +{:uPY#1  
     53i]Q;k[  
    QQ：2987619807 }DhqzKl  
     
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