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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 ,a N8`M  
    xWY%-CWY.  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 K{]!hm,[3  
    Z J:h]  
    ?v]EXV3  
    B~/:["zTh&  
    建模任务 beLT4~Z=  
    MHs2UN  
    dgLE/r?  
    概观 _]SV@q^  
    ;\P\0pI50  
    5iE-$,7#L  
    光线追迹仿真 efj[7K.h  
    }O_kbPNw  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 \,YF['Qq  
    2s(c#$JVS  
    •点击Go！ 6#sd"JvtQ  
    •获得3D光线追迹结果。 s?=v@|vz)  
    ;pK/t=$  
     D4e*Wwk  
    W\JbX<mQ  
    光线追迹仿真 |9YY8oT.  
    -O.q$D=as  
    ^_6.*Mvx  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 \'z&7;px  
    •单击Go！ ('H[[YODh  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     jV83%%e  
    H Aq  
    ao2NwH##  
    clE_a?  
    场追迹仿真 #bxUI{*J  
    > /,7j:X  
    z8HOig?  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 zGtWyXP  
    •单击Go！     QU4/hS;Ux  
    wc&%icF*cr  
    3q{op9_T7  
    2=P.$Kx  
    场追迹结果（摄像机探测器） ~RlsgtX"  
     :bJT2o[  
    +;Yd<~!c Z  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 y~,mIM$[@  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 (o+(YV^  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 xq#YBi,  
    N~c Y~a  
    5u(,g1s}UZ  
     *V@>E2@  
    场追迹结果（电磁场探测器） )Sz2D[@n  
    f{s}[p~  
     y5"b(nb  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     azEN_oUV  
    >_R,^iH"  
    ;ps 0wswX  
    文件信息 (jR7D"I  
    SSoD}N  
     @xKfqKoqg  
    Y9YE:s  
     nT(Lh/  
    QQ：2987619807 *@2+$fgz  
     
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