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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 mAk)9`f/  
    g>/,},jv[x  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 UXDd8OJL  
    Rl.3p<sX  
    zK k;&y|{  
    ?bmP<(N5/  
    建模任务 K>lA6i7?  
    Y71io^td~j  
    ,Tvk&<!0  
    概观 $ze%! C  
    dF5EIPl;J  
    a7%5Qg9B;  
    光线追迹仿真 Br`Xw^S  
    eqZ V/a  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 A%k@75V@  
    8JJqEkQ  
    •点击Go！ pLDseEr<  
    •获得3D光线追迹结果。 g9<*+fV 2$  
    1bYc^(z0  
     ['tGc{4  
    ?`u Y*+u  
    光线追迹仿真 VI74{='=  
    rNO'0Ck=  
    QPg QM6  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 =v:vc~G6  
    •单击Go！ vfK^^S  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     SBzJQt@Hs  
    [_G_Wl'#8  
    -,uTAk0+@  
    O B_g:T  
    场追迹仿真 vCb3Ra~L`  
    l"W9uS;\T  
    \5_+6  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 #@w8wCj  
    •单击Go！     3yszf Wr  
    "|{ NRIE  
    FWq+'Gk SV  
    WUvrC  
    场追迹结果（摄像机探测器） ~4"adOv  
     M/EEoK^K@  
    X#EMmB!  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Y}&//S A  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 =kp #v  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 cV\(Z6u  
    ZgP=maQk  
    Aq yR+  
     8`v+yHjG  
    场追迹结果（电磁场探测器） MRR5j;4GK  
    E2 Q[  
    FIL?nkYEO  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     GbUw:I  
    R9A8)dDz  
    Nj$3Ig"l  
    文件信息 jVC`38|  
    q_bE?j{  
     wN>k&J  
    DzydS=`w  
     {F6>XuS=u  
    QQ：2987619807 m2F2  
     
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