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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 E:!qnc L:  
    N51g<K  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 cz{5-;$9Z  
    [H-r0Ah  
    h#EksX  
    J/-&Fa\(  
    建模任务 B'@a36  
    j$%uip{  
    :<"b"{X"  
    概观 x{|`q9V~ N  
    {(00,6M)i  
    K0YUN^St  
    光线追迹仿真 Y<h [5  
    c;M&;'#x  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 < .\2 Ec  
    S|_}0  
    •点击Go！ m h5ozv$  
    •获得3D光线追迹结果。 zfexaf!  
    `8D)j>Yh~  
     ` 6'dhB  
    C{5^UCJkg  
    光线追迹仿真 )|Il@unp/  
    3lW7auH4Y{  
    M8,_E\*  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 eG F{.]  
    •单击Go！ |K7zN\ Wq  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     <* 4'H  
    ,'FdUq)i  
    p%?VW  
    }}cS-p  
    场追迹仿真 3%J7_e'  
    Gv$}>YJ  
    0</]Jo%  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 CSBk  
    •单击Go！     6q8b>LG|  
    >axf_k  
    / }tMb  
    bVbh| AA  
    场追迹结果（摄像机探测器） n>5/y c"/q  
     j/h>G,>T=  
    "=/YPw^0  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ivi,/~L  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 -$Ad#Eu]M  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 :VB{@ED  
    ,[j'OyR  
    O0i)Iu(J7;  
     4?vTuZ/ M  
    场追迹结果（电磁场探测器） ]-7$wVQ<  
    7YLG<G!v)]  
    Gfbeh %  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     Cxt_QyL?  
    c-ud $0)c  
    zdh&,!] F6  
    文件信息 ;t_'87h$y  
    ~|>q)4is6a  
     `1Cg)\&[e0  
    = ;!$Qw4  
     {)c2#h  
    QQ：2987619807 iFi6,V*PRt  
     
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