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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 ^*A/92!yF  
    N TXT0:  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 }n 6BI}n  
    Xu3^tH-b<  
    XT{1!I(  
    9Lk.\.  
    建模任务 eQcy'GA06  
    >G' NI?$  
    <^R\N#  
    概观 hrZ~7 0r  
    da\K>An>  
    LN?T$H  
    光线追迹仿真 ;Zj Qy,H%  
    2s-f?WetbP  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 uFSgjWJ#~  
    ,U>g LTS  
    •点击Go！ )K@ 20Q+0K  
    •获得3D光线追迹结果。 >+u5%5-wr  
    Bf1GHn Xv  
     v6s8 p  
    =_%:9FnQ0  
    光线追迹仿真 K_]LK  
    Ip8 Ap$  
    &_" 3~:N8k  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 l#:=zu  
    •单击Go！ X%`8h _  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     WRVKh  
    :U ?P~HI  
    (`3 Bi]7  
    X?>S24I"9  
    场追迹仿真 {nryAXK  
    }y=7r!{@  
    rRT9)wDa  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 S31 :}   
    •单击Go！     bn<&Xe  
    CFul_qZ/e  
    (d#?\  
    9!2KpuWji  
    场追迹结果（摄像机探测器） OMKEn!Wq  
     UY}lJHp0  
    hJFQ/(  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 O(&EnNm[2  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 qf)]!w U9  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 g^B 6N F  
    71K6] ~<  
    $|(roC(  
     .]r[0U  
    场追迹结果（电磁场探测器） ^o,@9GT s  
    C,tlp  
    D3XQ>T[*q  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     XHN?pVZ7  
    ,wX/cUyZ  
    Fi7pq2  
    文件信息 c?q#?K aF  
    <LBMth  
     '?3Hy|}  
    4RTEXoXs  
     IH>+P]+3"3  
    QQ：2987619807 xFg=Tyq:  
     
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