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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 W&~\@j]!D  
    ^4/   
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 b~$8<\  
    ygK@\JHn  
    2# 72B  
    h;Hg/jv  
    建模任务 1.0:  
    8Z|A'M  
    Y`NwE  
    概观 7 D(Eo{ue  
    VLPPEV-u  
    CCHGd&\Z  
    光线追迹仿真 E3hXs6P  
    |)VNf .aJZ  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ayYl3  
    Ec9%RAxl  
    •点击Go！ lVv'_9yg  
    •获得3D光线追迹结果。 _-|/$ jZ  
    n'To:  
     ARUzEo gcf  
    _Z>n y&   
    光线追迹仿真 +~K) ~  
    y(ceEV  
    'yo-`nNFD  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 /IQ$[WR cx  
    •单击Go！ 0fGt7 "Q  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     |.KB  
    4wKQs&:  
    !J&UO/q.  
    (`&SV$m  
    场追迹仿真 |(<A)C  
    D&o ~4Qvc]  
    HvR5-?qQ  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ?o1QjDG  
    •单击Go！     A("\m>g$b  
    Cxd^i  
    uZM%F)  
    <a&w$Zc/  
    场追迹结果（摄像机探测器） 5O(U1 *  
     C{:U<q  
    5dX /<  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 {%_D> y  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 m\oxS;fxWi  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ekW#|  
    V%(T#_E/6  
    KVevvy)W  
     63(XCO  
    场追迹结果（电磁场探测器） ?bH`  
    5yyc 0UG  
    5)Z:J  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     O5MV&Zb(  
    )<%CI#s#  
    QFK'r\3 pU  
    文件信息 $O&N  
    #@' B\!<@=  
     DUSQh+C  
     1p K(tm  
     P2&0bNY  
    QQ：2987619807 mPF<2:)wv  
     
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