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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 xl,?Hh%#  
    N jA\*M9  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 .O4=[wE!U  
    Ac,bf 8C  
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    ,S3uY6,  
    建模任务 <,'^dR7,  
    WoMMAo~  
    6}mSA@4&  
    概观 sr.!EQ]  
    @v\jL+B+m  
    #fe zUU  
    光线追迹仿真 h3-dJgb  
    qQ<7+z<4KP  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 !:dhK  
    yH@2nAn  
    •点击Go！ qB=%8$J  
    •获得3D光线追迹结果。 =$%_asQJ  
    Q"{Q]IT  
     *7/MeE6)i  
    5NYYrA8,^  
    光线追迹仿真 v/C*?/ ~  
    8F`799[p  
    ez*O'U  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 kv3V|  
    •单击Go！ ~D Ta% J  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     a`QKN rA2  
    W#[3a4%m  
    ![@\p5-e  
    g(zoN0~  
    场追迹仿真 ,HO@bCK  
    ,`l8KRd  
    RjQdlr6*  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 !p"Ijz5  
    •单击Go！     ]a=Bc~g91  
    fyt`$y_E[  
    0f|nI8,z  
    sr,8Qd 0M  
    场追迹结果（摄像机探测器） W(UrG]J*l  
     DC%H(2  
    2JRX ;s~  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 i/WiSwh:  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 P&]PJt5  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 f<~S0[H  
    *+'l|VaVq\  
    ;*EPAC+  
     &8wluOs/5  
    场追迹结果（电磁场探测器） n*fsdo~  
    Gj([S17\0:  
    ;;l-E>X0  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     rY&Y58./  
    s;-%Dfn  
    |#!P!p}  
    文件信息 7Cj6Kw5k  
    VN9C@ ;'$  
     cH%#qE3  
    -{XXU)Z  
     KFMEY\6\h  
    QQ：2987619807 A `n:q;my  
     
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