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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光券
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 \Mb(6~nC  
    M!gBmQZ1  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 xQJIM.  
    u 1ZJHry  
    >5;N64]!)  
    A Jyq>0p  
    建模任务 Zx+cvQ  
    'y9*uT~  
    MZ|\S/  
    概观 j z~[5m}J  
    AkrTfi4hC  
    5`{vE4A]q  
    光线追迹仿真 '{[!j6wt\  
    lC#RNjDp/~  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 4:vTxNs&S  
    n%/i:Whs  
    •点击Go！ 6&89~W{  
    •获得3D光线追迹结果。 A&?}w_|9  
    i&`!|X-=R  
     3Y z]8`C  
    =m}TU)4.  
    光线追迹仿真 s^w\zzYb  
    4\M8BRuE  
    n]+.  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ?6i;)eIOI  
    •单击Go！ P##Z[$IJ3  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     rA,CQypo  
    0 y< k][  
    Sx8l<X  
    JO2xT#V  
    场追迹仿真 Is13:  
    @(-yrU  
    Z>F@n Tzb>  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 IX9K.f  
    •单击Go！     4O!E|/`wO  
    =7 VCtd/  
    3gpo %  
    2"@Ft()]  
    场追迹结果（摄像机探测器） /D[dO6.  
      ="\*h(  
    Fn!SGX~kx$  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 #vQ?  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ^'vIOq-1v  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 o/cr{>"N  
    I"1CgKYK^+  
    "tL2F*F"6X  
     $jG4pPG  
    场追迹结果（电磁场探测器） FI{AZb_'  
    cZ|lCy^  
    x=-0zV  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     IIxJqGN:  
    /7gi/uh~-(  
    ?E<c[*F05  
    文件信息 R:/ha(+  
    p<KIF>rf|  
     3B{[%#vO  
    !\;:36B#6  
     ,=|4:F9  
    QQ：2987619807 F$Q04Qw  
     
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