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摘要 q`P:PRgM v,;?+Ck 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 H<
j+-u4b a;K:~R+@, XebCl{HHp y_6HQ: 建模任务 G;e}z&6<k Y*Pr Ot?rsr 概观
!ZRV\31% X_lNnk DxlX- 光线追迹仿真 ]9' \<uR SZ_hG D 0 •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 QU t!fF@t DcOLK\ •点击Go! b}fH$.V@ •获得3D光线追迹结果。 '&9b*u";x( xInWcQ
^N]*Zf~N? &~i1 @\] 光线追迹仿真 R`c5-0A }^H_|;e1p M-NR!? 9 •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 f =Nm2(e •单击Go! 2,+H;Ypi! •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 (~jOtUyT Z1Wra-g 1n^xVk-G V|7 cdX#H 场追迹仿真 FEkx&9] \?j(U8mB> e*tOXXY1 •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 v[m>;Ubg& •单击Go! PYZ8@G H_{Yr+p ?g 3sv5\u ZR1EtvVG 场追迹结果(摄像机探测器) aa|xZ \|M z'* fIu/*PFPVY •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 K$4Ky&89
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 ){v nmJJ% Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 |K]tJi4fz R8HFyP
mz47lv1? ^Oo%`(D? 场追迹结果(电磁场探测器) `sSI; + ^W^%PJD| #(%6urd •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 J(0c#}d i]P]o)
7>#74oy 文件信息 #(OL!B ]c08`
Hg]r5Fe/c cG.4%Va@s_ 'Ag?#vB QQ:2987619807 DUaj]V{_^
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