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摘要 Qqb%^}Xx'u (1er?4 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 A9DFZZ0 "AMw o(Yi '5T:*Yh 8?EKF+.u| 建模任务 ],R\oMYy|P <R2SV=]Sq# }L{GwiDMDl 概观 @wAYhnxq n~w[ajC/ 4T)`%Oo<} 光线追迹仿真 DBvozTsF~ /!"sPtIh •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 V*%><r UY.o,I>s •点击Go! 9K&YHg:1 •获得3D光线追迹结果。 UAI'tRYN_ )&)tX.
%_5?/H@%3z m9D*I1 光线追迹仿真 @Y9tkJIt 9a1R"%Z _a?x)3\v •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 vHPsHy7y •单击Go! b|k(:b-G&. •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 pwVGe|h%, XK0lv8( sFgsEKs sC :.}6 场追迹仿真 ~ me/ve 1F2(MKOo! KlwBoC/{K •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 /(s N@kt •单击Go! vsq
|m5 vBY?3p,0p Qq.Ja%Zq d.U"lP/)D 场追迹结果(摄像机探测器) vhU
$GG8 -7I%^u KC<K*UHPAH •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 01%0u8U •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 >dDcm Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 skt9mU W{}M${6&
E|VTbEYG j2hp*C'^ 场追迹结果(电磁场探测器) ~Bt>Y gPpk0LZi
7<5=fYbr •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 B-$ps=G+z Fdx4jc13w
_#<7s`i 文件信息 *>lXCx +5Y;JL<%/
91FVe 1HRcEzA Gx%f&H~Z^ QQ:2987619807 Oj7).U0;#
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