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摘要 {%v-( dx*qb 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 vP@v.6gS, h_d +$W5 22P$ ~ch {yU+)t(. 建模任务 I:V0Xxz5t 1{Mcs%W;w5 )\;Z4x;]U 概观 BElJB&I /%aiEhL # {fTgq 光线追迹仿真 gnp~OVDqfL hd V1nS$ •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 e}VBRvr t2" (2 •点击Go! Q zZ;Ob]' •获得3D光线追迹结果。 ,vqr<H9e XMB[h
t&Os;x?To? R1:k23{ 光线追迹仿真 >>Ts?? 2jsw"aHW o'~5pS(wq •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 gG%V 9eOQ •单击Go! Ch()P.n? •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 $GQ`clj< [ao
U5;7 K-<^$VWh (C]
SH\ 场追迹仿真 AB Xl !|q<E0@w\ zOEY6lAwI •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 SjjIr ^ •单击Go! 1pv}]&X %u^JpC{E MC((M,3L vkS)E0s 场追迹结果(摄像机探测器) rdnno jJ4qR:] {k.MS-q •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Ed0I WPx •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 \7MHaQvS Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 =ItkFjhBc *?+V65~dW
c(co\A.]:6 Bx"7%[ 场追迹结果(电磁场探测器) 5G0$ SYeadsvF 2>-S-;i •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 vB37M@wm fl
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!;6 文件信息 /MB{Pmk$R Zn,>]X
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