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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 7wnzef?)  
    e{O5y8,  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 W7 E-j+2  
    c%dy$mkqgK  
    pWp2{G^XB  
    vP2QAGk <  
    建模任务 !RD,:\5V  
    vOS0E^  
    &|4Uo5qS=Z  
    概观 E.3}a>f  
    ,+RO 5n  
    )X/Faje  
    光线追迹仿真 K_aN7?#.v`  
    mI0r,Z*+M  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ,W-0qN&%/  
    <j#EyGAV  
    •点击Go！ *J=ol  
    •获得3D光线追迹结果。 a< EC]-nw  
    ""d>f4,S  
     Y P c<  
    SDwSlwf  
    光线追迹仿真 z,)sS<t(  
    $yAfs3/%)s  
    ihWz/qx&q  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 \_E.%K  
    •单击Go！ Wd AGZUp  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     &>{>k<z  
    4:']'E  
    .7FI%  
    dWy1=UQfP  
    场追迹仿真 4QNR_w  
    MDP MOA  
    3Y-v1.^j  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 E2|iAT+=.  
    •单击Go！     G,-OH-M!  
    }D+8K  
    xW =$j|  
    r<v%Zp  
    场追迹结果（摄像机探测器） Ji[g@#  
     HqBPY[;s  
    ][nUPl  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 NO^t/(Z  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 u2]g1XjeG  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 DZRxp,  
    % eRwH >  
    '.yWL  
     MF}Lv1/[-J  
    场追迹结果（电磁场探测器） Ba0D"2CgY  
    kVnyX@  
    |vz;bJG  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     sjgR \`AU  
    _kN%6~+U  
    &o@5%Rz2/  
    文件信息 i(;-n_:, `  
    >;v0zE  
     HDyZzjgG  
    "v!HKnDT  
     gc3 U/ jM  
    QQ：2987619807 ~q(C j"7  
     
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