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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 {`Z)'G\`  
    _F E F+I  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 M3kE91  
    x6tY _lzJ  
    cf'Z#NfQ  
    A-$BB=Ot  
    建模任务 2ZeL  
    5?MvO]_  
    k:xV[9ev:  
    概观 +s}28U!  
    B=Os?'2[  
    }tPl?P'`  
    光线追迹仿真 ](D [T  
    Yw<:I&  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 Wg1WY}zG  
    )f rtvN7  
    •点击Go! U\{Z{F%8  
    •获得3D光线追迹结果。 { Se93o  
    ffVYlNQ7L  
    xWm'E2  
    8ic_|hfY  
    光线追迹仿真 mUbaR  
    bJD"&h5  
    =Yk$Q\c  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 ez>@'yhK  
    •单击Go! m}(DJ?qP  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    fZO /HzX  
    KWo)}m*6  
    4`F*] Ft  
    8Bvjj|~ (@  
    场追迹仿真 ^-_!:7TH]  
    $;1~JOZh  
    u4'Lm+&O  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 d\f 5\Y  
    •单击Go!
    D4wB &~U  
    K\q/JuDfc  
    eC-TZH@  
    "e"`Or  
    场追迹结果(摄像机探测器) ^ytd~iK8  
    F t}tIP7  
    j; C(:6#J  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Y>+D\|%Q  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 n_<]9  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 ^9nM)[/C?  
    o%.cQo=v*  
    rSk $]E]Z  
    "n:9JqPb  
    场追迹结果(电磁场探测器) 83a Rq&(R  
    b/EvcN8 }  
    `dK\VK^  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    M: 6 cma5  
    \Mi< ROp5  
    `6A"e Da  
    文件信息 82vx:*Ip!}  
    bCF63(0  
    LHz{*`22q  
    \WTg0b[  
    weOMYJO;8  
    QQ:2987619807 ZttL*KK  
     
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