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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 BqK(DH^9N  
    ]b?9zeT*'l  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 + kK  
    KJn!Ap  
    =@x`?oev  
    Q n)d2-<  
    建模任务 w*9br SK  
    1 T<+d5[C  
    K>:]Bx#F7  
    概观 5K%SL1N  
    PUJ2`iP1^3  
    I?#85l{>  
    光线追迹仿真 & WOiik  
    am1[9g8L  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 /UcV  
    K6JVg$  
    •点击Go！ @D^^_1~  
    •获得3D光线追迹结果。 ZFm`UXS  
    +avMX&%  
     ?4H#G)F  
    f_^1J  
    光线追迹仿真 `>(W"^  
    eDI= nSo  
    e>rRTN  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 EI~"L$?  
    •单击Go！ ^>x|z.  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     Yj|eji7y  
    3chPY4~A  
    lA(Q@yEW  
    }GMbBZ:nKK  
    场追迹仿真 ] Wy)   
    %.v{N6  
    asiov[o;  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 BaF!O5M  
    •单击Go！     &.13dq  
    j1q[2'  
    Gl %3XdU  
    '7Nr8D4L  
    场追迹结果（摄像机探测器） mMx ;yZ  
     8M*PML4r  
    d6{Gt"  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 O`Gs S{$sS  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 _mvxsG  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 n6d9 \  
    kv,%(en]  
    WL,&-*JAW  
     fA%z*\  
    场追迹结果（电磁场探测器） *_Z#O,  
    lE8&..~l$+  
    s`j~-P  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     _-!sBK+F  
    PP~rn fE  
    `i) 2nNJ"  
    文件信息 LH 3}d<{  
    &c(WE RW?-  
     u cwnA  
    mME 4 l  
     v[@c*wo  
    QQ：2987619807 N..j{FE  
     
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