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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 (<<eHf,@  
    kO9yei  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 4%]{46YnK  
    #".{i+3E  
    r%a$u%)oD  
    xGH%4J\  
    建模任务 ?IWLl  
    i&KbzOY  
    =kCpCpET  
    概观 mee-Qq:}  
    6D+k[oHZm  
    0- #ct1-  
    光线追迹仿真 tN0>5'/  
    m[7a~-3:J  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 g 08 `=g  
    C1nQZtF R  
    •点击Go! t +#Ss v8  
    •获得3D光线追迹结果。 WFdS#XfV  
    8~I>t9Q+  
    A} "*`y  
     K A<  
    光线追迹仿真 p;H1,E:Re#  
    -WYJ1B0v  
    Z*Y?"1ar  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 [Q*kom :  
    •单击Go! 1`uIjXr(  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    - Z|1@s&  
    H9nq.<;p  
    1jF}g`At  
    ywdNwNJ  
    场追迹仿真 }s|v-gRM{  
    )I <.DN&  
    T]myhNk  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 2sTyuH .  
    •单击Go!
    '(Bs<)(H  
    ?|L)!LYx  
    MaEh8*  
    b6i0_fOO  
    场追迹结果(摄像机探测器) _]4cY%s  
    FJ!>3V;}  
    b 9?w _  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 [ wROIvV  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 Gmwn:  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 (0][hdI~B  
    Ug"B/UUFd  
    B%t^QbU#\  
    vKW%l  
    场追迹结果(电磁场探测器) jv7zvp  
    Vr^wesT\Hx  
    'D-imLV<<  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    {P]l{W@li  
    3Q#VD)  
    j4l7Tx  
    文件信息 }Bb(wP^B.  
    MHbRG_zW  
    =:2V4H(F  
    AV'>  
    kz&)a>aA  
    QQ:2987619807 Uarb [4OZ  
     
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