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摘要 wD<vg3e[H &q4ox7 1 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 McT\ R{/ JZ %`%rA PzIy">plm ijvNmn1k 建模任务 @
\!KF*v W:`5nj]H9 eZynF<i 概观 jv*Dg ( rU;
g0'4e S8*^ss>?^R 光线追迹仿真 AU0$A403 S#P+B*v •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 ,"@w>WL<9 (YAI,Xnw •点击Go! uAp
-$? •获得3D光线追迹结果。 hA@zoIoe GMEw
TRSOO} nA>*IU[ 光线追迹仿真 uPFRh~ (b M_tj7Q3
W (})]H:W7 •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 1T!cc%ah •单击Go! ''_,S,.a20 •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 USE [N 5_v5 0o;k?4aP.c $X`bm* 场追迹仿真 _i-\mR_~ 1W*V2`0> Z/xV\Ggx •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 w-J"zC •单击Go! !{$qMhT 5RW@_%C ex.+'m<g -y%QRO( 场追迹结果(摄像机探测器) v,n); VxNXd? V:(y*tFA •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 JK[T]|G •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 m[8IEKo Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 eUYZxe :6 2>g^4(
xne]Q(B> miwf&b 场追迹结果(电磁场探测器) KrS I[@ts!YD
*K`x;r •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 wqcDAO( [Uswf3
RZ*<n$#6 文件信息 [@ILc*2O SBC~QD>L+
>A<Df gglf\)E;}E YDW|-HIF QQ:2987619807 ]7*kWc2
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