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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 =+iY<~8  
    5_(\Cd<#  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Xl4}S"a  
    QXb2jWz  
    &l+Qn'N  
    ]Q"T8drL  
    建模任务 X /c8XLe"  
    ]^ R':YE  
    M+%Xq0`T  
    概观 UBwl2Di  
     I0mp[6  
    )Q=u[ p  
    光线追迹仿真 ):K%  
    27!F B@k-  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 BHr,jC  
    w-Ph-L/  
    •点击Go！ %r|sb=(yT  
    •获得3D光线追迹结果。 %6[,a  
    E^)FnXe5  
     boojq{cvYA  
    QATRrIj{e  
    光线追迹仿真 X,49(-~\  
    x'L=p01  
    wa@Rlzij>  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 _%CM<z e  
    •单击Go！ {8.Zb NEJ  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     EGl<oxL*R2  
    [K A^+n  
    af|h4.A  
    dqB,i9--  
    场追迹仿真 Q^ W,)%  
    <,:{Q75  
    +QN4hJK  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ,8384'  
    •单击Go！     cq[9#@ 4=  
    %UI^+:C  
    K9@.l~n  
    )5@P|{FF  
    场追迹结果（摄像机探测器） 9Y3"V3EZ  
     '@Uu/~;h  
    )1 -<v);  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 U$5x#{AFp  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 +JI,6)Ry  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 IT NFmD  
    I7_8oq\3D  
    ug,AvHEnB  
     |pHlBzHj  
    场追迹结果（电磁场探测器） DCp8rvUI  
    WHx #;  
    &KMI C  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     ;?{^LiD+F  
    ~B[e*| d  
    -. *E<%  
    文件信息 +=/j+S`  
    Dspvc  
     @A6iY  
    Ct'tUF<K5  
     YH58p&up  
    QQ：2987619807 Y%/RGYKh  
     
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