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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 s*g qKQ;  
     Q(w;  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ^?Xs!kJP  
    ldTXW(^j  
    r*b+kSh  
    m@kLZimD  
    建模任务 vcQl0+&  
    ~`Bk CTT  
    hev;M)t  
    概观 `G!HGzVx;j  
    Ti)Me-g  
    =|AYT6z,  
    光线追迹仿真 P@UE.0NYX  
    *ilh/Hd>  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 &mtt,]6C_  
    ShC$ue?Q  
    •点击Go！ >6Uc|D  
    •获得3D光线追迹结果。 (mP{A(kwJ  
    %R?7u'=~  
     BJ5MCb.w  
    '9u?lA^9$  
    光线追迹仿真 :8O T  
    MkMDI)Y|  
    E'4Psx9: =  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 >#:SJ?)`T  
    •单击Go！ [(Z(8{3i  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     }y*D(`  
    TsT5BC63  
    9Zd\6F,  
    vW eg1  
    场追迹仿真 X[ Ufq^fyA  
    [ S  
    u3qx G3  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ?`e@ o?  
    •单击Go！     zB0*KgAn{  
    *_I`{9~'  
    iwM xTty  
    W2rd [W  
    场追迹结果（摄像机探测器） #b*4v&<  
     .g}N@  
    M7?ktK9`ma  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 cdkEK  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 yq|yGf(4&  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 gk| % 4.  
    >m lQ@Z_O  
    XgX~K:<jt  
     &!4E3&+2m  
    场追迹结果（电磁场探测器） eEBNO*2  
    `Gv\"|Gn  
    34Gu @"  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     ;MNUT,U  
    6oLOA}q   
    pW.WJ`Rk  
    文件信息 I1m[M?  
    W8bp3JX"  
     =&08s(A  
    VsSAb%  
     >k`qPpf&  
    QQ：2987619807 }=v4(M`%  
     
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