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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 q`P:PRgM  
    v,;?+Ck  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 H< j+-u4b  
    a;K:~R+@,  
    XebCl{HHp  
    y_6HQ:  
    建模任务 G;e}z&6<k  
    Y*Pr  
    Ot?rsr  
    概观 !ZRV\31%  
     X_lNnk  
    DxlX-  
    光线追迹仿真 ]9' \<uR  
    SZ_hGD0  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 QUt!fF@t  
    DcOLK\  
    •点击Go! b}fH$.V@  
    •获得3D光线追迹结果。 '&9b*u";x(  
    xInWcQ  
    ^N]*Zf~N?  
    &~i1 @\]  
    光线追迹仿真 R`c5-0A  
    }^H_|;e1p  
    M-NR!?9  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 f =Nm2(e  
    •单击Go! 2,+H;Ypi!  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    (~jOtUyT  
    Z1Wra-g  
    1n^xVk-G  
    V|7 c dX#H  
    场追迹仿真 FEkx&9]  
    \?j(U8mB>  
    e*tOXXY1  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 v[m>;Ubg&  
    •单击Go!
    PYZ8@G  
    H_{Yr+p  
    ?g 3sv5\u  
    ZR1EtvVG  
    场追迹结果(摄像机探测器) aa|xZ  
    \|Mz'*  
    fIu/*PFPVY  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 K$4Ky&89  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 ){v nmJJ%  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 |K]tJi4fz  
    R8HFyP  
    mz47lv1?  
    ^Oo%`(D?  
    场追迹结果(电磁场探测器) ` sSI;+  
    ^W^%PJ D |  
    #(%6urd  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    J( 0c#}d  
    i]P]o)  
    7>#74oy  
    文件信息 #(OL!B  
    ]c08`  
    Hg]r5Fe/c  
    cG.4%Va@s_  
    'Ag?#vB  
    QQ:2987619807 DUaj]V{_^  
     
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