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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 Zjh2{ :  
    /)3Lnn{W  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ec3<%+0f  
    R.9V,R5  
    23]Y<->Eu<  
    z@ 35NZn  
    建模任务 (5Nv8H8|  
    Vu8,(A7D%O  
    yd_ (?V&;_  
    概观  ti@kKz  
    aM3gRp51cj  
    S.*~C0"  
    光线追迹仿真 yYZxLJ='  
    ]/X(V|t  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 '@nbqM  
    1GCzyBSbb  
    •点击Go！ /0MDISQy9  
    •获得3D光线追迹结果。 2}U!:bn(  
    &HZmQ>!R D  
     "tk-w{>  
    %/%UX{8R  
    光线追迹仿真 l@Z6do  
    nw:-J1kWR  
    iA }vKQ  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。  t+uE  
    •单击Go！ -V.d?A4"  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     $.%rAa_H  
    !^c@shLN4  
     l! bv^  
    ]b?9zeT*'l  
    场追迹仿真 )RgGcHT@  
    :iWS\G^ U  
    e.d #wyeX  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Hh;:`;}  
    •单击Go！     o +B:#@9?  
    T#@lDpO  
    W#fZ1E6  
    `_ %S  
    场追迹结果（摄像机探测器） OHr Y(I6  
     NE2pL@ sk  
    G"5D< ]  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 YIhm$A"z0"  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 VSX@e|Nj  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 T=f|,sK +7  
    ZzGahtx)Y  
    PQmq5N6  
     2NGe C0=  
    场追迹结果（电磁场探测器） k*rZ*sSp  
    38ES($  
    CbBSFKM  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     7R.Q Ql  
    N7r_77%m0  
    .0 )Y  
    文件信息 _9H*agRe  
    /&#XhrT  
     9I7\D8r  
    _Q%vK*n  
     Dn9w@KO  
    QQ：2987619807 lf<S_2i  
     
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