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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 K)Xs L  
    +G!jKta7B  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ldCKSWIi-  
    F@K*T2uh  
    gR-Qj  
    s{z~Axup-  
    建模任务 igj={==m  
    _+Jf.n20  
    .KU SNrs'  
    概观 D _bkUR1  
    [*?_  
    8pq-nuf|K  
    光线追迹仿真 Yf!*OGF  
    ^L8Wn6s'  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 x'@32gv  
    inPdV9  
    •点击Go！ ~[uV  
    •获得3D光线追迹结果。 Nr]8P/[~  
    HL(U~Q6JQ  
     3u?`q%Y-e  
    2 %{YYT   
    光线追迹仿真 rZ!Yi*? f  
    s?@)a,C%k  
    gaw4NZd)0  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 d@D;'2}Yc  
    •单击Go！ ,\S pjE  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     _Vo)<--+I  
    W) 33;E/}  
    0tW<LR-}E  
    }#ep}h  
    场追迹仿真 :PFx&  
    CCW%G,$U9  
    WG8iTVwx  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 {HIR>])o  
    •单击Go！     cZDxsd]  
    Y(hW(bd;  
    42V,PH6o  
    {ywXz|TP  
    场追迹结果（摄像机探测器） GJIWG&C03  
     "xDx/d8B  
    B=Zl&1  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 jJ*@5?A  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 N ;Z`%&  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 QM[A;WBr7  
    ]3O 4\o  
    IP30y>\  
     2ec$xms  
    场追迹结果（电磁场探测器） *t#s$Ga  
    >:F,-cx<  
    $N}/1R^?r  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     5!'R'x5e  
    0^GbpSW{  
    :M22P`:  
    文件信息 J+)'-OFt0  
    =y< ">-  
     0T9@,scY  
    a>wfhmr  
     %s$rP  
    QQ：2987619807 /OQK/ t63  
     
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