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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 {%v-(  
    dx*qb  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 vP@v.6gS,  
     h_d+$W5  
    22P$ ~ch  
    {yU+)t(.  
    建模任务 I:V0Xxz5t  
    1{Mcs%W;w5  
    )\;Z4x;]U  
    概观 BElJB&I  
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    # {fTgq  
    光线追迹仿真 gnp~OVDqfL  
    hd V1nS$  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 e}VBRvr  
    t2" (2  
    •点击Go! Q zZ;Ob]'  
    •获得3D光线追迹结果。 ,vqr <H9e  
    XMB[h   
    t&Os;x?To?  
    R1:k23{  
    光线追迹仿真 >>Ts??  
    2jsw"aHW  
    o'~5pS(wq  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 gG%V 9eOQ  
    •单击Go! Ch()P.n?  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    $GQ`clj<  
    [a o U5;7  
    K-<^ $VWh  
    (C] SH\  
    场追迹仿真 AB Xl  
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    zOEY6lAwI  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 SjjIr ^  
    •单击Go!
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    %u^ JpC{E  
    MC((M,3L  
    vkS)E0s  
    场追迹结果(摄像机探测器)  rdnno  
    jJ4qR:]  
    {k.MS-q  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Ed0IWPx  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 \7MHaQvS   
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 =ItkFjhBc  
    *?+V65~dW  
    c(co\A.]:6  
    Bx"7%[  
    场追迹结果(电磁场探测器) 5G0 $  
    SYeadsvF  
    2>-S-;i  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    vB37M@wm  
    fl Jp4-nx  
    S0g'r !;6  
    文件信息 /MB{Pmk$R  
    Zn,>]X  
    MRr</o  
    +9O5KI?P  
    Sp}D ;7  
    QQ:2987619807 gx03xPeu  
     
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