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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 hDz_BvE  
    wV U(Du  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 eo,m ^&  
    \8<bb<`  
    Jk(b=j  
    I.\u2B/?  
    建模任务 EJL45R>  
    mu:Q2t^  
    SX*os$  
    概观 .8wR;^  
    na/t=<{  
    i(YP(8  
    光线追迹仿真 Iy e  
    F\>`j   
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 3>?ip;  
    Te5_T&1Z  
    •点击Go！ NB16O !r  
    •获得3D光线追迹结果。 ~;U!?  
    mp@JsCU  
     {!E<hQ2<$9  
    yqCy`TK8  
    光线追迹仿真 NUm3E4  
    rWa7"<`p  
    a1om8!C  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 %OW[rbE.  
    •单击Go！ Tk+\Biq   
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     m>UJ; F  
    UVU}  
    7b Gzun&  
    (<1DPpy95O  
    场追迹仿真 LscAsq<H<  
    O|av(F9  
    +Mg^u-(A  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 x6F\|nb  
    •单击Go！     93YD\R+q  
    =Jem.Ph  
    Fbk<qQH  
    )Cx8?\/c=x  
    场追迹结果（摄像机探测器） kqHh@]Z0'  
     8f29Hj+  
    z.[L1AGa|s  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 E8IWHh_  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 =XoNk1  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 t7-sCC0  
    U7:~@eYy  
    j*+r`CX  
     ydlH6>  
    场追迹结果（电磁场探测器） 4e*0kItC  
    uw]e$,x?  
    u,oxUySeG  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     21cIWvy  
    q2,@>#  
    w*bVBuX s  
    文件信息 So!1l7b  
    E$Ge# M@dM  
     s?_b[B d  
    {uckYx-A  
     A"9aEOX-?i  
    QQ：2987619807 ifBJ$x(B.  
     
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