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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 =4804N7  
    %<@x(q  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 ,o s M|!,  
    2-_d~~O1N  
    c. 06Sw*  
    \pVWYx  
    建模任务  @"L*!  
    CQ:38l\`gd  
    b>f{o_  
    概观 V2IurDE  
    s'=w/os  
    ObSRd$M  
    光线追迹仿真 3oMhsQz~z  
    ;}4^WzmK^(  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 o>o! -uf  
    3pjK`"Nmz\  
    •点击Go! L(DDyA{bA  
    •获得3D光线追迹结果。 Q$8K-5U%  
    YOQ>A*@4  
    #GOL%2X  
    EJ=ud9  
    光线追迹仿真 #T$yQ;eQ  
    `,$PRN"]  
    w=QW8q?  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 Qgxpq{y  
    •单击Go! `!@d$*:'  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    69$gPY'3  
    P; 9{;  
    vY!'@W  
    h Nx#x  
    场追迹仿真 @k3xk1*  
    N^%7  
    \JbOT%1  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 1`)e}p&  
    •单击Go!
    ][1 iKT  
    R_2T"  
    '|@?R|i0  
    >$G'=N:=X&  
    场追迹结果(摄像机探测器) -^$`5Rk  
    P~M<OUg  
    Z \>mAtm  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 rObg:(z&\  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 LGq T$ O|  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 "I0F"nQ  
    ,dXJCX8so  
    L&hv:+3N  
    0$=w8tP)  
    场追迹结果(电磁场探测器) pYz\GSd  
    )6*)u/x:  
    1h#e-Oyff  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    U o[\1)  
    wf2v9.;X:<  
    R3hyz~\x&  
    文件信息 ^=[b]*V  
    /Suh&qw>  
     B6.9hf  
    u{5+hZ  
    $3]]<oH  
    QQ:2987619807 Y(B3M=j  
     
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