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摘要 '
%OQd?MhL +7o3TA]- 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 GljxYH"]# ;0}$zy1EZ ~fs{Ff' >.PLD} zE_ 建模任务 H!&]Di1Eh S,vrz!'>A (@O F
Wc"p 概观 9p(s FQ
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光线追迹仿真 :9c
QK]O6 ' R~x.NM •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 3bpbk !O)Ruwy •点击Go! :n>m">4 •获得3D光线追迹结果。 r M'snW) GS~jNZx
DI9x]CR 1bd(JL 光线追迹仿真 c3!d4mC: ,g{`M]Ov B4GgR,P@S •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 uI-te~] •单击Go! E<'3?(D9hL •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 (ui"vLk8PP of8/~VO " 9 h]P^ M'HmVg4' 场追迹仿真 h5x FP 2M=
gpy ,;H)CUe1" •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 w^NE`4 - •单击Go! sju. `f>-r //>f#8Ho LwkZ (Tt
4'?kyTO~ 场追迹结果(摄像机探测器) e0+N1kY Am!$\T%2 !u~( \Rb; •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 z`xdRe{QP •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 hFZ7{pj Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 D^I%tn=F G*mk 19Z
?A2#V(4 WWc{]R^D 场追迹结果(电磁场探测器) x g/3*rL OYgD9T.8^ ]U! ?{~ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 U8?QyG
2A 7:R8QS9
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