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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 .h,xBT`}Ji  
    $x;h[,y   
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 }eM<A$J  
    dn_OfK  
    :N*T2mP  
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    建模任务 Bq@wS\W>b}  
    070IBAk}_  
    vc #oALc&  
    概观 !T#y r)  
    .E#Sm?gK  
    rz{'X d  
    光线追迹仿真 9^ p{/Io  
    1 ],, Ar5  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 493i*j5r)l  
    bK\WdG\;  
    •点击Go！ DWQQ615i  
    •获得3D光线追迹结果。 .A)Un/k7  
    dM{~Ubb  
     ;bZ*6-\!-  
    }Y`<(V5:  
    光线追迹仿真 2F @)nh  
    *Ne&SXg  
    8? Wxd65)  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。  ii y3  
    •单击Go！ g)qnjeSs]  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     orH0M!OtS!  
    I0+wczW,^  
    o MkY#<Q}  
    p''"E$B/(  
    场追迹仿真 1Dp @n  
    f~nt!$  
    \&&(ytL  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 M5WtGIV  
    •单击Go！     917 0bmr  
    -MU.Hu  
    6F.7Ws <  
    )kKmgtj  
    场追迹结果（摄像机探测器） RS `9?c:  
     ]/Yy-T#@  
    An #Hb=  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ~+ s*\~  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 =yX&p:-&  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 !L. K)9I  
    R{uJczu  
    in #]3QGV  
     kEhm'  
    场追迹结果（电磁场探测器） RE $3| z  
    L'XdX\5  
    L3GC[$S  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     br;H8-   
    Nv?-*&L  
    .um&6Q=2<  
    文件信息 MiH}VfI  
    {&=qM!2e  
     bLEATT[  
    'K`Rbhy  
     )R8%'X;U  
    QQ：2987619807 +6hl@Fm(  
     
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