-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-01-23
- 在线时间1915小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 =4804N7 %<@x(q 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 ,o sM|!, 2-_d~~O1N c. 06Sw* \pVWYx 建模任务 @"L*! CQ:38l\`gd b>f{o_ 概观 V2IurDE s'=w/os ObSRd$M 光线追迹仿真 3oMhsQz~z ;}4^WzmK^( •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 o>o! -uf 3pjK`"Nmz\ •点击Go! L(DDyA{bA •获得3D光线追迹结果。 Q$8K-5U% YOQ>A*@4
# GOL%2X EJ=ud9 光线追迹仿真 #T$yQ;eQ `,$PRN"] w=QW8q? •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 Qgxpq{y •单击Go! `!@d$*:' •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 69$gPY'3 P;
9{; vY!'@W h Nx#x 场追迹仿真 @k3xk1* N^%7 \JbOT%1 •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 1`)e}p& •单击Go! ][ 1
iKT R_2T" '|@?R |i0 >$G'=N:=X& 场追迹结果(摄像机探测器) -^$`5Rk P~M<OUg Z\>mAtm •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 rObg:(z&\ •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 LGq
T$ O| Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 "I0F"nQ ,dXJCX8so
L&hv:+3N 0$=w8tP) 场追迹结果(电磁场探测器) pYz\GSd )6*)u/x: 1h#e-Oyff •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 U o[\1) wf2v9.;X:<
R3hyz~\x& 文件信息 ^=[b]*V /Suh&qw>
B6.9hf u{5+hZ $3]]<oH QQ:2987619807 Y(B3M=j
|