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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 S}>rsg!  
    p&7>G-.  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 g$ h!:wW  
    qz 'a.]{=  
    3Cpix,Dc  
    hod|o1C&  
    建模任务 fgNEq  
    }Vt5].TA  
    {_ocW@@  
    概观 (+_Amw!W  
    8u>E(Vmpu  
    '+$2<Ys  
    光线追迹仿真 DpA)Z ??  
    ^OUkFH;dG?  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ]p~XTZgW  
    `.n[G~*w~1  
    •点击Go！ aw(P@9]  
    •获得3D光线追迹结果。 ^ H'|iju  
    GDk/85cv0$  
     lGxG$0`;;  
    s3q65%D  
    光线追迹仿真 Ls9G:>'rR  
    2rA`y8g(L  
    c1c0b|B!U  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 vsc&$r3!5{  
    •单击Go！ UlyX$f%2  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     7[Y<5T]  
    ,#<"VU2bC  
    =_,w<  
    X _XqT  
    场追迹仿真 k)4   
    GX\/2P7CZ  
    (d_{+O"  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 GMFp,Df  
    •单击Go！     KVJiCdg-  
    Ry,jPw5<  
    HZR~r:_ i  
    0LxA+  
    场追迹结果（摄像机探测器） 0?k/vV4  
     "Y4 tt0I  
    gg5`\}  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 X|X6^}  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 HdLVXaD/  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 < jfi"SJu  
    xEGI'lt  
    [&6l=a  
     .I[uXd  
    场追迹结果（电磁场探测器） BH\qm (X  
    aM~M@wS  
    BB9Z?}  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     B\9ymhx;g%  
    v]c1|?9p'  
    TR| G4l?  
    文件信息 u[y>DPPx  
    Q']:k}y  
     B$aboL2  
    "@DCQ  
     -_v[oqf$  
    QQ：2987619807 &H<-joZ)Z\  
     
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