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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 ekqS=KfWl;  
    "<^n@=g'q  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 =YD<q:n4  
    c c/nzB  
    M}q;\}  
    &>QxL d#  
    建模任务 !YZKa-  
    *zW]IQ'A  
    XL'\$f  
    概观 (]PH2<3t  
    ?CcX>R-/  
    'yV*eG?^&  
    光线追迹仿真 <FI*A+I4\  
    (@;^uVJP  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 1GB]Yi[>  
    0j 8`M"6  
    •点击Go！ Q{an[9To~P  
    •获得3D光线追迹结果。 v>N*f~n  
    1b2  
     };<?W){!H  
    uh\Tf5  
    光线追迹仿真 23 #JmR  
    <K,X5ctM}  
    V`HnFAW  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 RzzU+r  
    •单击Go！ 7S=,#  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     4:pgZz!  
    7AWq3i{  
    bOp%  
    ck3+A/ !z  
    场追迹仿真 UBk:B  
    dnQ6Ras  
    xq=!1>  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 {<-wm-]mo  
    •单击Go！     E> $_ $'  
    Q]3]Z/i  
    ] @#wR  
    ^ meU&  
    场追迹结果（摄像机探测器） ]qu6/Z  
     w{So(AF  
    }maD8,:t  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 hZ!kh3@:`  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 *c&OAL]  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 " Up(Vj@  
    u0G tzk  
    *::.Uo4O  
     tE <?L  
    场追迹结果（电磁场探测器） ]<L~f~vU  
    pl)?4[`LUc  
    }V`_ (%Q-e  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     #8ltV`  
    c~;VvYu  
    (@qS  
    文件信息 *'aouS/?<6  
    *N:0L,8  
     :]CL}n$*  
    svb7-.!  
      ;Q4,I[?%  
    QQ：2987619807 CQ^(/B^c  
     
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