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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 CTKw2`5u  
    &-p~UZy  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Z 4i5,f  
    FG+pR8aA$  
    i2rSP$j  
    TBQ68o  
    建模任务 g6aqsa  
    XP0;Q;WF}  
    =nc;~u|]  
    概观 uDkX{<_Xe  
    qyFeq])  
    o<txm?+N  
    光线追迹仿真 *PV7s  
    @1&"S7@}u  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 C4d'z(<  
    zVf79UrK  
    •点击Go！ @t1pB]O:  
    •获得3D光线追迹结果。 1KGf @u%-1  
    tKcC{  
     gq 3|vzNZ  
    ,7:-V<'Yv  
    光线追迹仿真 >o{JG(Rn  
    +Ek1~i.  
    }F/w34+;  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 _?cum ~A@  
    •单击Go！ ,Eh]Zv1 AE  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     +WR?<*_  
    qm_m8   
    @mxaZ5Vv}  
    Vp~ cN  
    场追迹仿真 S ~h*U2  
    =[!(s/+>L  
    CueC![pj  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 $N}t)iA  
    •单击Go！     PN 8#T:E  
    d0ht*b  
    g[t paQ  
    c/^jD5U7  
    场追迹结果（摄像机探测器） mVYfyLZ,(  
     i^iu #WC  
    Oso**WUOZ&  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 trrK6(p  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 _izjvg  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Iy4%,8C]g  
    IzUpkwN  
    ~8mz.ZdY  
     W^xO/xu1 /  
    场追迹结果（电磁场探测器） i/'bpGrQ(  
    TI l 'Z7  
    yhbU;qEG9  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     r,Xyb`  
    s$fX ;  
    $57Q g1v  
    文件信息 SJh~4R\  
    k[ D,du')  
     ,.V<rDwN&  
    3<M yb  
     Zr2T^p5u  
    QQ：2987619807 !vJ$$o6#  
     
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