切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 光学设计仿真实验指导 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 1157阅读
    • 0回复

    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    6655
    光币
    27424
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 /d >fp  
    5hpb=2  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 7@vc Qv kC  
    y( MF_'l  
    _V{WXsOx(  
    %'* |N [  
    建模任务 .@APxeU  
    \+MR`\|3  
    \FTv N  
    概观 DI}h?Uf ,  
    _uHyE }d  
    4:<0i0)5  
    光线追迹仿真 hBE}?J>  
    ~9oS~fP?I  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ~|J6M  
    eOn,`B1  
    •点击Go！ (p14{  
    •获得3D光线追迹结果。 %e%nsj6  
    o D* '  
     6XQ)Q)  
    nfDPM\FFD  
    光线追迹仿真 v!F(DP.)Z  
    4g1u9Sc0  
    JpD YB  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 z7PPwTBa  
    •单击Go！ $z mES tcm  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     C [2tH2*#  
    5Ll[vBW  
    Gs?W7}<$  
    5Ij_$a  
    场追迹仿真 Op%^dwVG(v  
    :{66WSa@Dd  
    F'j:\F6C;  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 K.z}%a  
    •单击Go！     e-}PJ%!,T  
    \R-u+ci$ZY  
    x(b&r g.-0  
    %okEN !=  
    场追迹结果（摄像机探测器） i ^IvT  
     *Nt6 Ufq6  
    >M1/m=a  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 x:2[E-  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 AN~1E@"  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 J)fS2Ni+  
    VS).!;>z  
    K5.C*|w  
     F}01ikXDb'  
    场追迹结果（电磁场探测器） X2e|[MWkp  
    ;c>Yr ?^  
    &erNVD5o  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     +bO{U C[  
    7k$8i9#  
    d;;=s=j  
    文件信息 q$t& *O_  
    ,DE%p +q  
     ?APzx@$D.  
    R*[ACpxr  
     Lw#h nLI.  
    QQ：2987619807 lT:<ZQyjT  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表