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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 gd\b]L?>O  
    0'tm.,  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 k.w}}78N2N  
    \b|Q`)TK  
    -*&C "%e  
    mi{ r7.e5I  
    建模任务 {c:ef@'U  
     ,zrShliU  
    3`Q>s;DjIU  
    概观 2HJGp+H  
    Q##L|*Qy  
    m3iB`  
    光线追迹仿真 G@Vz }B:=  
    Z~Z+Yt;,9a  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 p4{3H+y  
    jp QmKX  
    •点击Go！ "]{"4qV1=  
    •获得3D光线追迹结果。 DYvg^b  
    'QEQyJ0EB  
     vE+OL8V  
    z6J fu:_N!  
    光线追迹仿真 FUU/=)^P$  
    0_5j(   
    $8,/[V A  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 fTc ,"{  
    •单击Go！ T@H2[ 7[;  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     HFd>UdT%  
    2VNfnk  
    C:d$   
    6J%+pt[tu  
    场追迹仿真 A4uDuB;;ZQ  
    }8qsE  
    E$8 4c+  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 :,(ZMx\  
    •单击Go！     ec` $2u  
    ew cgg  
    1z[GYRSt  
    vVi))%&S(  
    场追迹结果（摄像机探测器） O6pL )6d  
     xiPP&$mg  
    juuV3et  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 5U/1Z{  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 i\?P>:)  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Qvd$fY**  
    Z"fnjH  
    )pXw 3Fo  
     = A !;`G  
    场追迹结果（电磁场探测器） ly] n2RK  
    #dgWXO  
    kDG'5X;+  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     ){oVVLs  
    :J}@*>c  
    88ydAx#P  
    文件信息 J12 ZdC'O  
    8\^[@9g3\3  
      }[<eg>9#  
    6A& f  
     e[@q{.  
    QQ：2987619807 E*Q><UU  
     
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