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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 7PfNPz<4+  
    V.Lk70 \  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 3,#qt}8`  
    /NPx9cLW^  
    J +Y?'"r  
    [ryII hQ  
    建模任务 )!zg=}V  
    ?g K|R  
    A5}N[|z  
    概观 A$P Oc<  
    :%fnJg(  
    c2gZ<[~  
    光线追迹仿真 6I]{cm   
    LsMq&a-j2  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ffOV7Dxy  
    h}m9L!+n8  
    •点击Go！ 7|ACJv6%9  
    •获得3D光线追迹结果。 h^H)p`[Gme  
    '|%\QWuZ  
     ,4,./wIq  
    >^@~}]L  
    光线追迹仿真 _lH:%E*  
    ZS&+<kGD  
    \<} e?Yx%  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 uqBVKE  
    •单击Go！ wUS w 9xg  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     FYg{IKg  
    T}'*Gry  
    \3 rgwbF  
    `- 9p)@'8k  
    场追迹仿真 A(C0/|#V  
    c/-'^+9  
    d(D|rf,av  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 1q*=4O  
    •单击Go！     a8y*Jz-E  
    p@YbIn  
    b u/GaE~  
    @zsqjm  
    场追迹结果（摄像机探测器） '_n$xfH  
     c5eimA%`  
    2) Q/cH\g  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 dP/1E6*m  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 .T~Oc'wGo  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 nG| NRp  
    Q,o"[ &Gp  
    )*BG-nM u  
     vri<R8  
    场追迹结果（电磁场探测器） s%zdP  
    lxLEYDGFS  
    }SW>ysw'm  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     <q4 <3A  
    cEPqcy *  
    =kW7|c5Z  
    文件信息 7t% |s!~  
    1|7t q  
     o7fJ@3B/  
    F^wm&:%{`  
     {@X)=.Zf  
    QQ：2987619807 ~2 J!I^ J  
     
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