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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 *4]u?R  
    er<yB#/;-  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 \YXzq<7  
    SZVNu*G!H  
    <%d/"XNg[D  
    ~SKV%  
    建模任务 awYnlE/Z1  
    rw:z|-r  
    ;U+4!N  
    概观 0j{Rsy   
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    *u J0ZO9  
    光线追迹仿真 v)+E!"R3.  
    c? Z M<Y"  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 8PKUg "p  
    ANIx0*Yl(  
    •点击Go! +pcGxje\  
    •获得3D光线追迹结果。 V\1pn7~V  
    <Z b~tYp  
    ~PaEhj&8  
    Sj=x.Tr\  
    光线追迹仿真 Nuc;Y  
    xxnvz  
    4F[4H\>'  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 zWs ("L(#s  
    •单击Go! ~&}e8ah2  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    E`0mn7.t  
    asEk 3  
    #)3luf3G  
    k7L-J  
    场追迹仿真 #uRj9|E7  
    (5rfeSA^  
    \v\f'eQ  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 t,bQ@x{zVC  
    •单击Go!
    H18.)yHX  
    $O'IbA  
    0|i3#G_~  
    [SKN}:D  
    场追迹结果(摄像机探测器) `[)!4Jb  
    Zk:Kux[7  
    "26=@Q^Y  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 s(.H"_ a  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 DXI{ jalL  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 !B*l'OJw  
    c1Rn1M,2k  
     i)!2DXn  
    !VDNqW  
    场追迹结果(电磁场探测器) Be$v%4  
     `1`Qu!  
    0 s$;3qE  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    `=Z3X(Kc  
    GQH15_  
    z7X,5[P  
    文件信息 zG* >g  
    9$q35e  
    xY d]|y  
    Fp&tJ]=B.  
    {j8M78}3  
    QQ:2987619807 pN4gHi=  
     
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