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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 o.v2z~V  
    0(\p<qq  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 @sN^BX`z  
    X+@s]  
    .-J`d=Krp  
    [;<<4k(nL  
    建模任务 6F,/w:  
    !`Le`c  
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    概观 4AJ9`1d4  
    `nKJR'QC  
    Il|GCj*N  
    光线追迹仿真 W.IH#`-9E  
    O!/ekU|,r  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 Ur n  
    ^+EMZFjg(  
    •点击Go！ )mj<{Td`  
    •获得3D光线追迹结果。 $]Jf0_  
    Ny]lvgu9X  
     a"k'm}hVY$  
    A3j"/eKi2  
    光线追迹仿真 N_0pO<<cs  
    TFYw  
    a`s/qi  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 wBLsz/  
    •单击Go！ rJX\6{V!_  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ("b*? : B  
    V>AS%lXj  
    W|0My0y  
    |ebvx?\  
    场追迹仿真 +eC3?B8rN  
    \,hrk~4U;(  
    ?H<~ac2e  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 (NPxab8e*  
    •单击Go！     LGAX"/LX  
    ,2,W^HJ  
    /;7ID41  
    pcNSL'u+  
    场追迹结果（摄像机探测器） !n:uiwh  
     jK e.gA  
    4? v,wq  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 a/:]"`)  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 UUGe"]V^g:  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 j6H R&vIM  
    K\~v&  
    q P'[&h5Y  
     ] ;&"1A  
    场追迹结果（电磁场探测器） sSz%V[X WL  
    =D}4X1l  
    ",T` \8&@e  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     i2`#   
    Vli3>K&  
    ' Wtf>`  
    文件信息 jx'2N~$  
    !:dL~n  
     K0v.3  
    <$Ztik1  
     IKo;9|2U  
    QQ：2987619807 1g~y]iQ  
     
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