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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 -]Su+/3(,  
    m"'LT0nur  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 }2"W0ZdWD  
    SZ9DT  
    X&LJ"ahK  
    PpBptsb^|J  
    建模任务 %;v~MC @  
    K: $mEB[c<  
    oYTLC@98}  
    概观 ".$kOH_:  
    gh\u@#$8  
    ;nQ=! .#Q  
    光线追迹仿真 LjE3|+pJ  
    1zH?.-  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 :i& 9}\|,  
    3*2~#dh=  
    •点击Go！ K8MET&  
    •获得3D光线追迹结果。 d=%NFCIV  
    KCw  
     %<a3[TQd`\  
    a{Y|`*7y  
    光线追迹仿真 T$%QK?B  
    }u3|w0~c)  
    y*{zX=]l<  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 $w{d4")  
    •单击Go！ `'<$N<!  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ;*j K!  
    %aMC[i  
    -d#08\  
    N<a %l J  
    场追迹仿真 /KF@Un_Ow  
    sL~4 ~178  
    ;<Hk Cd  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 BA1uo0S `S  
    •单击Go！     zQ{bMj<S  
    9?O8j1F  
    w)zJ $l  
    ]bh%pn  
    场追迹结果（摄像机探测器） *nJ,|T  
     df@NV Ld  
    E~fb#6  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 E]/2 u3p  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 {G x=QNd  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 6Yodx$  
    s9CmR]C  
    Z^%a 1>`  
     nCWoco.xy  
    场追迹结果（电磁场探测器） %\sE\]K  
    .Vnb+o  
    1_q!E~)  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     \|QB;7u  
    ~nmFZ] y  
    v/rBjUc+X  
    文件信息 \zg R]|  
    i56Rdb  
     8CUtY9.  
    cYg J}(>}  
     qna!j|90Lp  
    QQ：2987619807 ]goJ- &  
     
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