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摘要 (<<eHf,@ kO9yei
高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 4%]{46YnK #".{i+3E r%a$u%)oD xGH%4J\ 建模任务 ?IWLl i &KbzOY =kCpCpET 概观 mee-Qq:} 6D+k[oHZm 0-#ct1- 光线追迹仿真 tN0>5'/ m[7a~-3:J •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 g 08
`=g C1nQZtF R •点击Go! t+#Ss v8 •获得3D光线追迹结果。 WFdS#XfV
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KA< 光线追迹仿真 p;H1,E:Re# -WYJ1B0v Z*Y?"1ar •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 [Q*kom : •单击Go! 1`uIjXr( •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 - Z|1@s& H9nq.<;p 1jF}g`At ywdNwNJ 场追迹仿真 }s|v-gRM{ )I<.DN& T]myhNk •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 2sTyuH. •单击Go! '(Bs<)(H ?|L)!LYx M aEh8* b6i0_fOO 场追迹结果(摄像机探测器) _]4cY%s
FJ!>3V;} b
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_ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 [ wROIvV •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 Gmwn: Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 (0][hdI~B Ug"B/UUFd
B%t^QbU #\ vKW%l 场追迹结果(电磁场探测器) jv7zvp Vr^wesT\Hx 'D-imLV<< •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 {P]l{W@li 3Q#VD)
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文件信息 }Bb(wP^B. MHbRG_zW
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