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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 2&:z[d}~H  
    8 NNh8k#6  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Y9#dAI[Gce  
    !0zcS7&P  
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    O_2o/  
    建模任务 v ))`U,Gm  
    Z D"*fr  
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    概观 z0ufLxq  
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    xh#_K@8  
    光线追迹仿真 C "@>NC_  
    [vb#W!M&|  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 RfvvX$  
    *zweZG8:  
    •点击Go！ 4j'rbbs/  
    •获得3D光线追迹结果。 )eZuG S  
    _/P;`@  
     8o,0='U  
    `/R. 5;$|  
    光线追迹仿真 CHqi5Z/+  
    4PS|  
    Wy6a4oY  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 q$v0sTk0Y  
    •单击Go！ #huh!Mn  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     \+U;$.)3  
    9&^5!R8  
    V:5aq.o!  
    P;gd!Yl<-  
    场追迹仿真 p8.JJt^  
    9 {SzE /[  
    aG =6(ec.  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 n'pJl  
    •单击Go！     _[&.`jTFn  
    uInI{>  
    mhU=^/X  
    UjJ&P)  
    场追迹结果（摄像机探测器） K9ih(fh)  
     $1s>efP-  
    ~n0Exw(  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 :si&A;k  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 8VG~n?y  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 `]19}GK~xo  
    "#8^":,4  
    8?<J,zu@AV  
     jc>B^mqx  
    场追迹结果（电磁场探测器） l&W:t9o  
    XD!}uDZ^  
    rWO#h{  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     >N`, 3;Z  
    FoYs<aER  
    $'!n4}$}  
    文件信息 Xooh00  
    9"B;o  
     *j1Skd.#At  
    wLO"[,  
     =:R${F  
    QQ：2987619807 Ae^4  
     
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