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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 =5/9%P8j9  
    G6/p1xy>o:  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 -likj# Z  
    YQHw1  
    Ta(Y:*Ri  
     >qS9PX  
    建模任务 mz,  
    U+:m4a  
    *K|W /'_&  
    概观 *AO,^R&e.  
    2R;}y7{  
    wO'T BP  
    光线追迹仿真 e1%/26\  
    $8 UUzk  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 UTH*bL5/J2  
    F`gi_; c  
    •点击Go! vk77B(u  
    •获得3D光线追迹结果。 uE%r/:!k4$  
    95 ;x=ju  
    7"sD5N/>uh  
    fZ0M%f  
    光线追迹仿真 NdMb)l)m  
    7gj4j^a^]{  
    *5%d XixN  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 ABQ('#78  
    •单击Go! =]6%G7T  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    cAY:AtD  
    fI&t]   
    06O2:5zF  
    &dM. d!  
    场追迹仿真 YC++& Nk  
    c3 jx+Q  
    OGK}EI  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 |bTPtrT8  
    •单击Go!
    sDPs G5q<  
    w,#>G07D  
    zHA!%>%'  
    ED=V8';D  
    场追迹结果(摄像机探测器) /]K^ rw[  
    ^2Fei.?T.  
    oI }VV6vO  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 #|L8tuWW  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 z@!`:'ak  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 U{2BVqM  
    ULs\+U  
    */sS`/Lx  
    b$N 2z  
    场追迹结果(电磁场探测器) >3p \m  
    eD,.~Y#?=  
    GeyvId03H  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    ]{3)^axW;  
    Of*Pw[vD  
    C 3^JAP  
    文件信息 \UPjf]&  
    VCV"S>aVf  
    6wBx;y |  
    &XIt5<$~R  
    t<#TJ>Le  
    QQ:2987619807 uaT!(Y6  
     
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