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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 e sDd>W  
    hkoCbR0}8  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 4pC.mRu 0  
    `&!J6)OJ  
    :y8wv|m  
    VmTPE5d  
    建模任务 ?JI:>3e  
    gbL!8Z1h  
    j/PNi@  
    概观 18];fC  
    $9Asr07  
    59Lmv &s  
    光线追迹仿真 Y!nxHRE  
    (OT&:WwW  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 kSq1Q#Bxq  
    7qT>wCVT  
    •点击Go! e9@7GaL`"S  
    •获得3D光线追迹结果。 9>1Gj-S2:  
    4Y:[YlfD.  
    ,+hH|$  
    ^*A8 NdaB  
    光线追迹仿真 M73d^z  
    > nOU 8  
    w|0w<K  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 [(PD2GO+  
    •单击Go! ">hOD'PG  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    XLxr@1   
    W&Pp5KR  
    j& ~`wGM  
    y8|?J\eRy  
    场追迹仿真 .uwD;j +#  
    'mR9Uqq\  
    ]v,>!~8r  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 i1k#WgvZR  
    •单击Go!
    q#!]5  
    ;Uv/#"r  
    /2#1Oi)o  
    [d}AlG!  
    场追迹结果(摄像机探测器) r[Zg$CW  
    K>x+*UPL  
    u[;,~eB%w  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 WjVj@oC  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 /n&Y6@W  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 = gbB)u-Pc  
    daakawn+  
    'g7eN@Wh.z  
    o2 vBY]Tj  
    场追迹结果(电磁场探测器) 1Zj NRg=  
    k;W`6:Kjp  
    4<{]_S6"0y  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    :\<D q 71  
    V.U9Q{y"  
    L/sMAB  
    文件信息 (;.wsz &K  
    MrGq{,6C  
    *dw6>G0U  
    {Z^  G]@  
    C~:@ETcbil  
    QQ:2987619807 gvLzE&V}  
     
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