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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 K,|3?CjS  
    u #}1 M  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 hslT49m>  
    6 ]<yR> '  
    d#bg(y\G|  
    Z+);}>-5  
    建模任务 %'e$N9zd  
    \vc&V8  
    *)^ ZUk  
    概观 g +gcH  
    3PRU  
    ip{ b*@K  
    光线追迹仿真 )c9Xp:  
    L1Yj9i  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 !J<0.nO/:  
    )AdwA+-x  
    •点击Go！ fQ!W)>mi  
    •获得3D光线追迹结果。 _1$Y\Y  
    d`$w3Hy  
     G^SJhdO(Q  
    Hi~)C\  
    光线追迹仿真 zI S ,N '  
    nC??exc  
    $qg2@X.  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 z%+rI  
    •单击Go！ 4%_c9nat  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     RX?!MDO  
    Rb:?%\=  
    &LB`  
    -OD&x%L*{3  
    场追迹仿真 N:+EGmp  
    hmuhq:<f  
    !~'D;Jh  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 $w-@Oa*h9U  
    •单击Go！     v<l]K$5J&  
    J n2QvUAZ&  
    X#ha*u~U  
    UMD\n<+cG,  
    场追迹结果（摄像机探测器） gPd ,  
     ,`a8@  
    |<oqT+?i  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 2dJE` XL  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 eUR+j?5I  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 :2vuc!Pu  
    wCv9VvF`  
    OuWRLcJ!  
     E|_8#xvb  
    场追迹结果（电磁场探测器） gy|o#&e]%  
    /6y{ ?0S  
    !a!4^zqp  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     3N2d@R  
    xy&*s\=:  
    $X\2h+ Os  
    文件信息 ZzR0k  
    > MRuoJ  
     H)dZ0n4T  
    (47la$CR  
     }jWg&<5+z  
    QQ：2987619807 i 2uSPV!Tf  
     
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