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摘要
s*gqKQ; Q(w; 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 ^?Xs!kJP ldTXW(^j r*b+kSh m@kLZimD 建模任务 vcQl0+& ~`BkCTT hev;M)t 概观 `G!HGzVx;j Ti)Me-g =|AYT6z, 光线追迹仿真 P@UE.0NYX *ilh/Hd> •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 &mtt,]6C_ ShC$ue?Q •点击Go! >6Uc|D •获得3D光线追迹结果。 (mP{A(kwJ %R?7u'=~
BJ5MCb.w '9u?lA^9$ 光线追迹仿真 :8OT MkMDI)Y| E'4Psx9: = •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 >#:SJ?)`T •单击Go! [(Z(8{3i •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 }y*D(` TsT5BC63 9Zd\6F, vW eg1 场追迹仿真 X[Ufq^fyA [ S u3qxG3 •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 ?`e@ o? •单击Go! zB0*KgAn{ *_I`{9~' iw MxTty W2rd[W 场追迹结果(摄像机探测器) #b*4v&< .g}N@ M7?ktK9`ma •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 cdkEK •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 yq|yGf(4& Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 gk| %
4. >m lQ@Z_O
XgX~K:<jt &!4E3&+2m 场追迹结果(电磁场探测器) eEBNO*2 `Gv\"|Gn 34Gu @" •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ;MNUT,U 6oLOA}q
pW.WJ`Rk 文件信息 I1m[M? W8bp3JX"
=&08s(A VsSAb% >k`qPpf& QQ:2987619807 }=v4(M `%
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