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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 84e)huAs  
    @>(l}5U5  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 j 7a;g7.  
    Y\dK- M{$  
    X7NRQ3P@  
    i.0}qS?  
    建模任务 kx]f`b  
    oopTo51,a  
    Fm*n>^P@Y  
    概观 l OI(+74  
    xfos>|0N  
    d3 fE[/oU  
    光线追迹仿真 JQQD~J1)E  
    :pDwg d  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 g#9KG  
    lv&<kYWY  
    •点击Go！ qB<D'h7  
    •获得3D光线追迹结果。 9)aXLM4Y  
     6.KR(V  
     ? Yy[8_(tN  
    X<,sc;"b`k  
    光线追迹仿真 + 5sT GNG  
    Z&JW}''n|F  
    Zhz.8W  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Zo-s_6uC  
    •单击Go！ /_ o1b_1 U  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     Z^>3}\_v  
    ]Ol@^$8}  
    9t7_7{Q+;  
    VSmshld  
    场追迹仿真 -;Cl0O%  
    kp xd+w  
    E-.M+[   
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 WASs'Gx  
    •单击Go！     e u^z&R!um  
    Q4CxtY  
    $ LFzpg  
    &wK%p/?  
    场追迹结果（摄像机探测器） HWVWl~FA  
     (`!?p ^>A  
     p&:R SO  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 !;zacw  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 5a5 I+* c  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 %CD}A%~  
    uDQ d48>  
    5s;HF |2x  
     ;w}ZI<ou  
    场追迹结果（电磁场探测器） ,%v  
    >[O @u4  
    0&2TeqsLh)  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     nd'zO#"m?  
    {p yo  
    qD7# q]  
    文件信息 pRPz1J$58  
    nFX8:fZ$>  
     &AZr (>  
    aoI{<,(  
     `fY~Lv{4d_  
    QQ：2987619807 ?`,Xb.NA$K  
     
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