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摘要 s
}q6@I Hs<vCL \ 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
QSf{V(fs UX=JWb_uGm ;3NA,JA#Y O G#By6O 建模任务 `-S6g^Y V}ZF\SG(K S5]rIcM 概观 %76N$`{u U]Q2EL\%
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[GG<Um 光线追迹仿真 lTsl= `V[{(&?,n •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 >_h*N H {4tJT25 •点击Go! *,!6#Z7 •获得3D光线追迹结果。 cMxTv4|wui *b9=&:pU(
G&MI@Hq T:S+Pt~ 光线追迹仿真 U.UN=uv_ h_L-M}{OG t>><|~wp •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 "Q;n-fqf •单击Go! rmutw~nHD •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 [_ESR/&N 4)ez0[i$X "#^11 o8 )2C`;\/: 场追迹仿真 k,O("T[ <<K G S BKe~y •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 1i:l •单击Go! hkeOe
7:t+ H\AJLk2E g|8G!7O 场追迹结果(摄像机探测器) 6}A1^RB+w !\.x7N<)0 ax&, •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 7HzO_u%H1 •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 _n(O?M&x Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 hSE\RX 9 77"'?
B/g.bh~)q Hrm^@3 场追迹结果(电磁场探测器) /<)A!Nn+F V9f$zjpw
ju`x •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 _oxhS!.* iE>E*!aBg
Q)S0z2 文件信息 pq$`T|6^ pTPWToKh
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