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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 2;(W-]V?  
    Zw=G@4xoU  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 mZoD033H  
    -{x(`9H;  
    |^5/(16  
    `ut)+T V  
    建模任务 H`|0-`q  
    <c%n?QK{  
    z-Hkz  
    概观 _Xh=&(/8@  
    kyAs'R @z  
    !LSs9_w  
    光线追迹仿真 ,VG9)K 1K  
    HYIRcY  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 wixD\t59X  
    ZrcPgcF  
    •点击Go！ HTNA])G  
    •获得3D光线追迹结果。 03"#J2b  
    ; $6x=uZ  
     oP-;y&AS  
    c% yh(g  
    光线追迹仿真 {{zua- F  
    R#fy60  
    Q0SW;o7  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 a@k.$  
    •单击Go！ ] zIfC>@R  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     Zjt9vS)  
    7 s-`QdWX  
    P=pY8X:  
    z@n+7p`w  
    场追迹仿真 -&7=uRQk  
    u;(K34!)  
    hs,5LV)|y  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 V%o#AfMI_  
    •单击Go！     5Q;dnC  
    v['AB4  
    lYdQB[l  
    z=%IcSx;  
    场追迹结果（摄像机探测器） 0O^r.&{j>  
     yI *M[0  
    clC~2:  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 F]Pul|.l  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 .Wh6(LDY(  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 3liq9P_  
    ~CulFxu  
    \|Y{jG<cu  
     mR6E]TuM  
    场追迹结果（电磁场探测器） y,1S& k  
    }o{!}g9  
    ;\q<zO@x  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     =Y:5,.U  
    MsSoX9A{D  
    'H FwP\HX  
    文件信息 kU>#1 He  
    >Ziy1Dp  
     ?Ip$;s  
    =cknE=  
     AwA1&mh  
    QQ：2987619807 l`oT:  
     
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