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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 DPTk5o[  
    X#lNS+&='  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 sQvRupYRO  
    //U1mDFT  
    6<._^hyq  
    4hL%J=0:  
    建模任务 h'):/}JPl  
    /x6p  
    6lSz/V;  
    概观 4Z( #;9f  
    vxOqo)yO  
    Y$ ys4X  
    光线追迹仿真 f"QiVJq  
    qN)y-N.LI(  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 IOcQI:4.`  
    d(T4Kd$r  
    •点击Go！ %9J@##+  
    •获得3D光线追迹结果。 BBB@M  
    $ J`O-"M  
     MzJCiX^  
    G*fo9eu5$  
    光线追迹仿真 GM%+yS}(P  
    hmO2s/~  
    mgq!)  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 }}AIpYp,P  
    •单击Go！ /BL:"t@-  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     k$w~JO!s  
    .Pc>1#z&[  
    +I3jI <  
    $MQ}+*Wr  
    场追迹仿真 !eLj + 0  
    _ E;T"SC  
     +$dJA  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ~VGnE:  
    •单击Go！     m&UP@hUV-  
    Rh!UbEPjC  
    " O&93#8  
    rFRcK>X\L  
    场追迹结果（摄像机探测器） M!UTqf7XL  
     Xwm3# o.&)  
    Da=EAG-{7  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 MMM tB6  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ToXWFX  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 22`^Rsb,6L  
    X z+%Ym  
    ) r2Y@+.FN  
     8+zW:0"[  
    场追迹结果（电磁场探测器） :t}\%%EbmE  
    &`"DG$N(  
    g{8RPw]  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     YG "Ta|@5  
    BuJo W@)  
    Yh":>~k?SY  
    文件信息 3[YG BM(  
    vl"w,@V7  
     C"{^wy{sL  
    g9_zkGc7  
     z5+Pi:1w  
    QQ：2987619807 ]K=#>rZrB  
     
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