-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-03-05
- 在线时间1939小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 =5/9%P8j9 G6/p1xy>o: 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 -likj#Z YQHw1 Ta(Y:*Ri >qS9PX 建模任务 mz, U+:m4a *K|W
/'_& 概观 *AO,^R&e. 2R;}y7{ wO'TBP 光线追迹仿真 e1%/26\ $8UUzk •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 UTH*bL5/J2 F`gi_;c •点击Go! vk77B(u •获得3D光线追迹结果。 uE%r/:!k4$ 95 ;x=ju
7"sD5N/>uh fZ0M%f 光线追迹仿真 NdMb)l)m 7gj4j^a^]{ *5%d XixN •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 ABQ('#78 •单击Go! =]6%G7T •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 cAY: AtD fI&t] 06O2:5zF &dM.
d! 场追迹仿真 YC++&Nk c3jx+Q
OGK}EI •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 |bTPtrT8 •单击Go! sDPs
G5q< w,#>G07D zHA!%>%' ED=V8';D 场追迹结果(摄像机探测器) /]K^
rw[ ^2Fei.?T. oI
}VV6vO •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 #|L8tuWW •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 z@!`:'ak Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 U{2BVqM ULs\+U
*/sS`/Lx b$N2z 场追迹结果(电磁场探测器) >3p\m eD,.~Y#?= GeyvId03H •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ]{3)^axW; Of*Pw[vD
C 3^JAP 文件信息 \UPjf]& VCV"S>aVf
6wBx;y
| &XIt5<$~R t<#TJ>Le QQ:2987619807 uaT!(Y6
|