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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 -Z:]<;qU  
    >.DF"]XM  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 uL2"StW  
    l,*yEkU  
    LYd}w(}  
    !1ML%}vvB,  
    建模任务 dO>k5!ge|:  
    G{@C"H[$<  
    qSFc=Wwc  
    概观 XXa(305  
    4` '8fe/"  
    Um]p&phVL  
    光线追迹仿真 YniZ( ~^K  
    Ze-MAt  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 8|1`Tn}o  
    T?W[Z_D  
    •点击Go！ _LJ5o_-N  
    •获得3D光线追迹结果。 ~R :<Bw  
    PV?]UUc'n<  
     w- UKMW9"  
    VLf g[*k  
    光线追迹仿真 ?k [%\jq{a  
    (7IqY1W  
    Vo #:CB=8  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 7SBM^r}  
    •单击Go！ :ar?0  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     Uh>.v |P6  
    )8[ym/m  
    -u6}T!  
    ddo ST``G  
    场追迹仿真  M{] e5+  
    . 3Gn ZR,L  
    Z`rK\Bc  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 p lK=D#)  
    •单击Go！     pJd0k"{  
    yc*<:(p  
    ?$3r5sx  
    6^Ph '  
    场追迹结果（摄像机探测器） Y5HfN[u^7  
     (YIhTSL"]  
    {] O`g G  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 :v`o6x8  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 H6_xwuw:  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 JL.5QzA  
    C*7!dW6  
    Wdo#?@m  
     wa" uFW  
    场追迹结果（电磁场探测器） )7W6-.d  
    U| 8[#@r  
    )%s +?  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     )!cI|tovs  
    |=\91fP68`  
    Xem 05%,  
    文件信息 On4w/L9L5  
    N<(HPE};  
     kBbl+1{H  
    _ENuwBYW-  
     $&IpX M]  
    QQ：2987619807 p'&*r2_ram  
     
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