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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 =c(_$|0  
    Q7N4@w;e  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 G"5Nj3v d  
    ]i8K )/  
    PxfeU2^{0  
    fh b&_T  
    建模任务 {,]BqFXv  
    l#\z3"b  
    wTf0O@``6H  
    概观 _-o*3gmbQ  
    wf=#w}f  
    hIXGfvUy  
    光线追迹仿真 f8#WT$Ewy  
    28f-8B  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 Xd)ba9{  
    Ua5m2&U1  
    •点击Go！ T 2x~fiM  
    •获得3D光线追迹结果。 3${?!OC  
    _-%ay  
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    c72Oy+#  
    光线追迹仿真 @7u4v%,wB  
    ;wL *  
    d%t]:41=Z  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 C: kl/9M@  
    •单击Go！ Rb#Z'1D'G  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     )_GM&-  
    ]1)@.b;QR  
    >, 234ab=d  
    cuq7eMG6z  
    场追迹仿真 @tEVgyN  
    R>/M>*C  
    }ebw1G  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 |GdA0y\v*}  
    •单击Go！     w?jmi~6  
    g#9w5Q  
    Pu/0<Orp7  
    [O"i!AQ  
    场追迹结果（摄像机探测器） O<6/0ub&+h  
     jph~ g*Z  
    F#X\}MvEU  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 }2`S@Rq.WW  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 *VHBTO9  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 +FY-r[_~  
    :]y;t/   
    h,FP,w;G  
     ^>%=/RX  
    场追迹结果（电磁场探测器） "{z9 L+  
    1G.+)*:3  
    5CU< ?  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     g+ 2SB5 2D  
    T2Y`q'  
    OiM{@  
    文件信息 qhK;#<#  
    /rv XCA)j  
     ,J}lyvkd  
    P2`ks[u+i  
     <i]%T~\Af)  
    QQ：2987619807 lz{>c.Ll[  
     
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