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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 }36AeJ7L  
    qeMDC#N  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 6-\Mf:%B  
    >\K=)/W2  
    Y-})/zFc  
    4AL,=C3  
    建模任务 z9 0JZA  
    J3y _JoS  
    oOprzxf"+Z  
    概观 `]65&hWZL  
    '|gsmO  
    bYLYJ`hH<R  
    光线追迹仿真 \SmsS^z(]  
    ~U w<e~  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 vk|f"I  
    te[uAJ1 N  
    •点击Go！ d_(>:|o h  
    •获得3D光线追迹结果。 Vl+UC1M}B>  
    Vsi:O7|+ }  
     >e;jGk?-  
    (_#E17U)_  
    光线追迹仿真 346 z`5  
    1$DcE>  
     p[&J l  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 =ttD5 p  
    •单击Go！ t8Pf~v  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     s:'>G;p  
    ]a.e;c-  
    PI L)(%X  
    `<>#;%  
    场追迹仿真 }],l m  
    )-X8RRw'  
    ?J6Ek*E#  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 T7i>aM$+  
    •单击Go！     D0 k ,8|  
    gm5%X'XL  
    M>=@Z*u/+  
    *[cCY!+Qy  
    场追迹结果（摄像机探测器） ;m] nl_vg  
     6v{&,q  
    hfJ&o7Dt  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 PJ:!O?KVq  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 M5RN Z%  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 )j'Qi^;(D  
    A ___| #R  
    !DA4q3-U>>  
     9Znc|<  
    场追迹结果（电磁场探测器） sh,4n{+  
    enxb pq#  
    V %[t'uh  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     >4bw4 Z1  
    \a0{9Xx F  
    6t!=k6`1  
    文件信息 v@G&";|  
    =M:Po0?0E  
     `dF~'  
    msw'n  
     ;R&W#Q7>3  
    QQ：2987619807 :icpPv  
     
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