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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 ^rHG#^hA  
    R F)Qsa  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Q9Y$x{R&  
    *5kQ6#l  
    1$Jria5n  
    C4Tn  
    建模任务 u]D>O$_ s  
    \R m2c8Z2  
    [<2#C#P:6  
    概观 s,tZi6Z=%E  
    Z~JX@s0v  
    MS_@ Xe  
    光线追迹仿真 R')D~JJ<8a  
    72YL   
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 efK3{   
    .e^AS~4pl  
    •点击Go！ p1-bq:  
    •获得3D光线追迹结果。 5W T^;J9V  
    GzC=xXON  
     zF%'~S0{  
    DE0gd ux8  
    光线追迹仿真 w6B'&  
    ftL>oOz[  
    X2 Z E9b  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 -T s8y  
    •单击Go！ (c'=jJX  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     `u./2]n  
    #[4MwM3  
    I jK  
    v7V.,^6+  
    场追迹仿真 Mp8FYPjZ  
    FXAP]iqo  
    SP&Y|I$:  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 nJdO~0}3  
    •单击Go！     3eqVY0q  
    ;yc|=I ^  
    l7.W2mg  
    @V9qbr= Z  
    场追迹结果（摄像机探测器） Ab"mX0n  
     =:|fN3nJ2  
    1z4s1 Y  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 O_f+#K)  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ! uC`7a  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 af:wg]g  
    UUzu`>upB  
    z3RlD"F1  
     np>RxiB^  
    场追迹结果（电磁场探测器） Ar+<n 2;[  
    v}$s,j3NO  
    v(H CnC  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     dHcGe{T^(  
    rm-6Az V  
    QO'=O}e  
    文件信息 Y|s?9'z  
    vYYLn9}5  
     U?MKZL7  
    #4WA2EW  
     6l{=[\.Xa  
    QQ：2987619807 @.4e^Km  
     
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