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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 u#~RkY7s  
    3}1u\(Mf  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 T!{w~'=F  
    FV!q!D  
    e9tjw[+A  
    N"R]Yp;j  
    建模任务 Fo_sgv8O<  
    P+sW[:  
    kTB 0b*V  
    概观 B6 ;|f'e!  
    n@i HFBb  
    $PPi5f}HD  
    光线追迹仿真 \)[j_^  
    l)\! .X  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 00y!K m_D  
    "sCRdx]_  
    •点击Go！ 5qm`J,~k  
    •获得3D光线追迹结果。 ^ @5QP$.  
    _VN?#J)o  
     gf@:R'$:+  
    &z3o7rif$  
    光线追迹仿真 L*+@>3mu)  
    ^CX6&d  
    CRE3icXbQ  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 +'a^f5  
    •单击Go！ Avc%2 +  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     x9g#<2w8  
    ND;#7/$>  
    LL!Dx%JZ  
    m s \}  
    场追迹仿真 fr3d  
    WT=;:j  
    Q%G8U#Tm  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ?`ZU R& 20  
    •单击Go！     tWRC$  
    q} >%8;nm  
    h]gp^?=  
    >bW #Zs,6  
    场追迹结果（摄像机探测器） oPM96 (  
     PZ9I`P! C  
    R 9\*#c  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 /x$nje,.  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 H{wl% G  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ?tbrbkx  
    c@7rqHU-0  
    R/YqyT\SM  
     .q>iXE_c  
    场追迹结果（电磁场探测器） }7Q%6&IR  
    '=pU^Oz<}  
    L,!?Nt\  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     L8B! u9%  
    0l6.<-f{  
    ?caSb =f  
    文件信息 y6a3t G  
    Zy/_ E@C}u  
     ;Y, y4{H3  
    *EH~_F  
     fJg+Ryo  
    QQ：2987619807 2+XA X:YD  
     
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