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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 P;&rh U^[  
    J 4$^Hr  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 9Fe(],AzF  
    TBfX1v|Z)  
    O1/U3 /2/d  
    ^y@ RfM=A  
    建模任务 go, Hfb  
    ;WQ@dC  
    us&!%`  
    概观 jTNfGu0x  
    x\=2D<@az  
    =AFTB<7-^  
    光线追迹仿真 ~Rzn =>a  
    }$K2h*  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 UWdPB2x[  
    \bt+46y@]  
    •点击Go！ ,hj5.;M  
    •获得3D光线追迹结果。 )I80Nq  
    %G%##wv:  
     U @Il:\I  
    u$%>/cv  
    光线追迹仿真 $}d| ~q\  
    =-M)2&~L~  
    njk.$]M|nf  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Kt WG2  
    •单击Go！ {VC4rA  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     Q AJX7  
    >wK ^W{  
    B,SH9,  
    LEM{$Fxo&  
    场追迹仿真 gf!hO$sQ3  
    0y$aGAUm  
    a8T<f/qW k  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 '1)BZ!  
    •单击Go！     &"dT/5}6  
    Bp3%*va  
    NI eKS_ +  
    ^(ks^<}  
    场追迹结果（摄像机探测器） !GkwbHr+p  
     RUTlwTdv  
    G"CV S@  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 QK0  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 15Vb`Vf`N  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 W_EM k  
    [/#c9RA  
    2e}${NZN  
     fP`g#t)4Tu  
    场追迹结果（电磁场探测器） $tyF(RybG  
    ^/ K\a ,  
    & z;;Bx0s  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     M.K-)r,  
    n{F$,a  
    :sRV]!Iw  
    文件信息 $'3`$   
    W G2 E3y  
     .I{b]6  
    <dx xXzLT  
     !dfc1UjB  
    QQ：2987619807 k%\_UYa  
     
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