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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 s }q6@I  
    Hs<vCL \  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 QSf{V(fs  
    UX=JWb_uGm  
    ;3NA,JA#Y  
    O G#By6O  
    建模任务 `-S6g^Y  
    V}ZF\SG(K  
    S5]rIcM  
    概观 %76N$`{u  
    U]Q2EL\%  
    O [GG<Um  
    光线追迹仿真  lTsl=  
    `V[{(&?,n  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 >_h*N H  
    {4tJT25  
    •点击Go！ *,!6#Z7  
    •获得3D光线追迹结果。 cMxTv4|wui  
    *b9=&:pU(  
     G&MI@Hq  
    T:S+P t~  
    光线追迹仿真 U.UN=uv_  
    h_L-M}{OG  
    t>><|~wp  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 "Q;n-fqf  
    •单击Go！ rmutw~nHD  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     [_ESR/&N  
    4)ez0[i$X  
    "#^11o8  
    ) 2C`;\/:  
    场追迹仿真 k,O("T[  
    <<K GS  
    BKe~ y  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 1i:l  
    •单击Go！     hkeOe  
    7:t+  
    H\AJLk2E  
    g|8G!7O  
    场追迹结果（摄像机探测器） 6}A1^RB+w  
     !\.x7N<)0  
    ax&,  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 7HzO_u%H1  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 _n(O?M&x  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 hSE\RX 9  
    7 7"'?  
    B/g.bh~)q  
      Hrm^@3  
    场追迹结果（电磁场探测器） /<)A!Nn+F  
    V9f$zjpw  
    j u`x   
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     _oxhS!.*  
    i E>E*!aBg  
    Q)S0z2  
    文件信息 pq$`T|6^  
    pTPWToKh  
     XqMJe'%r  
    > f,G3Ay  
     XhjH68S(  
    QQ：2987619807 tWy0% -  
     
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