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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 E{vbO/|kf  
    #\ErY3k6&  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 %a7$QF]  
    k}rbim  
    qe\5m.k  
    A@u@ift  
    建模任务 7xR\kL.,  
    ;9#KeA _  
    0"SU_j Qzv  
    概观 fV~[;e;U.  
    h2QmQ>y"  
    ?q [T  
    光线追迹仿真 G!yP w:X  
    $:^td/p J  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 q.}CU.dp  
    2Khv>#l  
    •点击Go！ ee=D1qNu;  
    •获得3D光线追迹结果。 |':{lH6+1  
    _e2=ado  
     d_P` qA  
    u%!@(eKM-  
    光线追迹仿真 nr3==21Om4  
    ~>XxGjxe  
    [N'h%1]\  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 O".=r}  
    •单击Go！ qxj(p o  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     wgA_38To  
    !`r$"}g  
    e}W)LPR!  
    k;W XB|k  
    场追迹仿真 5-A\9UC*@  
    e#q}F>/L  
    dF2RH)Ud  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ")25 qZae  
    •单击Go！     o !7va"  
    C9;kpqNG#u  
    t`QENXA}  
    %jM,W}2  
    场追迹结果（摄像机探测器） *lb<$E]="!  
      =BrRYA  
    6H|S;K+  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 T]$U""  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Vw"\{`  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 % u6Sr5A[s  
    `y0FY&y=  
    048kPXm`  
     _vZOZKS+  
    场追迹结果（电磁场探测器） )`}:8y?  
    :Tq~8!s  
    %XTI-B/K  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     :@&/kyGH  
    Q@HV- (A  
    g,Y/M3>(  
    文件信息 B erwI 7!=  
    g=I})s:CTp  
     .|=\z9_7S8  
    O H7FkR  
     2TuU2 f.  
    QQ：2987619807 jFb?b6b  
     
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