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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 Ie[8Iot?bn  
    $cxulcay=  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 5gPcsn"D  
    -xc*R%k  
     4|9c+^%^  
    B~ o;,}  
    建模任务 =-r[ s%t &  
    'n9<z)/,!  
    V?a+u7*U&  
    概观 @C]Q;>^|  
    t_-1sWeA!  
    yj6o533o  
    光线追迹仿真 3=reN6Q  
    >>**n9\q  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 bF#*cH  
    | Vtd !9  
    •点击Go！ |]d A`e&y  
    •获得3D光线追迹结果。 7g}lg8M  
    N6"b Ox J(  
     ~i4h.ZLj  
    6[dLj9 G%  
    光线追迹仿真 FJ|6R(T_  
    z"b}V01F#  
    S}/?L m}  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 y&HfF~  
    •单击Go！ 6/m|Sg.m  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     L8&$o2+07r  
    l Ikh4T6i  
    D5wy7`c  
    z$VA]tI(  
    场追迹仿真 VOkEDH  
    jm_b3!J  
    1ke H1[  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 IA\CBwiLj  
    •单击Go！     JMMT886  
    gy Jx>i  
    pZS0;T]W,  
    q K sI}X~  
    场追迹结果（摄像机探测器） U#I 8Rd I,  
     ]wH,534  
    vo9DmW  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Op&i6V}<s  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 p[Pa(a,B7  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 U>bmCK2  
    8n.sg({g  
    As$:V<Z  
     y;)j  
    场追迹结果（电磁场探测器） ax]Pa*C}  
    *} pl  
    <5 R`E(  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     3D)gy9T&l  
    >vDa`|g  
    Y#>'.$ (Az  
    文件信息 %h)6o99{wF  
    )20jZm*  
     cs]N%M^s  
    .AIlv^:|U  
     y4%u< /  
    QQ：2987619807 3{gD'y4j  
     
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