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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 795Jwv  
    27E9NO=  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 5Sjr6l3Vq8  
     /E{dM2  
    koEX4q  
    0SY f<$  
    建模任务 Z\=04[  
    .d~]e2x  
    rH&r6Xv[  
    概观 K+@eH#Cv,(  
     Ep\  
    EhIV(q9x  
    光线追迹仿真 A?IZ( Zx(`  
    ocl47)  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 A` o?+2s_  
    3_\{[_W  
    •点击Go！ De nt?  
    •获得3D光线追迹结果。 vf'cx:m  
    8S1P&+iKs  
     UhSh(E8p>  
    @bW[J  
    光线追迹仿真 RJRq` T|m  
    y^!E "  
    ?wLdW1&PpX  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 _D>as\dP  
    •单击Go！ 833 %H`jQc  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。      H\=LE  
    ^0Q=#p  
    \U!@OX.R'M  
    F8[B^alAe  
    场追迹仿真 %]chL.s  
    %|*nmIPq(  
    C,{F0-D  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 y^ X\^Kq  
    •单击Go！     ~[zFQ)([  
    "B9[cDM&  
    MjQ[^%lfL  
    =|E 09  
    场追迹结果（摄像机探测器） 3'[Rvy{  
     ;V(H7 ZM  
    -7I1Lh#M  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 a1g6}ym\  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 y8w0eq94  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ha|@ X p  
    \-Iny=$  
    ~JwpNJs  
     }z%OnP  
    场追迹结果（电磁场探测器） I%}L@fZ  
    Vl{~@G,@  
    @PPR$4  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     Xr?>uqY!M  
    9Hf*cQ  
    `E} p77  
    文件信息 W!/vm  
    t1e4H=d>  
     x?,~TC4  
    zBk_-'z  
     Gr5`1`8|  
    QQ：2987619807 T[0V%Br{d+  
     
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