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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 ' %OQd?MhL  
    +7o3TA]-  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 GljxYH"]#  
    ;0}$zy1EZ  
    ~fs{Ff'  
    >.PLD} zE_  
    建模任务 H!&]Di1Eh  
    S,vrz!'>A  
    (@O F Wc"p  
    概观 9p(s FQ [  
    !wvP 24"y  
    fk P@e3  
    光线追迹仿真 :9c QK]O6  
    'R~x.NM  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 3bpbk  
    !O)Ruwy  
    •点击Go! :n>m">4  
    •获得3D光线追迹结果。 r M'snW)  
    GS~jNZx  
    DI9x] CR  
    1bd(JL  
    光线追迹仿真 c3!d4mC:  
    ,g{`M]Ov  
    B4GgR,P@S  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 uI-te~]  
    •单击Go! E<'3?(D9hL  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    (ui"vLk8PP  
    of8/~VO  
    " 9 h]P^  
    M'HmVg4'  
    场追迹仿真 h5x FP  
    2M= gpy  
    ,;H)CUe1"  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 w^NE`4 -  
    •单击Go!
    sju. `f>-r  
    //>f#8Ho  
    LwkZ(Tt  
    4'?kyTO~  
    场追迹结果(摄像机探测器) e0+N1kY  
    Am!$\T%2  
    !u~( \ Rb;  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 z`xdRe{QP  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 hFZ7{pj  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 D^I%tn=F  
    G*mk 19Z  
    ?A2#V(4  
    WWc{]R^D  
    场追迹结果(电磁场探测器) xg/3*rL  
    OYgD9T.8^  
    ]U! ?{~  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    U8?QyG 2A  
    7:R8QS9  
    %[-D&flKC  
    文件信息 |JSj<~1ki  
    z(aei(U=  
    V3xC"maA@  
    /'u-Fr(Q+  
    eFp4MD8?  
    QQ:2987619807 7P?z{x':T  
     
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