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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 ?d<:V.1U@  
    TRLeZ0EC  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 !rg0U<bO!  
    m->%8{L  
    $|(|Qzi%  
    4AOS}@~W  
    建模任务 YeC,@d[  
    F/*fQAa"  
    mN{ajf)@  
    概观 _qt;{,t  
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    8TZA T%4  
    光线追迹仿真 f WjS)  
    hlFU"u_  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 -`dxx)x  
    Kn#xY3W6  
    •点击Go！ qM>OE8c#/  
    •获得3D光线追迹结果。 $Kz\ h#}  
    :F>L;mp  
     udD* E~1q  
    h:jI  
    光线追迹仿真 /;nO<X:XV  
    ~5 pC$SC6>  
    l8xd73D)8  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 aC yb-P  
    •单击Go！ 1gShV ]2  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     9`C iE  
    )SL@ >Cij  
    CDW(qq-zD  
    vQYfoam;  
    场追迹仿真 |g\.5IM#W  
    7 Mki?EG  
    |:=b9kv  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 \e:FmG  
    •单击Go！     k[ffs}  
    t6bWSz0  
    )_ b@~fC  
    =*:[(Py1  
    场追迹结果（摄像机探测器） /ik)4]>  
     <Xs @ \  
    [wy3Ld  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ;h-G3>Il  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 O5TK&j  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 vQBY1-S  
    W}R=  
    >b4YbLkI#  
     GrLM${G  
    场追迹结果（电磁场探测器） "`jZ(+  
    BBU84s[  
    K*Nb_|~  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     Xw*%3'  
    E%k ]cZ  
    uF]D  
    文件信息 .}$`+h8W T  
    L^5&GcHP0  
     lNh=>D Pu  
    igRDt{}  
     ^b"x|8  
    QQ：2987619807 K{= r.W  
     
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