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摘要 ZTQ$Ol+{q &LCUoTzj 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 ;']vY _ 4~ng#M* 7i-W*Mb: ir?Uw:/f 建模任务 u\Nw:Uu i 9pVf2|5hj ROJ'-Vde9 概观 x?k afxj[;p! 5~`|)~FA 光线追迹仿真 +t7c&td\ hO+O0=$}wN •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 +Op%,,Db *@\?}cX •点击Go! yS:IRI. •获得3D光线追迹结果。 8I5 VrT 7$q2v=tH_
vWnHC ? e9XVQ* 光线追迹仿真 h 7(H%(^_ bWX[<rh' aIzp\$NWVK •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 >/kPnpJ •单击Go! :=iM$_tp' •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 Ov~S2?E8 0I(GB;E =0@d|LeZ ;qT!fuN; 场追迹仿真 'b=eC
+ e5 ^| FVc48{ •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 1A`?y&
Ll •单击Go! C]\^B6l< 6*(h9!_T1 ^B&ahk X-G~/n-x 场追迹结果(摄像机探测器) 7tf81*e Ul$X% lt2Nwt0bv •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 G+ $)W
u •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 !"Oj$c
- Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 /C,> gT5Ji~xI
!5E%W[ 7=QC+XSO 场追迹结果(电磁场探测器) P$(iB.& [FAOp@7W `:bvuc( •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 v8'`gY [MQJ71(3
XTi0,e]5{u 文件信息 r0?hX [A%e6
>jrz;r o7@4=m} ^qId]s QQ:2987619807 } TX'Z?Lq
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