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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 >#pZ`oPEAv  
    r xlKoa  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 E}-Y!,v^  
    l-/fFy)T  
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    ::<v; `l  
    建模任务 +"P!es\q  
    MKiP3kt8  
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    概观 Lp1\vfU<+  
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    光线追迹仿真 /Py1Q  
    {KQ]"a 6  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 #!yW)RG  
    ]7|Zs]6  
    •点击Go！ {wK| C<K  
    •获得3D光线追迹结果。 I \Luw*:  
    8%\0v?a5  
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    :<QmG3F  
    光线追迹仿真 .#Vup{.  
    8u|F %Sg  
    sa?Ul)L2  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 QZZt9rA;  
    •单击Go！ ",, W1]"%  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     9_Ws8nE  
    B!j7vXM2  
    !pJd^|4A]  
    BmhIKXE{*  
    场追迹仿真 GS)4,.  
    ORDVyb_x  
    fk5$z0/  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Fo.p}j+>  
    •单击Go！     ][?@) )  
    ` zoC++hx  
    T8t_+| ( G  
    HSG7jC'_  
    场追迹结果（摄像机探测器） /:GeXDJw  
     !5^&?plC@  
    `z1E]{A  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Ne b")  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 "K)ue@?  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 2~B9 (|  
    o=)["V  
    B;Dl2k^L  
     yM PZ}  
    场追迹结果（电磁场探测器） EvGKcu  
    hd%O\D?  
    P9f,zM-  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。      k:i}xKu  
    ;!:@3c  
    @AfC$T  
    文件信息 qBDhCE  
    jccSjGX@w  
     8{B]_: -:  
    CFW#+U#U  
     g;-6Hg'  
    QQ：2987619807 spG3"Eodi  
     
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