-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-01-14
- 在线时间1914小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 !}mM"|< e
GAto 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 9;*B*S~znW TRgj`FG _W Hi<,- =<(6yu_ 建模任务
qOD^P (@BB@G |w~*p
N0 概观 s 64@<oU<" @QpL*F R'_F9\ 光线追迹仿真 C.u)2[( UaXIrBc •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 asvM/ 9 R-iWbLD •点击Go! Ea" -n9 •获得3D光线追迹结果。 Y^#>3T 'g<FL`iP
W>CG;x{ ;&w_.j*Is 光线追迹仿真 %dd B$(
_jCu=l_ E_D@7a •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 xOxyz6B\ •单击Go! m=iKu(2xRq •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 *g'%5i1ed +*qTZIXj Sng3 B BG-nf1K( 场追迹仿真 A$zC$9{0I GVu-<R R6GlQ G •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 <pT1p4T< •单击Go! \@NnL\t
u cE,,9M@^ ZD?LsD 3 >Zm|R|{BE 场追迹结果(摄像机探测器) 8"wavh|g4 Z2]\k|%<Fa >I/~)B`jhE •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 1OK~*=/4 •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 S6yLq|W0 Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 L6=5]?B= !r*JGv=
O~Dm|hP kQ6YQsJ.* 场追迹结果(电磁场探测器) wD pL9 q tD,~i"0; unN*L •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 EF6"PH+J@ !1+!;R@&H>
:WSszak 文件信息 i@YM{FycX Oh=Kl3xs
#@uF?8u `C*psS f1Gyl QQ:2987619807 f5CnJhE|)
|