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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 O^~nf%  
    I 'ha=PeVn  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 {(d 6of`C_  
    ziQ&M\  
    xd`\Ai  
    LmKY$~5P  
    建模任务 QNZ#SG8  
    5z.Y}  
    KO))2GET  
    概观 0,cU^HMA  
    S""F58 H n  
    w,1*dn  
    光线追迹仿真 0Y!~xyg/  
    US<l4  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 8%Ak   
    EO/TuKt  
    •点击Go！ Gl4f:`  
    •获得3D光线追迹结果。 #Fh:z4  
    AI$\wp#aw  
     :?gp}.  
    ^_=bssaOd  
    光线追迹仿真 `nd$6i^#W  
    Nm#[A4  
    Rz<'& Z>;  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Wm!cjGK  
    •单击Go！ e=ry_@7  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     G,b*Qn5#  
    /vLW{%  
    c`UizZ  
    nKch:g  
    场追迹仿真 G#.q%Up  
    &8JK^zQq  
    `cFNO:  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 w*7wSP  
    •单击Go！     dlDO?T  
    v|rBOv  
    I7;|`jN5K  
    xE6hE'rh.O  
    场追迹结果（摄像机探测器） .bNG:y>  
     N1JM[<PP  
    qKI)*o062  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 'Z6x\p  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 C!|Yz=e  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 g7v(g?  
    gq.l=xS  
    x.q"FXu  
     H6M G5f_  
    场追迹结果（电磁场探测器） q]Af I(  
    V?n=yg  
    @lCyH(c%  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     aco w  
    PebyH"M(  
    4mm>6w8NT  
    文件信息 tPFj[Y~Iy  
    1-s G`%  
     Z)<lPg!YAR  
    .i3_D??  
     G54`{V4&s  
    QQ：2987619807 sc y_  
     
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