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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 ukzXQe;l1  
    rQ@,Y"  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 f+-w~cN  
    S!up2OseW  
    ?Ju=L|  
    wa@X^]D8  
    建模任务  oC >^V5  
    (E\7Ui0 Q  
    Kc}FMu  
    概观 Z!^iPB0~D  
    -QI1>7sl  
    oIQor%z  
    光线追迹仿真 O9:vPbn  
    e J2wK3R  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 T1\.~]-msb  
    Bn-%).-ED  
    •点击Go！ }7wQFKME  
    •获得3D光线追迹结果。 H:a(&Zb  
    yrE|cH'f0  
     [[LCEw  
    N}pE{~Y  
    光线追迹仿真 yngSD`b_P  
    J:M^oA'N:>  
    d=Q0 /sI&  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 &HT P eB  
    •单击Go！ 11%^K=dq  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     k0{Mq<V*%  
    oT_k"]~Q~2  
    ;UArDwH  
    M5[AA/@  
    场追迹仿真 UXR$7<D+  
    p`T7Y\\#!  
    h9 [ov)  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ,d&~#W]  
    •单击Go！     `?2S4lN/  
    !!DHfAV]  
    bUU_NqUf*3  
    Wd3/Y/MD  
    场追迹结果（摄像机探测器） {UvZ  
     7z5AI!s_  
    ` ~VV1  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 yLipuMNV  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ]* ':  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 nhiCV>@y  
     gX.4I;  
    +p>tO\mo  
     n;/yo~RR  
    场追迹结果（电磁场探测器） AQ'~EbH(  
    > ~J&i3  
    sMs 0*B-[  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     M,3sK!`>  
    ~eA7:dZLb  
    [Xg?sdQCI  
    文件信息 D-69/3PvP  
    [8l8 m6  
     ikw_t?  
    bX=A77  
     BJB'o  
    QQ：2987619807 [?.k8;k  
     
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