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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 . t~I[J\<  
    bAW;2 NB  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 @&2T0UB  
    Kh5:+n_X  
    u' r ;-|7  
    DU[UGJg  
    建模任务 2+Fq'!  
    U+'?#" J8(  
    o >W}1_  
    概观 x^C,xP[#Y;  
    ]jy6C'Mp  
    #s]]\  
    光线追迹仿真 k_y@vW3  
    =e ;\I/  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 }>p)|Y T"/  
    \x|(`;{  
    •点击Go！ 3J [P(G>Q  
    •获得3D光线追迹结果。 f[dwu39k  
    0TVO'$Gvi  
     VW'e&v1.  
    YjsaTdZ!&  
    光线追迹仿真 `T~M:\^D  
    m =opY~&h  
    @9QHv  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 =fRP9`y  
    •单击Go！ us5`?XeX]  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     S"}FsS;k<?  
    }uZh oA  
    t#<q O6&B  
    F1/f:<}  
    场追迹仿真 qdcCX:Z<  
    /] R]7  
    ?EYF61? rw  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ~v<r\8`OI2  
    •单击Go！     z3a te^PJF  
    tfdP#1E  
    nYE_WXY3V  
    ~){*XJw6  
    场追迹结果（摄像机探测器） h`5au<h<  
     Ujw ^j  
    !7}5"j ;A  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 i:W oT4  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 &5zUk++  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ;E##bdSCA  
    w8@ Ok_fj  
    ,Cx5( ~kU  
     'g ,Oi1|~  
    场追迹结果（电磁场探测器） N|Rlb5\  
    ;9;.!4g/T  
    5 bMVDw/  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     \yM[?/<  
    iVmf/N@A|  
    9hLPo  
    文件信息 ~A"ODLgU9  
    N*@bJ*0  
     $`]<4I9d  
    TmO\!`  
     Iy e  
    QQ：2987619807 ?(ks=rRK  
     
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