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摘要 {`Z)'G\` _F EF+I 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 M3kE91 x6tY _lzJ cf'Z#NfQ A-$BB=Ot 建模任务 2ZeL 5?MvO]_ k:xV[9ev: 概观 +s}28U! B=Os?'2[ }tPl?P'` 光线追迹仿真 ](D [T Yw<:I& •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 Wg1WY}zG )frtvN7 •点击Go! U\{Z{F%8 •获得3D光线追迹结果。 {Se93o ffVYlNQ7L
xWm'E2 8ic_|hfY 光线追迹仿真 mUbaR bJD"&h5 =Yk$Q\c •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 ez>@'yhK •单击Go! m}(DJ?qP •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 fZO/HzX KWo)}m*6 4`F*] Ft 8Bvjj|~ (@ 场追迹仿真 ^-_!:7TH] $;1~JOZh u4'Lm+&O •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 d\f5\Y •单击Go! D 4wB
&~U K\q/JuDfc eC-TZH@ "e"`Or 场追迹结果(摄像机探测器) ^ytd~iK8 Ft}tIP7 j;
C(:6#J •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Y>+D\|%Q •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 n_<]9 Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 ^9nM)[/C? o%.cQo=v*
rSk $]E ]Z "n:9JqPb 场追迹结果(电磁场探测器) 83a
Rq&(R b/EvcN8 } `dK\VK^ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 M: 6cma5 \Mi< ROp5
`6A"eDa 文件信息 82vx:*Ip!} bCF63(0
LHz{*`22q \WTg0b[ weOMYJO;8 QQ:2987619807 ZttL*KK
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