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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 *4]u?R  
    er<yB#/;-  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 \YXzq<7  
    SZVNu*G!H  
    <%d/"XNg[D  
    ~SKV%  
    建模任务 awYnlE/Z1  
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    ;U+4!N  
    概观 0j{Rsy   
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    *u J0ZO9  
    光线追迹仿真 v)+E!"R3.  
    c? Z M<Y"  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 8PKUg "p  
    ANIx0*Yl(  
    •点击Go！ +pcGxje\  
    •获得3D光线追迹结果。 V\1pn7~V  
    <Z b~tYp  
     ~PaEhj&8  
    Sj=x.Tr\  
    光线追迹仿真 Nuc;Y  
    xxnvz  
    4F[4H\>'  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 zWs ("L(#s  
    •单击Go！ ~&}e8ah2  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     E`0mn7.t  
    asEk 3  
    #)3luf3G  
    k7L-J  
    场追迹仿真 #uRj9|E7  
    (5rfeSA^  
    \v\f'eQ  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 t,bQ@x{zVC  
    •单击Go！     H18.)yHX  
    $O'IbA  
    0|i3#G_~  
    [SKN}:D  
    场追迹结果（摄像机探测器） `[)!4Jb  
     Zk:Kux[7  
    "26=@Q^Y  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 s(.H"_ a  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 DXI{ jalL  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 !B*l'OJw  
    c1Rn1M,2k  
     i)!2DXn  
     !VDNqW  
    场追迹结果（电磁场探测器） Be$v%4  
     `1`Qu!  
    0 s$;3qE  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     `=Z3X(Kc  
    GQH15_  
    z7X,5[P  
    文件信息 zG* >g  
    9$q35e  
     xY d]|y  
    Fp&tJ]=B.  
     {j8M78}3  
    QQ：2987619807 pN4gHi=  
     
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