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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 wD<vg3e[H  
    &q4ox71  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 McT\ R{/  
    J Z %`%rA  
    PzIy">plm  
    ijvNmn1k  
    建模任务 @ \!KF*v  
    W:`5nj]H9  
    e ZynF<i  
    概观 jv*Dg (  
    rU; g0'4e  
    S8*^ss>?^R  
    光线追迹仿真 AU0$A403  
    S#P+B*v  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 ,"@w>WL<9  
    (YAI,Xnw  
    •点击Go! uAp -$?  
    •获得3D光线追迹结果。 hA@zoIoe  
    GMEw  
    TRSOO}  
    nA>*IU[  
    光线追迹仿真 uPFRh~ (b  
    M_tj7Q3 W  
    (})]H:W7  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 1T!cc%ah  
    •单击Go! ''_,S,.a20  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    USE   
    5_v5  
    0o;k?4aP.c  
    $X`bm*  
    场追迹仿真 _i-\mR_~  
    1W*V2`0>  
    Z/xV\Ggx  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 w-J"zC  
    •单击Go!
    !{ $qMhT  
    5 RW@_%C  
    ex.+'m<g  
    -y%QRO(  
    场追迹结果(摄像机探测器) v,n);  
    VxNXd?  
    V:(y*tFA  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 JK[T]|G  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 m[8IEKo  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 eUYZxe :6  
    2>g^4(  
    xne]Q(B>  
    miwf&b  
    场追迹结果(电磁场探测器)  Kr S  
    I[@ts!YD  
    *K`x;r  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    wqcDAO (  
    [U swf3  
    RZ*<n$#6  
    文件信息 [@ILc*2O  
    SBC~QD>L+  
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    gglf\)E;}E  
    YDW|-HIF  
    QQ:2987619807 ]7*kWc2  
     
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