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摘要 /d >fp 5hp b=2 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 7@vcQv
kC y( MF_'l _V{WXsOx( %'* |N[ 建模任务 .@APxeU \+MR`\|3 \FTvN 概观 DI}h?Uf , _uHyE }d 4:<0i0)5 光线追迹仿真 hBE}?J> ~9oS~fP?I •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 ~|J6M eOn,`B1 •点击Go! (p14{ •获得3D光线追迹结果。 %e%nsj6 o D*
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nfDPM\FFD 光线追迹仿真 v!F(DP.)Z 4g1u9Sc0 JpDYB •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 z7P PwTBa •单击Go! $zmES tcm •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 C
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5Ll[vBW Gs?W7}<$ 5Ij_$a 场追迹仿真 Op%^dwVG(v :{66WSa@Dd F'j:\F6C; •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 K.z}%a •单击Go! e-}PJ%!,T \R-u+ci$ZY x(b&r g.-0 %okEN!= 场追迹结果(摄像机探测器) i^IvT *Nt6 Ufq6 >M1/m=a •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 x:2[E- •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 AN~1E@" Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 J)fS2Ni+ VS).!;>z
K5.C*|w F}01ikXDb' 场追迹结果(电磁场探测器) X2e|[MWkp ;c>Yr?^ &e rNVD5o •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 +bO{UC[ 7k$8i9#
d;;=s=j 文件信息 q$t& *O_ ,DE%p
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?APzx@$D. R*[ACpxr Lw#hnLI. QQ:2987619807 lT:<ZQyjT
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