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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 [Oy5Td7[  
    "iY=1F"\R  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 _}(ej&'f  
    CDTM<0`%  
    {*J{1)2  
    2[qlEtvQ  
    建模任务 _]# ^2S  
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    概观 >2w^dI2  
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    #N'W+M /  
    光线追迹仿真 &?xZ Hr`  
     YXr"  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 qoXncdDHZ  
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    •点击Go！ 08TeGUjJ  
    •获得3D光线追迹结果。 #[C=LGi  
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    ^E^Cj;od@  
    光线追迹仿真 _`(WX;sK  
    vz-O2B_u  
    )IH|S5mG?  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 d1rIU6  
    •单击Go！ vRQ7=N{3  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ecRY,MN  
    ?\.aq p1B  
    7} 2Aq  
    iYk4=l  
    场追迹仿真 fT.GYvt`  
    :|tWKA  
    iir]M`A.-  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 T7bD t  
    •单击Go！     (6Tvu5*4U  
    _sGmkJi]  
    ;0c -+,  
    -FGQn |h4  
    场追迹结果（摄像机探测器） e: aa  
     t0*,%ge:<  
    t) :'XGk@  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ~0 Ifg_G  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 /)<x<7FKW  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 p9`!.~[  
    &xYO6_.  
    KW1b #g%Z  
     ._i|+[  
    场追迹结果（电磁场探测器） w 4fz!l]  
    W:gpcR]>  
    Ump$N#  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     z?DI4 O#Up  
    _ / >JM0  
    lIUaGz|  
    文件信息 &{uj3s&C   
    Bgvv6(i  
     G8t9Lx  
    wJ%;\06  
     * ",/7(  
    QQ：2987619807 ]~K&b96(  
     
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