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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 Qqb%^}Xx'u  
    (1er?4  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 A9DFZZ0  
    "AMwo(Yi  
    '5T:*Yh  
    8?EKF+.u|  
    建模任务 ],R\oMYy|P  
    <R2SV=]Sq#  
    }L{GwiDMDl  
    概观 @wAYhnxq  
    n~w[ajC/  
    4T)`%Oo<}  
    光线追迹仿真 DBvozTsF~  
    /!"sPtIh  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 V*%><r  
    UY.o,I> s  
    •点击Go! 9K&YHg:1  
    •获得3D光线追迹结果。 UAI'tRY N_  
    )&)tX.  
    %_5?/H@%3z  
    m9 D*I1  
    光线追迹仿真 @Y9tkJIt  
    9a1R"%Z  
    _a?x)3\v  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 vHPsHy7y  
    •单击Go! b|k(:b-G&.  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    pwVGe|h%,  
    XK0lv8(  
    sFgsEKs  
    sC :.}6  
    场追迹仿真 ~me/ve  
    1F2(MKOo!  
    KlwB oC/{K  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 /(s N@kt  
    •单击Go!
    vsq |m 5  
    vBY?3p,0p  
    Qq.Ja%Zq  
    d.U"lP/)D  
    场追迹结果(摄像机探测器) vhU $GG8  
    -7I %^u  
    KC<K*UHPAH  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 01%0u8U  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 >dDcm  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 sk t9mU  
    W{}M${6&  
    E|VTbE YG  
    j2hp*C'^  
    场追迹结果(电磁场探测器) ~Bt >Y  
    gPpk0LZi  
    7<5=fYb r  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    B-$ps=G+z  
    Fdx4jc13w  
    _#<7s`i  
    文件信息 *>lXCx  
    +5Y;JL<%/  
    91FVe  
    1HRcEzA  
    Gx%f&H~Z^  
    QQ:2987619807 Oj7).U0;#  
     
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