-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-02-27
- 在线时间1930小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 7wnzef?) e{O5y8, 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 W7
E-j+2 c%dy$mkqgK pWp2{G^XB vP2QAGk< 建模任务 !RD,:\5V vOS0E^ &|4Uo5qS=Z 概观 E.3}a>f ,+RO 5n )X/Faje 光线追迹仿真 K_aN7?#.v` mI0r,Z*+M •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 ,W-0qN&%/ <j#EyGAV •点击Go! *J=ol •获得3D光线追迹结果。 a< EC]-nw ""d>f4,S
Y Pc< SDwSlwf 光线追迹仿真 z,)sS<t( $yAfs3/%)s ihWz/qx&q •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 \_E.%K •单击Go! WdAGZUp •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 &>{>k<z 4:'] 'E .7FI% dWy1=UQfP 场追迹仿真 4QNR_w MDPM OA 3Y-v1.^j •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 E2|iAT+=. •单击Go! G,-OH-M! }D+8K xW =$j| r<v%Zp 场追迹结果(摄像机探测器) Ji[g@# HqBPY[;s ][nUPl •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 NO^t/(Z •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 u2]g1XjeG Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 DZRxp, %
eRwH
>
'.yWL MF}Lv1/[-J 场追迹结果(电磁场探测器) Ba0D"2CgY kVnyX@ |vz;bJG •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 sjgR \`AU _kN%6~+U
&o@5%Rz2/ 文件信息 i(;-n_:,` >;v0zE
HDyZzjgG "v!HKnDT gc3 U/
jM QQ:2987619807 ~q(C j"7
|