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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 0+$gR~^^  
    z'$1$~I  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 @v ^j<B  
    Uavl%Q  
    T]Ai{@i  
    !&hqj$>-}  
    建模任务 G%: 3.:E"  
    DBB&6~;?  
    jLt3jN  
    概观 W[*xr{0V  
    Y1I)w^}:  
    <=&$+3r  
    光线追迹仿真 bKGX> %-  
    $C5*@`GM$  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 K)mQcB-"?  
    9$z$yGjl  
    •点击Go！ |u^S}"@3sU  
    •获得3D光线追迹结果。 DE/SIy?  
    *j&)=8Y|   
     [%^sl>,7  
    M @-:iP  
    光线追迹仿真 WEe7\bWF  
    cPuXy e  
     jF0"AA  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ?YS>_ MN  
    •单击Go！ +llb{~ZN  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     86 e13MF  
    >FwK_Zd'  
    Sk>=C0f:  
    Z;81 "   
    场追迹仿真 k:run2K  
    $1|E(d1  
    ;]Q6K9.d8  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ;J,(YNI 1  
    •单击Go！     EG3,TuDH8  
    :M6v<Kg{;  
    C'|9nK$%  
    4k@n5JNa  
    场追迹结果（摄像机探测器） m","m  
     J'|=J   
    dGBjV #bNT  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Y06^M?}  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 n]' r3  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 gtu<#h(  
    ga%\n!S  
    m =b7 r  
     |*NZ^6`@  
    场追迹结果（电磁场探测器） "d$~}=a[  
    zT78FliY6  
    77O$^fG2  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     * &:_Vgu  
    }-Mg&~e`  
    yj&GJuNb~  
    文件信息 196a~xNV  
    1l#46?]~  
     s%K(hk  
    D/."0 #q  
     j9[I6ko5'  
    QQ：2987619807 dE_Xd :>  
     
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