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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 ,3wI~ j=  
    2. StG(Y!  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 pd=7^"[};  
    ggrI>vaw  
    ?,WUJH?^  
    N+*(Y5TU  
    建模任务 Z 7`5x  
    +<)tql*  
    0^J*+  
    概观 M.o?CX'  
    hWe}' L-  
    @Djs[Cs<*  
    光线追迹仿真 PfVEv *  
    w0#% AK  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ot-(4Y  
    8lMZ  
    •点击Go！ &(lMm)  
    •获得3D光线追迹结果。 @)  
    ~&lQNl3`m6  
     z VnIr<!8_  
    MNkKy(Za  
    光线追迹仿真 \U==f &G?J  
    ILNE 4n  
    }phz7N9  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 dz8-):  
    •单击Go！ 0Wa#lkn$I  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     {\P?/U6~f  
    !?yxh/>lM  
    Q]!6uA$A  
    Jm?l59bv v  
    场追迹仿真 aZ8h[#]7  
    EJO.'vQ  
    }'u3U"9)  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 wh9L(0  
    •单击Go！     |p;4dL  
    <inl{CX/  
    ! &Z*yH  
    :RPVT,O}  
    场追迹结果（摄像机探测器） [.M  
     B<A:_'g  
    N[>:@h  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ggMUdlU  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。  }K?F7cD  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 @v"T~6M  
    `$H7KIG  
    6KVV z/  
     FSv1X  
    场追迹结果（电磁场探测器） ! &y  
    t/A:k  
    QI.t&sCh5  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     m{VL\ g)  
    GM:, CJ?  
    M\I_{Q?_  
    文件信息 Lg8 ]dBXu  
     KvGbDG  
     o.v2z~V  
    T)`gm{T  
     /\~l1.6`  
    QQ：2987619807 II&<  
     
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