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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 ZTQ$Ol+{ q  
    &LCUoTzj  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 ;']vY  
    _4~ng#M*  
    7i-W*Mb:  
    ir?Uw:/f  
    建模任务 u\Nw:Uu i  
    9pVf2|5hj  
    ROJ'-Vde9  
    概观 x?k  
    afxj[;p!  
    5~`|)~FA  
    光线追迹仿真 +t7c&td\  
    hO+O0=$}wN  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 +Op%,,Db  
    *@\?}cX  
    •点击Go! yS:IRI.  
    •获得3D光线追迹结果。 8I5VrT  
    7$q2v=tH_  
    vWnHC  
    ? e9XVQ*  
    光线追迹仿真 h 7(H%(^_  
    bWX[<rh'  
    aIzp\$NWVK  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 >/kPnpJ  
    •单击Go! :=iM$_tp'  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    Ov~S2?E8  
    0I(GB;E  
    =0@d|LeZ  
    ;qT!fuN;  
    场追迹仿真 'b=eC  
    + e5  
    ^|F Vc48{  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 1A`?y& Ll  
    •单击Go!
    C]\^B6l<  
    6*(h9!_T1  
    ^B&ahk  
    X-G~/n-x  
    场追迹结果(摄像机探测器) 7tf81*e  
    Ul$X%  
    lt2Nwt0bv  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 G+ $)W u  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 !"Oj$c -  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 /C,>  
    gT5Ji~xI  
    !5E%W[  
    7=QC+XSO  
    场追迹结果(电磁场探测器) P$(iB.&  
    [F AOp@7W  
    `:bvuc(  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    v8'`gY  
    [MQJ71(3  
    XTi0,e]5{u  
    文件信息 r 0?hX  
     [A%e6  
    >jrz;r  
    o7 @4=m}  
    ^qId]s  
    QQ:2987619807 }TX'Z?Lq  
     
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