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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 $`APHjijN  
    '"y|p+=j:  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 D@G\7 KH@  
    @95FN)TXZY  
    5>VY LI  
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    建模任务 U QE qX  
    =,%CLS,6w  
    C?ulj9=Z  
    概观 {zQS$VhXr  
    'iy*^A `Y  
    Z -,J)gW  
    光线追迹仿真 .tkT<o-u<J  
    lW<PoT  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 m7&O9?X  
    -yR.<KnL  
    •点击Go！ C(S'#cm  
    •获得3D光线追迹结果。 |M8WyW  
    J~%K_~Li  
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    光线追迹仿真 }>)@WL:q  
    JBZUv  
    MWI4Y@1bS  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Av?2<  
    •单击Go！ RE}?5XHb  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ,\X@~ j  
    3VI4X  
    'sLiu8G  
    ,B08i o-  
    场追迹仿真 ~)qtply  
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    Ad:TYpLD  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 FvN<<&B  
    •单击Go！     :,WtR  
    Kk(9O06j  
    \I["2C]3M  
    :gerQz4R8  
    场追迹结果（摄像机探测器） ?s\ OUr  
     fq5_G~c =  
    \ W?R  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 e?`5>& Up  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ?|WoIV.  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ?notxE7 ]  
    _2k]3z?  
    8i|w(5m;  
     w$H^q !(  
    场追迹结果（电磁场探测器） Rop'e8Q  
    8 %%f%y  
    uum;q-"  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     ^ "i l}8`  
    vohoLeJTj  
    @+'-ADX  
    文件信息 QYa(N[~a  
    /EibEd\  
     |u0( t,T  
    XO-Prs  
     lZyG)0t,g  
    QQ：2987619807 XW -2~?$  
     
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