-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-11-17
- 在线时间1888小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 _ :Ag?2 >J9oH=S6 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 !|ak^GE:(% c;?fMX
*/:uV
B,b2 ]:>,A@7 建模任务 EU7|,>a M(x$xAiD Lk\P7w{ 概观 jhu 07HX_ Rk!X]-`= }}v9
`F 光线追迹仿真 >/[GTqi
]^'@[< •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 [S5\#=_4S ~5FW[_ •点击Go! LUB${0BrA •获得3D光线追迹结果。 g0R~&AN!g 1 zw*/dp
%\]*OZ7 o1M$.* 光线追迹仿真 7d LuX c\a_VRN>r 8YC_3Yi% •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 .7K7h^*F •单击Go! >
pI;%' •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 vz.>~HBP q`-;AG|xF !*RqCS, Cj~'Lhmv'T 场追迹仿真 [!!Q,S"
}gJ (DbnV 3EJt%}V$k •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 ns6(cJ^a •单击Go! J8mdoVt d3=KTTi\ phM>.y_ 15o9 . 场追迹结果(摄像机探测器) H\TI[JPAl gNt(,_]ZR j4qJ.i •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 4$P0 : •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 tQS5hwm* Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 Q%xC}||1s" @`gk|W3
V4_=<W 6I%5Q4Ll 场追迹结果(电磁场探测器) ZIQ
[bE7 y&V@^"` =3L;Z[^9 •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 Z<vKQ4G V#iPj'*
J:Qa5MTWp 文件信息 9jw\s P@ YJ\Xj56gv
/pT=0= Ymg|4%O@ 0N$v"uX@ QQ:2987619807 1,% R;7J=g
|