-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-08-26
- 在线时间1981小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 @L?KcGD |wINb~trz 光栅结构广泛用于光谱仪、近眼显示系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法(FMM)以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中,可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的,并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中,介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。 F<TIZ^gFP g+A>Bl3#
`IV7\}I| SNtk1pG> 本用例展示了...... v6P2v •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构,例如: 5y8VA4L/o - 矩形光栅界面 g5:?O,? - 过渡点列表界面 Z@,[a - 锯齿光栅界面 Q@KCODi - 正弦光栅界面 -}(2}~{e( •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。 76cLf~|d~ fPPC`d&Q3 光栅工具箱初始化 /]oQqZHv •初始化 .tcdqL-' - 开始 1]69S( 光栅 ZeLed[J^xJ 通用光栅光路图 Z\3~7Ek2m •注意:使用特殊类型的光栅,例如: 矩形形状, ,pIh.sk7s* 可直接选择特定的光路图。 zf;sdQ;4 ,&.$r/x|?
o$Ju\(Y$<+ 10_#Z~aU 光栅结构设置 1Li*n6tLX` •首先,必须定义基板(基块“Base Block”)的厚度和材料。 $b(CN+#
y*%uGG5 •在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈(stack)中定义。 Ad&VOh+0 •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。 !_P&SmK3 "+E\os72|
s'|t2`K(" XY#.?<"Q8 •例如,选择第一个界面上的堆栈。 V503 ;y_ ]w6|n 堆栈编辑器 Zm0' p! •在堆栈编辑器(Stack Editor)中,可以从目录中添加或插入界面。 ocu,qL)W •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。 b~qH/A}h ?lML+
|az2vD6P v7n@CWnN 矩形光栅界面 df!i}L flT6y-d •一种可能的界面是矩形光栅界面。 .5uqc.i"f •此类界面适用于简单二元结构的配置。 F$bV}>-1k •在此示例中,由银制成的光栅位于玻璃基板上。 h+ud[atk. •为此,增加了一个平面界面,以便将光栅结构与基块分开。 /3&MUB*z&y •在堆栈编辑器的视图中,根据折射率(黑暗表示更高),其他颜色表示不同的材料。 |{v#'";O: |kP utB
P?S]Q19Q4 C]p@7"l 矩形光栅界面 -n8d#Qm) •请注意:界面的顺序始终从基板表面开始计算。 oC-v>&bW •所选界面在视图中以红色突出显示。 j+@3.^vK
uFhaN\S •此外,此处无法定义光栅前方的介质(指最后一个接界面后面的介质)。 它自动取自光栅元件前面的材料。 )U=]HpuzI •可以在光路编辑器(Light Path Editor)中更改此材质。 T7%!JBg@ LT"H-fTgs •堆栈周期(Stack Period)允许控制整个配置的周期。 ^GyZycch •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。 $xWUzg1<U •如果是简单的光栅结构,建议选择“取决于界面周期”(Dependent from Period of Interface)选项,并选择适当的周期性界面索引。 vd)zvI \5 rJ k/D{&(F ~ `CI_zc=jx
R<U]"4CBx 7f4O~4.[i 矩形光栅界面参数 g/fpXO\ •矩形光栅界面由以下参数定义 P#7=h:.522 - 狭缝宽度(绝对或相对) - Z`RKR8C - 光栅周期 UKQ"sC - 调制深度 Fj(GyPFG •可以选择设置横向移位和旋转。 ZXGi> E f:-l}Zj
bMxK @$G~ ~`C_B]3| 高级选项和信息 nQoQNB •在传播菜单中,有几个高级选项可用。 1"L"LU' •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 -sfv"? •可以设置总级次数或衰逝波级次数 A4cOnG,
(evanescent orders)。 DL?nvH •如果考虑金属光栅,这项功能非常实用。 P6R_W •相反,在介质光栅的情况下,默认设置就足够了。 h='F,r5#2 (v%24bv t2s/zxt B+snHabS6 •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。 OU"%,&J •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。 CF2Bd:mfZ •此外,有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。 Hddc-7s •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。 tw>2<zmSi% avL_>7q JD~;.3$/k Z sTtSM\Ac 过渡点列表界面 4]uj+J •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。 AoeRoqg •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。 `}$o<CJ •同样,平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。 #5Z`Q^ p.SipQ.P o[T+/Ej& 过渡点列表参数 8.#{J&h •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。 C=/B\G/.9 •上限(Upper Limit)必须设置为大于所需光栅周期一半的值,但在周期性结构的情况下自动设置。 m&Mupl P}Kgh7)3 $KO2+^%y w_xca( •必须在周期化(Periodization)选项卡中设置此界面的周期。 odsFgh •此处,可以定义x方向和y方向的周期。 :Ko6.| •在这种情况下,可以忽略内部和外部定义区域的设置,因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。 q.VYPkEib uv27Vos
A913*O:\ n%s%i-[5B 高级选项及信息 AQlB_@ b •同样,可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。 9)ALJd,M :^.wjUI
15\m.Ix GWnIy6TH l 正弦光栅界面 b}3"v( •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。 Z[oEW>_A •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。 iqQT ^
•如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: o)AwM" - 脊的材料:基板的材料 .$%p0Yx+ - 凹槽材料:光栅前面的材料 '6#G$ HU i?\4 ,vJt!}} z%%O-1 正弦光栅界面参数 ?Gki0^~J - 正弦光栅界面也由以下参数定义: h'):/}JPl •光栅周期 <U@N^# •调制深度 D(#f`Fj; - 可以选择设置横向移位和旋转。 Y$ys4X - 由于这是光栅界面(类似于矩形和锯齿借口),因此不必选择周期。 Q +^& $*fJKR_N _rT\?//B ~&i4 |