-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-11-13
- 在线时间1887小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 pGie!2T E {B$CqsvJ 光栅结构广泛用于光谱仪、近眼显示系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法(FMM)以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中,可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的,并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中,介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。 ^G4YvS( /&gg].&2?
yP58H{hQM8 cAR
`{%b 本用例展示了...... }Rh\JDiQ •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构,例如: ,_V V;P - 矩形光栅界面 @eYpARF - 过渡点列表界面 &8IBf8 - 锯齿光栅界面 %A zy#m
- 正弦光栅界面 D||0c"E •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。 4[lFurH q1ysT.{p, 光栅工具箱初始化 Jm_)}dj3o •初始化 y
4i3m(S - 开始 KjGu !B 光栅 ebA:Sq:w 通用光栅光路图 }geb959 •注意:使用特殊类型的光栅,例如: 矩形形状, yY VR]H H 可直接选择特定的光路图。 6A"$9sj6 Nj9A-*0g6N
sH6;__e $N?8[ 光栅结构设置 12`u[O}\}- •首先,必须定义基板(基块“Base Block”)的厚度和材料。 ^Iw$(
J[}H^FR •在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈(stack)中定义。 <+QdBp'd; •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。 SaPE 1^} 5>}$]d/o
~b_DFj xs= ~N •例如,选择第一个界面上的堆栈。 HXq']+iC |))NjM'ZBl 堆栈编辑器 TpU\IQ •在堆栈编辑器(Stack Editor)中,可以从目录中添加或插入界面。 [t4v/vQT •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。 PVb[E 03 >)M{^
"L3mW=!* 5dj" UxH 矩形光栅界面 FWbp;v{ ,`t+X=# •一种可能的界面是矩形光栅界面。 F`g(vD> •此类界面适用于简单二元结构的配置。 U[wx){[| •在此示例中,由银制成的光栅位于玻璃基板上。 o[>d"Kp •为此,增加了一个平面界面,以便将光栅结构与基块分开。 wR%Ta - •在堆栈编辑器的视图中,根据折射率(黑暗表示更高),其他颜色表示不同的材料。 ImN'o4vo %IsodtkDu
=WTSaC z +MH co" 矩形光栅界面 wOAR NrPx2 •请注意:界面的顺序始终从基板表面开始计算。 fJS:46 •所选界面在视图中以红色突出显示。 8c5YX
s%:fZ7y •此外,此处无法定义光栅前方的介质(指最后一个接界面后面的介质)。 它自动取自光栅元件前面的材料。 lDL&":t •可以在光路编辑器(Light Path Editor)中更改此材质。 ]BO:*&O V'vWz`# •堆栈周期(Stack Period)允许控制整个配置的周期。 !!C/($ •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。 Z- feMM •如果是简单的光栅结构,建议选择“取决于界面周期”(Dependent from Period of Interface)选项,并选择适当的周期性界面索引。 [=K
lDfU= &M13F>! 6H |1IrG cx[^D,usf~
^_]ZZin ( d_z\U7l 矩形光栅界面参数 nH#>_R
( •矩形光栅界面由以下参数定义 {lf{0c$X. - 狭缝宽度(绝对或相对) G*9(O: - 光栅周期 .!3e$mhV - 调制深度 v0DDim?cc •可以选择设置横向移位和旋转。 -#ZvjEaey {s8c@-'
a{`hAI${ w<(ubR %$ 高级选项和信息 O},}-%G •在传播菜单中,有几个高级选项可用。 G4(R/<J,BQ •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 `*s:[k5k •可以设置总级次数或衰逝波级次数 :+\0.\K0! (evanescent orders)。 AR[m+E •如果考虑金属光栅,这项功能非常实用。 _,drOF|e •相反,在介质光栅的情况下,默认设置就足够了。 LdZVXp^ WE\TUENac( `;85Mo:qJ 3"x_Y •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。 gkr9+ •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。 +p%3pnj:K •此外,有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。 R,3cJ
Y_% •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。 L$5,RUy pwFdfp 6ld4'oM 3L&: 过渡点列表界面 mi=mwN%UB •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。 _wKwiJs •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。 w5>[hQR\ •同样,平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。 %0GwO%h}, 6*Z7JiQ0 'WW:'[Syn' 过渡点列表参数 d6MWgg •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。 k!Yc_ZB:*l •上限(Upper Limit)必须设置为大于所需光栅周期一半的值,但在周期性结构的情况下自动设置。 CV0id&Nv 72, m c W1REF9i){ S)U*1t7[
•必须在周期化(Periodization)选项卡中设置此界面的周期。 c,@Vz
7c •此处,可以定义x方向和y方向的周期。 {b!{~q •在这种情况下,可以忽略内部和外部定义区域的设置,因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。 ;+~5XLk s[8. l35|
E+\?ptw )Q=u[ p 高级选项及信息 z"4 q%DC •同样,可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。 *'?ZG/ ( cy^=!EfA
k-ZO/yPo |.@!CqJ 正弦光栅界面 xeF>"6\ •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。 TnQ>v{Rx •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。 p)SW(pS •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: I~6)
Gk& - 脊的材料:基板的材料 2^B_iyF; - 凹槽材料:光栅前面的材料
}#m9Q[ RL}?.'! K$Bv4_|x _%CM<z
e 正弦光栅界面参数 jG1(Oe;# - 正弦光栅界面也由以下参数定义: EGl<oxL*R2 •光栅周期 "lt <$. •调制深度 {dF@Vg_n - 可以选择设置横向移位和旋转。 qxI$F - 由于这是光栅界面(类似于矩形和锯齿借口),因此不必选择周期。 TJv .T2| $+80V{J# MnD}i&k[ $2uC%er"H 高级选项和信息 RL` jaS?V •同样,可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。 no+m.B j/aJD E(+
@@H/q 2WS*c7Ct 高级选项及信息 M+:5gMB' •如果增加层数(例如,增加2倍),则离散化变得光滑。 ?;RY/[IX6 &>AwG4HW#j I7_lKr3 锯齿光栅界面 J=-z~\f56 •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。 !/,oQoG •此界面允许配置闪耀结构的光栅。 L"jA#ULg •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: -Mr_Ao`E - 脊的材料:基板的材料 Mst%]@TG - 凹槽材料:光栅前面的材料
P7w
RX F{ P6_Hz!vE
frcX'M}% Lyc6nP;F
锯齿光栅界面参数 N7s0Ua'-v •锯齿光栅界面也由以下参数定义: B=]j=\o - 光栅周期 6 ZRc|ZQ - 调制深度 F`4W5~` •此外,闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。 e\X[\ve •可以选择设置横向移位和旋转。 p
l^;'|=M •由于这是光栅界面(类似矩形和正弦型),因此不必选择周期。 KH,f'` &vmk!wAs fuj9x;8X0 5=V"tQ&d9U 高级选项和信息 %ap]\o$^4 •同样,可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。 6],?Y+_;)L #[bosb!R 探测器位置的注释 X QLP|v;" 关于探测器位置的注释 yhgGvyD •在VirtualLab中,探测器默认位于基板后面的空气中。 ovN3.0tAI •如果光栅包含在复杂的光学装置中,则必须这样做。 fYuSfB+< •但是,完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应,而实际情况并非如此。 BPj?l •因此,为了计算光栅效率,应将探测器设置在基板材料内(同样适用于大多数光栅评估软件)。 '|gsmO •可以避免这些干涉效应的不良影响。 N/F_,>E gE #|eiu b;
of9hY 文件信息 kL zjK]4 * I'IFBVhaYn
E"*E[> <N<0 ?GQ c9c]1XJ QQ:2987619807 Yp(0 XP5o
|