-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-04-08
- 在线时间1761小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 Vax^8 - + EM_TTf4 光栅结构广泛用于光谱仪、近眼显示系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法（FMM）以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中，可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的，并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中，介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。 )I-fU4? *VkgQ`c
 xlR2 |4|8 6Ik,zQL 本用例展示了...... DK&h
eVIoZ •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构，例如： mG1 IQ! - 矩形光栅界面 sW^a`VM - 过渡点列表界面 KYxBVgJ - 锯齿光栅界面 >u(>aV|A - 正弦光栅界面 eb8w~ •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。 35*\_9/# lRP1&FH0 光栅工具箱初始化 ?n \*,{9 •初始化 y9|K|xO[ - 开始 *X38{r j 光栅 Z_1*YRBY; 通用光栅光路图 ro[Y-o5Q0 •注意：使用特殊类型的光栅，例如： 矩形形状， K ZBrE$@%5 可直接选择特定的光路图。 $Vv}XMxw OW( &s,|6x
 ~/tKMS6T i$KpDXP\ 光栅结构设置 s F+=KH •首先，必须定义基板（基块“Base Block”）的厚度和材料。 =N|kn<h4
 &wetzC ) •在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈（stack）中定义。 oAZh~~tp •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。 O8N[Jl
:Ld!mRZF
 m!OMrZ%)}
SgE/!+{ •例如，选择第一个界面上的堆栈。 1[;@AE2Y oT|m1aGE 堆栈编辑器 p '{ xoV •在堆栈编辑器(Stack Editor)中，可以从目录中添加或插入界面。 2PSTGG8JV •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。 xqHL +W :'r6 TVDW
 ~mN% (w!^
zG
c[Z3N 矩形光栅界面 >LF&E M] !)Rr]
~ •一种可能的界面是矩形光栅界面。 cub <G! K •此类界面适用于简单二元结构的配置。 xkA2g[ •在此示例中，由银制成的光栅位于玻璃基板上。 O:.,+,BH •为此，增加了一个平面界面，以便将光栅结构与基块分开。 v&MU=Tcqi •在堆栈编辑器的视图中，根据折射率（黑暗表示更高），其他颜色表示不同的材料。 K.SeK3(
! ]Mc4!E
 emA!Ew(g B">yKB:D}t 矩形光栅界面 []&(D_e" •请注意：界面的顺序始终从基板表面开始计算。 =<<3Pkv7@ •所选界面在视图中以红色突出显示。 `HX3|w6W;
 Vul+]h[!h •此外，此处无法定义光栅前方的介质（指最后一个接界面后面的介质）。 它自动取自光栅元件前面的材料。 C/v}^#cLD •可以在光路编辑器（Light Path Editor）中更改此材质。 2go>  =`I?mn& •堆栈周期（Stack Period）允许控制整个配置的周期。 P?3{z="LzJ •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。 (3EUy"z- •如果是简单的光栅结构，建议选择“取决于界面周期”（Dependent from Period of Interface）选项，并选择适当的周期性界面索引。 mPVE?jnR^0 D(r:}pyU  qvLDfN
9|!j4DS<
 3^G96]E S@:B6](D$ 矩形光栅界面参数 i G[ ?
]] •矩形光栅界面由以下参数定义 F1A1@{8bN - 狭缝宽度（绝对或相对） ->yeJTsE9 - 光栅周期 r7)@M%A - 调制深度 Z cZ;$* •可以选择设置横向移位和旋转。 sS,#0Qt.
Gz dgL"M[
 {:Vf0Mhb
Z|`fHO3 j 高级选项和信息 M<qudi •在传播菜单中，有几个高级选项可用。 4S *,\q]q •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 ^&: 'NR •可以设置总级次数或衰逝波级次数 M g!ra" （evanescent orders）。 } 21j •如果考虑金属光栅，这项功能非常实用。 |ft:|/^F& •相反，在介质光栅的情况下，默认设置就足够了。 o1YU _k<# U4_"aT>M y  Sa}D.SBg s[-]cHQ •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。 1-$P0 •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。 -fux2?8M •此外，有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。 .k ]#XoE •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。 Jqg3 .2q
ULvVD6RQ47  9oq)X[ La}o(7 =s 过渡点列表界面 &`PbO •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。 C.E[6$ oVc •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。 B/Ba5z"r$ •同样，平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。
~R!gJTO9  9U10d&M( %}F"*. 过渡点列表参数 h3h8lt_ | •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。 3zb) "\(R •上限（Upper Limit）必须设置为大于所需光栅周期一半的值，但在周期性结构的情况下自动设置。 /;+,m p4 ALR:MAXwC  P|N?OocE ZW* fO aj •必须在周期化（Periodization）选项卡中设置此界面的周期。 WLy7'3@ •此处，可以定义x方向和y方向的周期。 p#M!S2&z •在这种情况下，可以忽略内部和外部定义区域的设置，因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。 fNEz Fd"WlBYy0
 aL$j/SC s?<!&Y 高级选项及信息 HWR & C •同样，可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。 O<a3DyUa; oUS ,+e
 mCrU//G
nCB[4 正弦光栅界面 2;R/.xI6v •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。 vz,LF=s2 •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。 v|To+ P6b •如果使用单个界面来描述光栅结构，则会自动选择材料： htg'tA^CtS - 脊的材料：基板的材料 '5cZzC
2 - 凹槽材料：光栅前面的材料 T`mEO\f D` fc7m  Hc
/w ta `^f}$ R| 正弦光栅界面参数 ;;6\q!7` - 正弦光栅界面也由以下参数定义： r UvwpP"k •光栅周期 KPg[-d •调制深度 ;<VR2U` - 可以选择设置横向移位和旋转。 bN4d:0 Y - 由于这是光栅界面（类似于矩形和锯齿借口），因此不必选择周期。 mN7&%Z I`# EhH  iGyVG41U Z#@6#S` 高级选项和信息 : 3 PGf •同样，可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。 0c-QI r}m
yx 7loy$[
 ]t7ClT)n! ;_w MW l0F 高级选项及信息 YN`UTi\s •如果增加层数（例如，增加2倍），则离散化变得光滑。 cnC _#kp `lvh\[3^  0v cET( 锯齿光栅界面 +%x^RV} •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。 4=UI3 2v3 •此界面允许配置闪耀结构的光栅。 @#1c x •如果使用单个界面来描述光栅结构，则会自动选择材料： zAu}hVcW - 脊的材料：基板的材料 O<Jwaap - 凹槽材料：光栅前面的材料 B_b8r7Vn` i:R!T,
 }1@n(#|c ~S! L!qY 锯齿光栅界面参数 0\QYf0o •锯齿光栅界面也由以下参数定义： ]C+eJ0"A - 光栅周期 "C?:T'dW - 调制深度 $ To 4dJb •此外，闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。 V5cb}xx •可以选择设置横向移位和旋转。 xqU^I5Z •由于这是光栅界面（类似矩形和正弦型），因此不必选择周期。 ?UU5hek+m
'/n \Tg+  ZyZl\\8U o&WRta>VP 高级选项和信息 rrW! X q •同样，可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。 jw%fN!?  VvzPQ k 探测器位置的注释 u;$I{b@M] 关于探测器位置的注释 IQ o]9Lx •在VirtualLab中，探测器默认位于基板后面的空气中。 \-DM-NrZ1U •如果光栅包含在复杂的光学装置中，则必须这样做。 yIM.j;5:~5 •但是，完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应，而实际情况并非如此。 YAX #O\, •因此，为了计算光栅效率，应将探测器设置在基板材料内（同样适用于大多数光栅评估软件）。 +'!h-x1y~ •可以避免这些干涉效应的不良影响。 6R0D3kW  "[FCQ UeFtzty,a
文件信息 [B.W1 GL! 9)1P+c--
 &8R-C[A _a?wf!4>P
hQ\#Fhu7 QQ：2987619807 2pVVoZV.<
|
