主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器,主要步骤如下: 1d/-SxhZ • 定义MMI耦合器的材料; [MSLVTR • 定义布局设定; 50!/% • 创建一个MMI耦合器; s ^NO( • 插入输入面; \b{Aj,6, • 运行模拟; V3;4,^=6Dd • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 nQ|4.e; fw>@:m_bK 1. 定义MMI耦合器的材料 D|8vS8p 为了定义MMI耦合器的材料,需要进行如下操作: gcYx-gA} 1) 通过File-New打开“初始性能对话框(Initial Properties)“ hUirvDvX ;>^oe:@ 图1.初始性能对话框
TU ]Ed*'& 2) 点击图1中的“轮廓和材料(Profiles And Materials)”以激活“轮廓设计窗口(Profile Designer)” 89@\AjI DLMG<4Cd~ 图2.轮廓设计窗口
)"?6Es SF 3) 右键单击图2中材料(Materials)标签下的“电介质(Dielectric)“,选择New以激活电介质材料创建窗口 Ol ,;BZHc\
.qVz rS gfE<XrG 图3.电介质材料创建窗口
d,=Kv 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料: =H*}{'# − Name : Guide =`2nv0%2 − Refractive Index (Re) : 3.3 eUQ., mP − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 \)'nxFKqV RZ)sCR 图4.创建Guide材料
O+;0|4V% 5) 重复步骤3)和4),创建第二种电解质材料: \m-fLX − Name : Cladding Gd 0-}4S? − Refractive Index (Re) : 3.27 8r[ZGUV − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 :V2"<] Ta #vD_QP 图5.左图为创建Cladding材料,右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 $>E\3npV
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1,进入通道编辑窗口,构建通道: htc& !m − Name : Guide_Channel xGbr>OqkTX − 2D profile definition: Guide qh
Ezv~ − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口,关闭Profile Designer窗口 pT]M]/y/: z9:@~3k. 图6.构建通道
2. 定义布局设定 2mL1BG=Yk
为了定义布局设定,需要在“初始性能对话框(Initial Properties)”窗口进行以下操作: `B+%W
1) 点击“默认波导(Default Waveguide)”标签 @C)O[&Sk
− Width:2.8 7L)1mB.
注意:所有的波导将会使用此设定以作为默认厚度 ~XGO^P"?
− Profile:Channel-Guide ".L+gn}u-
图7.默认波导标签下“Width”以及“Profile”设置
A7U'>r_.
fs4pAB #F
2) 切换到“晶圆尺寸(Wafer Dimension)”标签: MhC74G
− Length:5300 5zJkPki
− Width:60 HE&,?vioy
图8.设置晶圆尺寸
!mFo:nQ)}
Cpaeo0Oq
3) 切换到“2D晶圆属性(2D Wafer Properties)”标签: H3{x;{.b
− Material:Cladding }_XW?^/8
− 点击OK以激活布局窗口 A2'
图9.晶圆材料设置
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tb,.f3;
4) 布局窗口 g!n1]- 1
图10.默认情况下布局窗口显示
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KtJE
5) 调整显示比率,以便更好进行波导结构布局设置: Ab7hW(/
− View-Layout Options以激活布局设置选项窗口 T#Pz_
hAu
− Display ratio : Z=40,点击OK,如图11所示 }]vj"!?a
− 调整缩放比率为0.6 ,最终布局显示如图12所示 Okk[}G)
图11.调整Z方向和X方向的显示比率 =fMSmn1S
图12.最终布局显示
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FtN1ZZ"<*
3. 创建一个MMI耦合器 `7jm
为了构建一个MMI耦合器,需要进入如下操作: O<4i)Lx2
1) 在“绘图(Draw)”菜单下选择“线性波导(Linear Waveguide)”或者在波导栏 下选择线性波导 .jMm-vox}
2) 当鼠标指针变为十字叉时,点击布局窗口左侧,并向右侧拖拽波导后松开鼠标,以生成第一个线性波导 _dqjRhu
图13 .绘制第一个线性波动
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QQ:2987619807
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