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摘要 1V#0\1sj ]~$c~*0g 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 m=#aHF *X%?3"WH8
~WzMK }<E sS 建模任务 Hf;RIl2F \MfR #k0 |}l@w+N3 概述 t)YFTO"Jj 22l|!B%o •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 E=$7ieW •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 IiG4ib>)W n iXHK$@5
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f+du 1!K!oY 光线追迹仿真 FEge+`{, wa9'2a1? •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 Y+|L3'H •单击go! -HO6K)ur •获得了3D光线追迹结果。 ?,.HA@T% 40`9t Xn
x&mz- V5hp
Y ] 光线追迹仿真 pE9aT5
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n.
•然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 k#{lt-a/ •单击go! fx8y`8}_ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 $}^Rsv( .Y=Z!Q
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|;xfe"] 场追迹仿真 g?k#wj1uH 3 C E 39W •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 S
jC)6mo •单击go! PM#$H ,U} 5 JKEXYE X3&SL~&>g 场追迹仿真(相机探测器) hlABu)B'1 O=4ceEmz •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 e<: 4czh8 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 7]<F>97 #dxJ#
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场追迹仿真(电磁场探测器) Kt/+PS •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 h^.tomg8 ^Yg|P&e(; 8AC.2v?_ 5bGjO&$l 场追迹仿真(电磁场探测器) ZC9.R$}Kl FVvv •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 8Izn'>" 4EaSg#
O>tC]sm% EL2 hD$ 文件信息 #w%a
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&Q.Kpq> 更多阅读 G{&yzHAuae ci{9ODN -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer E9Qd>o -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination priT7! b}}1TnS) [EW$7 se~ QQ:2987619807 d
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