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摘要 L ^Y3=1#"g Ub)I66 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 ?T*";_o,B
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1$LI px 建模任务 ziL^M"~2 D5A=,\uk  hY;_/! _ 概述 \ElX~$fS TQ9' 76INb •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 Bku' H •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 u}jrf Kd E SE `l(-t L
 Q7Ij4 H~9=&p[ Q 光线追迹仿真 T!^Mvat H^(L90 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 #}o<v|; •单击go！ mvTb~) •获得了3D光线追迹结果。 /8e W@IO.F >Q2). E
 xb^ Mo. \[ s44iEh=V(I 光线追迹仿真 9N
Le&o T bNGgjT •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 k L7^$ •单击go！ b7$}JCn •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 0'yyfz 1L[S*X
 0=[0| `x r z6jx 场追迹仿真 j[DIz@^ N lt4 ) •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 FMS2.E •单击go！ &BgU:R, h~h a  /yYlu
_T~H[ &Hl 场追迹仿真（相机探测器） 3?ba
1F0Nw 2V$9ei6 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 87 8tI3- •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
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 .BL:h&h|y O,9X8$5H-a 场追迹仿真（电磁场探测器） E^syrEz •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 C4_t_N */U$sZQ)  ~ &~C#yjg1
oNSz& )LP 场追迹仿真（电磁场探测器） @,vv\M0)p
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer Ph\F'xROe
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination [N R1 d-Wg w{ m#Yt
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