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摘要 WRBCNra nQtp 4 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 M_OvIU(E 3Uy4 8ue
@L 9C_a +nz6+{li\ 建模任务 f"{|c@% JNJ96wnX1 K1gZ>FEY|N 概述 8JFns-5 A"V($:>U •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 "CX@a" •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 InAx;2'A: _s1pif
:rBPgrt m\0Xh* 光线追迹仿真 5}+&Em": Cwh*AKq( •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 :j)v=qul •单击go! KkIgyLM •获得了3D光线追迹结果。 =(3Yj[>st H,{WrWA
xa=Lu?t%< JZo18^aD"' 光线追迹仿真 v<_wf G0izZWc •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 ev{;}2~V •单击go!
4eRV?tE9 •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 a(eKb2 CX .:b&$~<
;!C~_{/t O-=~Bn
_ 场追迹仿真 Nuebxd }MiEbLduN •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 GBvgVX< •单击go! l9P=1TL 4#D<#!]^ sU=7)*$ DD?zbN0X 场追迹仿真(相机探测器) e!B>M{ 8E+]yB" •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 nj(\+l5 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 ,u<oAI` 2LTMt?
.,9e~6} 0DsW1 场追迹仿真(电磁场探测器) =-m"y~{>3 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 S=@bb$4-T yU{Q`6u T gic!yhsS_ XH`W( 场追迹仿真(电磁场探测器) [Nw%fuB 6/=0RTd •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ,8`CsY^1 &<>NP?j}
}|j\QjH 0^m`jD 文件信息 ? koIZ 6]^~yby P
z#|tcHVFT I)AbH<G{ 更多阅读 K-2oSS56 b3M`vJ+{ -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer }HKt{k&$ -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination QEQ/ unB`n'L sq45fRAi QQ:2987619807 %ZR<z$
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