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摘要 jmR hAJV k!Vn4?B"k 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 Of D@\;L
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`ajx h p 建模任务 BD hL z G5!|y#T  NV:>a 概述 vkd *ER^ 'n>K^rA •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 qO7fbql_ •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 ~GSpl24W< : @s8?eg
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4u 光线追迹仿真 7`Qde!+ C ]GcV0&| •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 5xhM0 ( •单击go！ 5n:nZ _D •获得了3D光线追迹结果。 HHZ`% c 2/"KT
 64SW @]*[c})/ 光线追迹仿真 dQ,Q+ON> p*Xix %#6 •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 ' gYg~= •单击go！ N Jk)z&M •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 tp@*=*^I nMkOUW:T!
 HV8I nodi Zgy7!A F! 场追迹仿真 {aoM JJq 9YAM#LBTWi •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 eap8*ONl •单击go！ V n ^) z4bN)W )p  )Z("O[
=x1Wii$` 场追迹仿真（相机探测器） Vu%n&uF *Z > •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 =PZWS& (L •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 /22nLc;/Cx iKhH ^V%j
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R 场追迹仿真（电磁场探测器） oPsK:GC`U •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 68 p R: i y}xICt  x}|+sS,g
modC6d% 场追迹仿真（电磁场探测器） e}e6r3faz
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer Cfv]VQQE
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 96}eR, ?
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