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摘要 b&QI#w $%ND5uK 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 qf ]le]J 90Sras>F
U6wy^!_X9 *wX[zO+o 建模任务 ~#VDJ[Z B<Cg_C kef%5B 概述 z<^LY] 1 |)CQ •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 b KIL@AI •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 Y}q~Km &Qj1uf92.
{[/A?AV;F n"}*C|(k 光线追迹仿真 sredL#]BA @ZJ}lED3 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 "Y5 :{Kj •单击go! Qi=0[ •获得了3D光线追迹结果。 v+trHdSBYE `D=d!!1eUi
l=Jw6F+5 5! +{JTXa 光线追迹仿真 *}Gys/\!S PBE i"`i •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 BG.8 q4[
•单击go! )a'` •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 VG$;ri> kz("LI]
*wd=&Z^19 e0ni 场追迹仿真 *:un+k umAO&S.+M •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 j` * bz- •单击go! |yp^T ,z`D}<3 9B83HV4J PQYJnx} 场追迹仿真(相机探测器) :P%?!'M i-p,x0th •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 ZWjje6 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 >o&%via} GiK,+M"d
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(3 y@2"[fo3~ 场追迹仿真(电磁场探测器) BXxJra/V •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 M%Vp_
0 nox-)e kVt/Hhd9
rf'A+q 场追迹仿真(电磁场探测器) w}(pc}^U )$a6l8
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 k,<7)- q;f L@L@-
/P46k4M1U C8)s6 文件信息 +u5xK 0Ny +NE:6M
8ql<7RTM! 60e{]}Z 更多阅读 '0_W<lGB Zn Rj}y -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer >){}nlQf -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination )S`Yl;oL Rp:I&f$Hk/ W>&*.3{v QQ:2987619807 s,/C^E
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