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摘要 -{J0~1'#- W"pHR sf 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 %K8YZc(& T-GvPl9ZJw
2M\7j $;}@2U 建模任务 AS:k&t |+JO]J#bc J7oj@Or9 概述 92R,o'# C+ Y;D: •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 4 #KC\C •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 uOKD# ^&y*=6C
uHbbPtk $FIJI^Kd7 光线追迹仿真 TOgH~R= ]TUoXU2<x •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 3D5adI<aq" •单击go! N%q{CYF6 •获得了3D光线追迹结果。 tn _\E/Q =B'Yx
Q%!xw( s!yD%zO 光线追迹仿真 5T9[a `mYp?NjR_ •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 @"98u$5 •单击go! $Jn.rX0}$ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 sAs`O@ <nV 3`L&]
mI:D =>Z4vWX* 场追迹仿真 ){u#
(sW FEopNDy@y •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 f* h nzj •单击go! l
ObY cFJZ|Ld =z<sx2#* #a9R3-aP 场追迹仿真(相机探测器) eYjF"Aq RLLL=?W@ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 (r'NB •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 $Op:-aW& -cZuP7oA
7~P!Z=m^^f [!} uj`e 场追迹仿真(电磁场探测器) ;
+Ie<oW •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 &?y|Pn =M4wP3V/ VzcW9'"# L+lye Ir' 场追迹仿真(电磁场探测器) j
*N^.2 #a8i($k{e •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ;D4
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xBw ua; mryT%zSlM 文件信息 (15.?9 cyL|.2,
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&$c+ -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer $"=0{H.? -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination :O;uP_r9 PbMvM [t5D d QQ:2987619807 t +CU
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