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    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 b&QI#w  
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    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 qf ]le]J  
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    *wX[zO+o  
    建模任务 ~#VDJ[Z  
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    概述 z<^LY]  
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    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 b KIL@AI  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 Y}q~ Km  
    &Qj1uf92.  
    {[/A?AV;F  
    n"}*C|(k  
    光线追迹仿真 sredL#]BA  
    @ZJ }lED3  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 "Y5 :{Kj  
    •单击go! Qi=0[  
    •获得了3D光线追迹结果。 v+trHdSBYE  
    `D=d!!1eUi  
    l= Jw6F+5  
    5! +{JTXa  
    光线追迹仿真 *}Gys/\!S  
    PBEi"`i  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 BG.8 q4[  
    •单击go! )a'`  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 VG$;ri>  
    kz("LI]  
    *wd=&Z^19  
    e0ni  
    场追迹仿真 *:un+k  
    umAO&S.+M  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 j` * bz-  
    •单击go! |yp^T  
    ,z`D}< 3  
    9B83HV4J  
    PQYJn x}  
    场追迹仿真(相机探测器) :P%?!'M  
    i-p,x0th  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 ZWjje6  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 >o& %via}  
    GiK,+M"d  
    L*4= b (3  
    y@2"[fo3~  
    场追迹仿真(电磁场探测器) BXxJra/V  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 M%Vp_ 0  
    nox-)e  
    kVt/Hhd9  
     rf'A+q  
    场追迹仿真(电磁场探测器) w}(pc }^U  
    )$a6l8  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 k,<7)-  
    q;f L@L@-  
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    C8)s6  
    文件信息 +u5xK  
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    更多阅读 '0_W< lGB  
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    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer >){}nlQf  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
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    QQ:2987619807 s,/C^E  
     
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