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    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 tORDtMM9+  
    <.7W:s,f=  
    高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 :+DAzjwO<  
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     y(#F&^|  
    建模任务 @7PE&3  
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    概述 DA4!-\bt@  
    U|h@Pw z  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 Iq": U  
    •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 ;rta#pRn  
    qf] OSd  
     I|[aa$G  
    }\ui} \  
    光线追迹仿真 ;Wr,VU]  
    Z42v@?R.!W  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 }Lwj~{  
    •单击go！ "=!QSb  
    •获得了3D光线追迹结果。 h$zPQ""8  
    @p2dXJeR<  
     ;v+CQx  
    s.dn~|a  
    光线追迹仿真 H "?-&>V-  
    J=]w$e ?.P  
    •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 cl7+DAE  
    •单击go！ f<'&_*7,|t  
    •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 Zk;;~ESOU  
    uJp}9B60_  
     "Lpt@g[HF  
    k0D&F;a%  
    场追迹仿真 Sdt2D  
    .}y Lz  
    •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 NtOR/*  
    •单击go！ 3yD5u  
    nt[0krG  
    v <Ze$^ e&  
     TuCOoz@d  
    场追迹仿真（相机探测器） 't_=%^ q  
    o_*|`E  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 ~O 6~',KD  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 u]MF r2  
    ^9b `;}).  
     &Y=NUDt_  
    >a-+7{};  
    场追迹仿真（电磁场探测器） ng<`2XgU  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ta6 WZu  
    246lFx G.  
    rqh,BkQ0t  
     zXf+ieo  
    场追迹仿真（电磁场探测器） D\l.?<C  
     g4$%)0x%  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 +@qk=]3a  
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    更多阅读 /[IQ:':^  
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    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer KE&}*Nf[  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination     KE3 /<0Z  
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    QQ：2987619807 4vQHr!$Ep  
     
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