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摘要 Dk>6PBl :o .+<_& 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 #\`kg#& A*wf:
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GGhk~H4OP "TJ*mN.i{} 建模任务 g&85L$
A= 5Ebu!z ,oh;(|= 概述 8I *N $xbW*w •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 Z.u1Dz •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 #CaPj:>[ IhBc/.&RL
Ei):\,Nv 9O:l0
l 光线追迹仿真 2jC` '8 ~r!(V;k{ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 mHHlm<?] •单击go!
q:TNf\/o •获得了3D光线追迹结果。 *;]}`r L/r_MtN
fO&`A:JY DrkTM< 光线追迹仿真 BhzD V *$W&jfW •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 kI)}7e •单击go! eF22 ~P •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 nAEyL+6U cO*g4VL"[
sqtz^K ROM w|-3X 场追迹仿真 &.\7='$F +IWH7 qRtp •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 %z-*C'j5H •单击go! )/%5f{+} NeG`D' ;6Yg}L xF8n=Lc 场追迹仿真(相机探测器) P .m@|w&.K ~}}<+ JEEO •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 ^]nLE]M •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
Rbf6/C #%\0][Xf
5tQz!M mGj)Zrx> 场追迹仿真(电磁场探测器) #mw!_]
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 p@su:B2Rl pWGR#x' >ep<W<b {uaDpRt 场追迹仿真(电磁场探测器) gCb+hQq\ 5'I+%66?h$ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Oh*~+/u}q _TOWqV^
78uImC*o 4SJ aAeIZ 文件信息 3!{imQT phuiLW{&
#5@(^N5p` FOsd{Fw 更多阅读 i D IY| 1@}F8&EZ -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer M?eP1v:<+G -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination h#hr'3bI1 T+}|$/Tv mvEhP{w QQ:2987619807 WMf /
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