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摘要 y oa"21E$ 4 zuM?Dp 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 *(6vO{
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.Tr!/mf_ 建模任务 'qcLK>E Cj31>k1  ceBu i8a
| 概述 D /ysS$!{ 7=C$*)x •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 [1Pw2MC< •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 E!<w t ,l`4)@{G
 _j{^I ^P (|%YyRaX 光线追迹仿真 bM7y}P5`1 0S8v41i6 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 v`3q0,, •单击go！ l
H:Y8j •获得了3D光线追迹结果。 OB"Ur-hJ0 xG sg'
 pN# \ P 2_UQ 光线追迹仿真 |9>?{
B\a X v ;} !z •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 Ny|2Fcs •单击go！ S9kagiFX\ •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 0'u2xe 2q V. `d
 =^ur@E xo{3r\u?} 场追迹仿真 uk%C:4T d*3;6ZLy •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 N8a+X|3]0 •单击go！ Y1 RiuJtL IG@.W sM_  P5 GM s
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= 场追迹仿真（相机探测器） qOaI4JP@ RC( fhqV •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 57r ?`'#* •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 +~~FfIzf# xb/L AlJ
 iW.4'9 s5{N+O)~S 场追迹仿真（电磁场探测器） #wz1uw[pI! •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 9_yO 6)` b+/XVEsr  Br w-"tmx
0I6[`*|SX 场追迹仿真（电磁场探测器） DY2r6bcn`
.b'o}DLa •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 7/*Q?ic vbT"}+^Sh
 4o7(cP .48Csc- 文件信息 cp@(y$ ^Mw>'*5^
 ^R\et.W`s ["4sCB@Tr 更多阅读 -h=K]Y{ `
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer vrVb/hhG
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination &)F8i# M +E.}k!y
q2Xm~uN`) QQ：2987619807 76e%&Z G)Q
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