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摘要 .Ws iOJU fK)ZJ_?w,@ 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 ]%NO"HzF~
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I{R[O'8 建模任务 M!xm1 -,[ OhSt6&+  ?c|`R1D 概述 [JX}1%NA ROJ'-Vde9 •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 1A|x$j6m •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 q;1VF;<"vH +t7c&td\
 RT.wTJS ; 4=?Ok":8 光线追迹仿真 !7O=< Ev$-P X •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 o*O "\/pmF •单击go！ ?L<UOv7;t •获得了3D光线追迹结果。 <2o., 2?G N=O+X~
 H# 1*'e> ? 1-n\ka 光线追迹仿真 f{+LCMbC6 3/A[LL| •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 g9FVb7In_ •单击go！ h-?q6O/ | •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 >,]
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 +eV4g2w) ?c=R"Y g$ 场追迹仿真 w]o: c(x@ H}jK3;8E •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 ch)Ps2i •单击go！ M f%^\g.} 5Gw!9 {ke  K=!ZI/+ju
t[f9Z 场追迹仿真（相机探测器） 1,%#O;ya @ MlU!oR& •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 (IoPU +1b •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 7tf81* e Dj,+t+|
 =}%# $ Y1Gg (z 场追迹仿真（电磁场探测器） zP{<0o •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ^?K?\ TY54e T  TQ 5MKqR$
XW&8T"q7 场追迹仿真（电磁场探测器） b68G&z>
764} yV> •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 @T,H.#bL |;Se$AdT#
 z`xz~9a< (Q h7bfd 文件信息 v'bd.eqw "zeJ4f
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer jy__Y=1}
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination eJ=Y6;d$ X>@.-{6T
cO=UswIkwO QQ：2987619807 KWigMh\r
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