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摘要 Y141Twjvd 2: pq|eiF 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 XF^c (*5
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z@~1 e]% 建模任务 }'H Da M ,z%F="@b9  mqsf#'ri 概述 3J'a s
]QzNc •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 s\7|b:y& •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 0QC*Z ( .)cOu>
 aOYd "S}u _LK>3 S qd 光线追迹仿真 2"__j p:( ,nHz~Xi1t •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 7/*; rT •单击go！ _R5^4 -Qe •获得了3D光线追迹结果。 U#F(#3/ | 0qk
 *ac #wEd ~Dy0HVE 光线追迹仿真 xVl90ak l }O` cC •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 k*M{?4 •单击go！ [dzb{M6_ •结果得到点图（二维光线追迹结果）。  t?0=;.D p:4vjh=1h 场追迹仿真 Ak_;GvC! fi?[ e?|c@ •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 3c9[FZ@ya •单击go！ }`_2fJ6 E'r*
g{,  G*"N}M1)
-%t0'cKn, 场追迹仿真（相机探测器） d!gm4hQhl +Nza@B d •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 rg'? ?rq •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 r{<u\>6X>P 5cfzpOqr0
 p}Gk|Kjlq, 7 1)# 'ey 场追迹仿真（电磁场探测器） 9J%>2AA •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 be764 do !^m5by  DI&xTe9k
5#fLGXP 场追迹仿真（电磁场探测器） !tb R qW6v
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer &FZ e LIt
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination YT3QwN9 wG|3
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