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摘要 a4\j.(w)$D dCpD A a3 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 W^YaC
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D`R~d;U~ 建模任务 $8WWN} OC #\Zr$?t|V  &a.A8v) 概述 7KL@[ Q?>DbT6 •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 N;gY5;0m •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 EhAaaG (7Ln~J*
 PUmgcMt nzU;Bi^m 光线追迹仿真 "h-ZwL K5!Ov qzG •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 H3L uRGe&2 •单击go！ hBi/lHu' •获得了3D光线追迹结果。 eZ BC@y 72 ZoN<c
 D)tL}X$ {mUt|m 7! 光线追迹仿真 q_cP<2`@V $plqk^P •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 +o?;7 •单击go！ X0Wx\x Dg[ •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 Zc'^iDAY =0a z5td
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" 场追迹仿真 td7Of(k' yLPP6_59$ •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 }b SDhMV; •单击go！ bYO['ORr @ @C%6Wo4l3 
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n?;h-KKO: 场追迹仿真（相机探测器） (D:-p:q. }Ogb| 8 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 w{ ;S p?Os •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 W-*HAS @lWYc `>}
 5'( T*" `~z[Hj=2 场追迹仿真（电磁场探测器） f `D( V-4 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ZZ L@UO>: Zrp-Hv27,,  +#\7
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IEfYg( c0U 场追迹仿真（电磁场探测器） c8Q}m(bhWI
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer _-3n' i8
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination l4dG=x}M] ,@/O\fit)
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