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摘要 >^ E d/Z258 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 %Ny`d49& q hPvU(
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9_6.%qj& S4jt*]w5b 建模任务 0F\e*{gc *FwHZZ~U 3>`CZ]ip} 概述 AxN.k
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•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 4rh*&' •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 _uR-Z_z 'Gw;@[
BE;J/ g]z[!&%Ahs 光线追迹仿真 `xhiG9mz~ >}43xIRRCq •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 tkG0xRH •单击go! B~_='0Gm[ •获得了3D光线追迹结果。 ::xH C4tw 2ja@NT
u7e g:0Y NdS6j'%B@7 光线追迹仿真 Y!kz0([ Q/%(&4>'y •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 s{- `y`JP •单击go! l#FW#`f •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 7I6bZ;}d Vs1j9P|G
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!*0\Yi,6 场追迹仿真 Y=oj0(Q* Sv7_-#SW<( •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 x*~a{M,h •单击go! 1GnT^u y/ m\h/D7zg *ay>MlcV2= )U`"3R 场追迹仿真(相机探测器) >+[uV^2[ Ty"OJ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 !9!kb •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 Y2
&N#~l* K)Nbl^6x
qzVmsxBNP CjzfU*G 场追迹仿真(电磁场探测器) oh '\,zpL •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Tr1#=&N0 \8uPHf_ :<OInKE>Cx zX-6]j; 场追迹仿真(电磁场探测器) Phsdn`, SWjOJjn •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 !A"`jc~x: ^@
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qAsZ,ik iQczvn)"m 文件信息 2&E1) ^ qy`95^
zaX!f~;" j:%~: 更多阅读 [_jTy;E TxhTK5#f -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer BJ3st -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination "`DCXn#mB q/,W'lQ\; "
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