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摘要 o= N= W UPUO8W)<Z6 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 FZb\VUmnV WE68a!6
CzST~*lH RcMW%q$dG 建模任务 Z!7#"wO9+V <~vamim#K .6f
%"E, 概述 )m
\}ITf X=mzo\Aos •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 Y(W>([59 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 (/tbe@< uFL~^vz
* t{A=Wk `A$yF38! 光线追迹仿真 kbBX\*{yh tDF6%RG •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 "JKrbgN@;L •单击go! ld$LG6[PA •获得了3D光线追迹结果。 OGrp{s ={YW*1Xw
R0,
Q` x]XhWScr' 光线追迹仿真 thl{IU 2<
w/GX. •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 !7P 1%/ •单击go! ]aXCi"fMs •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 U}_l]gNn c+Ejah+
xaAJ>0IM MjQKcL4%7 场追迹仿真 #/MUiV 6rF[eb •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 >A7),6 •单击go! 9{^:+r (zCas}YAKI W5<1@ n,bZj<3t 场追迹仿真(相机探测器) !!%vs
6 \[%[`m •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 6Z\[{S]; •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 ~^w;`~L ]SFB_5Gb
%j^[%&pT #3f\,4K5 场追迹仿真(电磁场探测器) =X2 Ieb •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 dNB56E)5`J sX^m1v~N| QA+qFP w*e O9k 场追迹仿真(电磁场探测器) k?o(j/ g0 \c •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 XuVbi=pN.2 bT@3fuL4
EXK~Zf|&Z Ha)eeE$ 文件信息 aqK<}jy =.#*MYB.l
lGwX.cA!' jt@k<#h~ 更多阅读 LZqx6~]O >t.2!Z_RQ -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ]/XNfb -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination d/k&f5 Ie`kzssM J0~Ha u QQ:2987619807 '3 xvQFg
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