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摘要 0o&MB
Dp C. MoKa3 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 m#H3:-h,
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N6QVt f. 建模任务 r} _c &Bb<4R  "%2xR[NF 概述 _>o-UBb4]T o/cjXun* •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 a@d=>CT$ •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 ITuq/qts]A 8t"~Om5sG
 Y]`.InG@ !{^\1QK 光线追迹仿真 7YWNd^FI
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(2U6c •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 eBN)g^ •单击go！ )o _j]K+xI •获得了3D光线追迹结果。 5-u= o )> YMpf+kN
 OU DcY@x~ H %f:K2 光线追迹仿真 Ip utF<p Pj#'}ru! •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 %r KK[ •单击go！ vW,snxK6y& •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 5m $2Ku >"X\>M `"
 Ac k}QzXO hm$X]H`uMX 场追迹仿真 [Bb utGvj c2SC|s] •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 U4?(A@z9^ •单击go！ Doze8pn +';>=hha  {0\,0*^p
Z-=YM P ]Q 场追迹仿真（相机探测器） kQdt}o]) V) o,1
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 6&v? ) o •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 )(Iy <Y?# tY W>t9
 w&&2H8 ?^Hf Np9 场追迹仿真（电磁场探测器） G*[P <<je_ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 XdgUqQb} 4NVV5_K a  @* 1U{`
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer +y+"Fyl
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination I 1d0iU Upl6:xYrG
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