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摘要 N?:S?p9R@ roQIP%h! 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 <3OV L1K_|X
(avaTUMOqy [r'M_foga* 建模任务 Gu=bPQOj _bsfM;u.% x$sQ .aT 概述 I`1=VC]^8 ](pD<FfS]' •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 )I_I?e •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 cd#TKmh7re SNFz#*
Stpho4+/y |R;=P(0it 光线追迹仿真 h#9)M H*IoJL6 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 Zx0c6d!B •单击go! 9G9lSj5> •获得了3D光线追迹结果。 aleIy}" Oylw,*%
SQK6BEjE8 zwS'AN'A 光线追迹仿真 2"T&Fp< .X9^ A,9 •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 52,a5TVG •单击go! .>e~J+oL •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 0fNBy^(K 3 -FNd~%
ufOaD7 wVTo7o%U 场追迹仿真 R_}(p2 U_?RN)>j •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 \I=:,cz*, •单击go! &0`L; 1R `,O^=HBM %/y/,yd K||85l?< 场追迹仿真(相机探测器) t30V_`eQ ?{'Q}% •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 1C{~!=6# •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 H#D=vx' O%I'
w;"'l]W *V/SI E*8 场追迹仿真(电磁场探测器) zob-z==' •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 |(N4x(xl
;L7<mU P\R3/g $H}Q"^rs 场追迹仿真(电磁场探测器) li[g =A,
o0q{:An_Z •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 8b/yT4f Q1rwTg\
;Baf&xK $f%_ 4 = 文件信息 6S(3tvUr f &H`h
uf6{M_jXZ ]=/f` 更多阅读 S}+n\pyQ Jad'8}0J -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer +W}f0@#)< -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 0|cQx
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