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摘要 W2LblZE! r#Oz0=0u 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 *gpD4c7A\
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u#k6v\/ 建模任务 GpQF * x &-)Y[#\J
 8}E(UsTa 概述 .Qw@H#dtW ^ {+:w:g •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 >u#VHaB •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 < 3+&DV-<N rxk{Li<9
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=#-u&l imq(3? 光线追迹仿真 Q>c6ouuJ !l ~aRj-WZ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 YqCK#zT / •单击go！ DN{G$$or •获得了3D光线追迹结果。 /+U)!$zm* u iEA=*axp
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lO 光线追迹仿真 [)0 k} 0!\q •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 x#VUEu]8 •单击go！ cW^) $>A •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 O ;t?@!_ \k-juF80
 MF sy`aiS t"vO&+x 场追迹仿真 {Y TF]J $ :R x"WY •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 O +}EE^*a •单击go！ Y rnqi-P fR;_6?p*B  ZTC1t_
,PxQ[CGg 场追迹仿真（相机探测器） ?^ 5*[H ?G w89r •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 $s!meg@s •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 n{ WJ.Y* / {~h?P}
 .g?,:$`0D? f+~!s 2uw 场追迹仿真（电磁场探测器） b u9&sQ; •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 o@;_(knb L4Y3\4xXO  X6
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 3<V!y&a 4=:eGlU93U 更多阅读 X#< Sv>c^
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-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination r!iuwE@ _3[BS9
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