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摘要 rT7^-B* 1dG06<! 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 aXR%;]<Dw VOgi7\ w:ULi3 O!R"v' 建模任务 oXY Moi mJ <'m6^]: 概述 .p@N:)W6 3<(q } •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ;j}yB •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 VcgBLkIF zCe/Kukvy
}E&NPp> ^Udv]Wh 光线追迹仿真 JWHSnu! :pC;`iQ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 Vb4;-?s_ •单击go! h/ep`-YaH •获得了3D光线追迹结果。 .YcN S% M'5'O;kn mh`|=M]8E {]/8skov5] 光线追迹仿真 yfe'>]7 ,E*R,'w
•然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 1Ix3i9 •单击go! :d'
5O8 •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 5vOC CW <[Oo*:A!7 u?0d[mC v[ ,Src 场追迹仿真 wyY*:{lZ i@$*Csj\9* •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 \U @3` •单击go! %u!XzdG r/r:oXK 0!#;j{JQ !{%G0(Dv 场追迹仿真(相机探测器) 4<v;1
ijYvqZ_ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 vq6%Ey3Gix •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 1:NS}r+>3. shFc[A,r} `/:cfP\ D3]BTkMMS; 场追迹仿真(电磁场探测器) &O1v,$}' •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 2@i;_3sv +x1/-J8_sg q)I|2~Q c^ eBcJm 场追迹仿真(电磁场探测器) w]!0< ]((i?{jb( •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 $@uU@fLB %_f;G+fK\p {d!Y3+I%G ZF{~ih*^u 文件信息 bhg}-dto 8vD3=yK%^ oY3>UZ5\ JF9Hfs/jS 更多阅读 optBA3@e! j\2[H^
-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 32>x^>G=> -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination |E^|X!+9 2p< Aj! nX[;^v/ QQ:2987619807 \
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