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    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 'C8=d(mR=m  
    |@9I5Eg)iE  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 zbKW.u]v  
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    Xv(9 Yh S  
    建模任务 wuCtg=  
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    概述 ^%/5-0?xE  
    FwzA_ nn  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 x;]{ 8#-z  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 = y,avR  
    !rqR]nd  
    8 =Lv7G%  
    }EG(!)u  
    光线追迹仿真 ]6[d-$#^ko  
    e9~4wt  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ]|BSX-V.%i  
    •单击go! (#"s!!b  
    •获得了3D光线追迹结果。 YD.^\E4o  
    1KR|i"  
    E"yf!*  
    ~,65/O  
    光线追迹仿真 {!?RG\EYN  
    `GWq3c5  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 %4KJ&R (>[  
    •单击go! Oydmq,sVe(  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 +B|X k[  
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    R51!j>[fqM  
    场追迹仿真 +E[)@;T  
    D8{HOv;d^  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 pREY AZh  
    •单击go! {EN@,3bA  
    JU.%;e7  
    9o'6es..@Z  
    ,#O8:s  
    场追迹仿真(相机探测器) MW>28  
    -d)n0)9  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 4^^rOi0  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 GLF"`M/g  
    `R?W @,@'  
    ghj~r  
    j'x{j %U  
    场追迹仿真(电磁场探测器) GP'Y!cl  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ?zu{&aOX|  
    a$O]'}]`  
    wKbymmG  
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    场追迹仿真(电磁场探测器) 9r#{s Y  
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    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 [wG%@0\  
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    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer LTct0Gh  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
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