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摘要 f|b|\/.= >\@6i
s 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 8`^I.tD 9OTw6
)@Bt[mfrVD PHz/^p3F 建模任务 KIuYWr7& ETtK%%F0 S&R~* 概述 qed;
UyN S:t7U% •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 778L[wYe •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 t[^}/
S bu$5gGWVf
uQ&xoDCB !E$S&zVMQ 光线追迹仿真 ['sIR+c%'O -R:1-0I$ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 D6v0n6w •单击go! .oSKSld •获得了3D光线追迹结果。 CBO8^M<K !'PPj_Hp]
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? 光线追迹仿真 N"2@yaN r]8B6iV •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 (zTr/ •单击go! j)J4[j •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 h~F uuL Q<78<#I
H:0-.a^ZS <'s1+^LC 场追迹仿真 5M*ZZ+YX N\xqy-L9 •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 e[{LNM{/# •单击go! .Sb|+[{ xat)9Yb}0 i5-V$ Qh wd1*wt 场追迹仿真(相机探测器) wV U(Du -/FCd( •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 44S<(Re •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 d)dIIzv [KCh,'&
6,oi(RAf kQ4%J,7e4 场追迹仿真(电磁场探测器) fzw6VGTf •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ;/e!!P]jP {;z3$/JB b;S~`PL } |sP;Rpu 场追迹仿真(电磁场探测器) PJb_QL!9 Z1q'4h=F. •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ?VReKv1\ |!&,etu
2t[inzn=E A0&~U0*(~ 文件信息 8xL-j2w GJ?rqmbL
'+-R 7# N}s[0s 更多阅读 r:YAn^Lg S0"OU0`N -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer T@k&YJ
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ty/jTo} '!En,*'IS m>UJ; F QQ:2987619807 qr6WSBc
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