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摘要 ;D$)P7k6 <vwkjCA` 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 wg w(YU GH[wv<
r7',3V 2+X\}s1vN 建模任务 MR}Agu#LG FHV-BuH5 P
3'O/! 概述 3d|9t9v h9eMcCU •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 4rrSb* •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 '}$Dgp6e 4^URX>nx8
r\/+Oa' 50={%R 光线追迹仿真 ttu&@
= ^_m9KA •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 \eFR(gO+ •单击go! @9"J|} •获得了3D光线追迹结果。 ~
yX2\i" 8]LD]h)B"
=kuMWaD )P+7PhE{J 光线追迹仿真 8-O)Xx}cU 4]E3cAJ •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 cb}[S:&| •单击go! _F`lq_C •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 rvw)-=qR[ Gh}*q|Lz
!@v7Zu43, |vw"[7_aS 场追迹仿真 Bs?^2T~%{ 4F{70"a •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 ^(FdXGs[ •单击go!
)KAEt.
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o>g y~\oTJb LSRk7'0 场追迹仿真(相机探测器) *Em,*! *I0T{~ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 Ct>GYk$ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 % oo2/aF OtNd,U.dE
_D+J!f^ ;&)-;l7M 场追迹仿真(电磁场探测器) @!1x7%]G •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 J7g8D{4 sL$:"= _/tHD]um aSnFKB 场追迹仿真(电磁场探测器) i ,/0/?)*_ B]l)++~ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 HKUn`ng sdo[D
(R("H/6xs w}YlVete 文件信息 =aTv! 8</ m* kl
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K- 更多阅读 m+T;O/lG0{ 7](KV" %V -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer u@cYw:-C -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination "LlfOKG 0a XPPnuX ?m\t|/0Q QQ:2987619807 @pRlxkvV
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