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    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 1V#0\1sj  
    ]~$c~*0g  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 m=#aHF  
    *X%?3"WH8  
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    建模任务 Hf;RIl2F  
    \MfR #k0  
    |}l@w +N3  
    概述 t)YFTO"Jj  
    22l|!B%o  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 E=$7ieW  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 IiG4ib>)W  
    niXHK$@5  
    ^H f+du  
    1!K !oY  
    光线追迹仿真 FEge+`{,  
    wa9'2a1?  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 Y+|L 3'H  
    •单击go! -HO6K) ur  
    •获得了3D光线追迹结果。 ?,.HA@T%  
    40`9t Xn  
    x& mz-  
    V5hp Y ]  
    光线追迹仿真 pE9aT5 L  
    u40b? n.  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 k#{lt-a/  
    •单击go! fx8y`8}_  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 $}^Rsv(  
    .Y=Z!Q  
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    |;x fe"]  
    场追迹仿真 g?k#wj1uH  
    3C E 39W  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 S jC)6mo  
    •单击go! PM#$H  
    ,U} 5  
    JKEXYE  
    X3&SL~&>g  
    场追迹仿真(相机探测器) hlABu)B'1  
    O=4c eE mz  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 e<: 4czh8  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 7]<F>97  
    #dxJ#  
    F$"MFdc[  
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    场追迹仿真(电磁场探测器) Kt/+PS  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 h^.tom g8  
    ^Yg|P&e(;  
    8AC. 2 v?_  
    5bGjO&$l  
    场追迹仿真(电磁场探测器) ZC9.R$}Kl  
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    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 8Izn'>"  
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    更多阅读 G{&yzHAuae  
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    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer E9Qd>o  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
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