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摘要 5HL>2
e[ 9S'\& mR l 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 CnY dj~
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Y%]g,mG 建模任务 c(?O E'
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]  p"cY/2w:j 概述 V)`Q0} \[+':o`LH •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 G8^b9xoA+. •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 :t+Lu H g )0;O<G] d
 FEa%wS{ lu1T+@t 光线追迹仿真 .&^M
Z8 _A ]~`/0;` •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 =5%}CbUU)4 •单击go！ /~<Przw •获得了3D光线追迹结果。 "6?Y$y/wm nu|odP
 Xa>c ]j ?f:\&+.& 光线追迹仿真 4HXNu, T' &.0 wPyw •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 kwt;pxp i •单击go！ CFY4PuI"! •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 cetlr J/ vcP
 j z&= 8 63i&e/pv 场追迹仿真 u`*$EP-% z5[Qh<M •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 FEA/}*2F •单击go！ e7U9"pk #:
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(jE[ W: 场追迹仿真（相机探测器） xU 9^8,6 T5 BoOVgO •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 xoE,3Sn •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 + n 8,=} LA837%)
 90$`A MR 9>5]y}.{ 场追迹仿真（电磁场探测器） GlXzH1wZ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 FC8=
ru rk?G[C)2c  R&}{_1dj8
n 8e}8.Bu 场追迹仿真（电磁场探测器） umiD2BRZ
|:`gjl_Nf •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 RveMz$Yy jZ69sDhE
 9n".Q-V;k s8kkf5bu 文件信息 H*dQT y, ' P-FeN^
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer af7\2 g3*
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ;,Ll OR gC S%J40r
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