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摘要 mnw(x#%P e&K7n@ 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 h\5~&}Hp [.$/o}
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建模任务 I]cZcx,<q IR&b2FTcU Dc 84^>l 概述 =B`=f,,#3 :bCswgd[ •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 FTzc,6 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 K;`W4:, 2_Zn?#G8dl
Zrew}0 Zeq^dV5y77 光线追迹仿真 %WqUZ+yy Fr<tk^~/ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。
Xi~I<& •单击go! #%/Jr 52< •获得了3D光线追迹结果。 zFY$^Oz"_ i&<@}:,
LaL{
^wP '#yIcV$ 光线追迹仿真 f1B t6|W% B->oTC`5 •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 {@'#|]4y. •单击go! YpG6p0
nd •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 c0_512 [Kb)Q{=)
Ax9A-| ?\<Kb|Q 场追迹仿真 9U@>&3[v Y~I0\8s- •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 j#l1KO^y •单击go! Gsy90 YWDd[\4 l{\k\Q !4 [t*-s1cq 场追迹仿真(相机探测器) $_|jI
^ `:dGPBBO •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 bkm:#K •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 |T*t3} MB6lKLy6~
v5FfxDvw UY)Iu|~0b 场追迹仿真(电磁场探测器) J6nH|s8 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 m$g{& Zlv`yC*r 5X9*K mhNgXp)_56 场追迹仿真(电磁场探测器) j,1cb,}=^ Vp8!-[R •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 /g!X[rn7Q d:hX3
0{stIgB$ aOEW$% 文件信息 D&6.> wt
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99[v/L>F /f>I;z1 更多阅读 %.:]4jhk |jKFk.M -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer vtq47i -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination //#]CsFiP ?~; q r \~T&C5 QQ:2987619807 8>:u%+C1c
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