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摘要 ?>o39|M_w yJp& A 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 !)9zH
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#Y18z5vo 建模任务 Q Hs]~Ja Pucf 0 #  9i`LOl:; 概述 `P z !H IWT##']G •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 A:NY:#uC •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 [U jbox MJg^
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 ixS78KIr ADBw" ? > 光线追迹仿真 THu a?,oyW T] v D ,I+ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 Zh(f2urKV •单击go！ r\Nn WS J •获得了3D光线追迹结果。 ;:!LAe
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 sJ?kp^!g 1Xs! ew)> 光线追迹仿真 lT:<ZQyjT !J71[4t •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 #* Hhe> •单击go！ p5H Mg\hT •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 Va 5U`0 9/%|#b-z
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]~]%K$y b R6bS7$ 场追迹仿真 9]Ym P8 m:41 zoV •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 {Y@[hoHtF •单击go！ 16+@#d%#p 4YCGh  VC+\RB#:-
14&EdTG. 场追迹仿真（相机探测器） RTU :J67E g/@C ESfm' •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 drZw#b •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 d G rA 18 U iSc*_N"
 H{XW?O^@ m,KY_1%M 场追迹仿真（电磁场探测器） UEe qk"t^ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 NWpRzh8$u wLO/2V}/  us cR/d
TXa XJIp 场追迹仿真（电磁场探测器） Rk=B;
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer H5AY6),
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination e>^R 8qM ? ~V&R eW/
@CmxH(-i- QQ：2987619807 5^dw!^d
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