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摘要 @!=\R^#p #PLEPB 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 nHFrG
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]pA(K?Lbg }SyxPXs 建模任务 Die-@z|Y ^:, l\Y kW3E =pr 概述 2B~wHv Lr;(xw\[' •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 = 64r:E •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 84zTCX 0:Xxl76v4
B=L&bx Q }k.JS~# 光线追迹仿真 =Yo1v=wxN = iB,["s •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 YO)$M-]>%J •单击go! ".*x!l0y7 •获得了3D光线追迹结果。 PrQ?PvA<L G%p~m%zIK
[t\B6XxT ge3sU5iZ 光线追迹仿真 8cx=#Me fpyz' •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 Cm$1$?J •单击go! f},oj4P\ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 0X2@CPIFf Q~D`cc|]
jo+w> ]Hj<IvG 场追迹仿真 TjK{9A 3q[WHwmm •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 - "*r •单击go! NIr@R7MKd Z!xVgM{ v;#=e$%}MO `?\tUO2_T 场追迹仿真(相机探测器) Nb2Qp
K ExSe=4q# •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 m%+IPZ2m •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 PALl sGlf kyh_9K1
nq}Q EY`H}S!xy 场追迹仿真(电磁场探测器) /e\{
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 5pNY)>]t= O[17";P ~d{.ng 4K ( fD
;g9 场追迹仿真(电磁场探测器) d&cU* ,[p
T4G •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 $h9='0Wi0' qJ!Z~-hS
hli|B+:m" @Fv=u 文件信息 k?BJdg)xJ WE}kTq
sH,kW|D ;wiao(t>4N 更多阅读 7x]4`#u o{v&.z -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer :vx$vZb -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination z@s5m} >>l`,+y eC
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