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摘要 GiKmB-HO ch)#NHZ9F 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 "Xj>dB1~
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8nTdZu 建模任务 2$O6%0 t]6
4=  S~\u]j^%y 概述 eo<=Q|nI& / jN &VpDG •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 v;:. k,E0 •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 Bw4PxJs- ,%]x T>kH
 Z`yW2ON$' k -8$ 43 光线追迹仿真 | (: PX [p96H)8YU •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 / S`d? AV •单击go！ .] BJM?9 •获得了3D光线追迹结果。 2^fSC`! _j?/O)M
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F sSY c59l/qoz 光线追迹仿真 ILT.yxV |r/4
({n •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 ''wF%q •单击go！ !;.nL-NQ •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 g g QI f/]g@/`
 ("_tML 8/p fMIKA72>{ 场追迹仿真 Z$ 6yB "%)^:('Ki •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 Gu\lV c •单击go！ X-J<gI(Y <'<{|$Pw  Z{
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qb$f ,E[ 场追迹仿真（相机探测器） r^!P=BS{ ['_G1_p •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 (C!33s1 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 dS"%( ?o ^6Y:9+
 "~aC W~ H8?Kgaj~vf 场追迹仿真（电磁场探测器） c!=^C/5Ee •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 IQQWp@w#8 [9xUMX^}  /]" 2;e-s+
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-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination H}B%OFI \+ "R v],O"
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