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摘要 ek l? K~ "U5Ln2X{J 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 [cTRz*\s
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:U-US|)(2 建模任务 ofPF} ?;r8SowZ7  DtJTnvG~B 概述 =4M.QA@lI! rMXOwkE •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ghJ,s|lH •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 d[>N6?JA/ ReB(T7Vk=
$ `XN 8 W1K3[Jj< 光线追迹仿真 %+7T9>+ @ cS1w'= •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 Fyh?4!/ . •单击go！ =~W0 ~lxX •获得了3D光线追迹结果。 A K~`pq[. kh>SrW]B%
 1 ~B< kuTq8p2E 光线追迹仿真 ]4 K1%ZV N&x WHFn]C •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 R!_8jD:$ •单击go！ \%-E"[! •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 ,. 6J6{ I4o =6ts
 MKVfy:g%So F; MF:;mM 场追迹仿真 _@BRpLs:4 k binf •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 n2jvXLJq •单击go！ f- k|w%R@ c+Q.?vJ  i!1ho T$
u^aFj%}]L 场追迹仿真（相机探测器） KT LbqSS\ *793H\ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 { ;Y 89&*R •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 _X,[]+ziu% !y
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 S/nj5Lh $KwI}>E4 场追迹仿真（电磁场探测器） DD/>{kff •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Xx3 g3P #K :-Bys5v  `?zg3GD_
*]}CSZ[> 场追迹仿真（电磁场探测器） cQ3W;F8|n
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 Ci7P%]9 O6m.t%* 文件信息 -y&v9OC2- &dhcKO< 4
 :jt;EzCLg% V>b2b5QAH, 更多阅读 .N~PHyXZR
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ,hpH!J'5f/
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination V; h=8C 5J ?a'6EAErC
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