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    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 ;D$)P7k6  
    <vwkjCA`  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 wgw(YU  
    GH[wv<  
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    2+X\}s1vN  
    建模任务 MR}Agu#LG  
    FHV-BuH5  
    P 3'O/!  
    概述 3d|9t9v  
    h9eMcCU  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 4rrSb*  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 '} $Dgp6e  
    4^URX >nx8  
    r\/+Oa'  
    50={%R  
    光线追迹仿真 ttu&@ =  
    ^_m9KA  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 \eFR(gO+  
    •单击go! @9"J|}  
    •获得了3D光线追迹结果。 ~ yX2\i"  
    8]LD]h)B"  
     =kuMWaD  
    )P+7PhE{J  
    光线追迹仿真 8-O)Xx}cU  
    4]E3c AJ  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 cb}[S:&|  
    •单击go! _F`lq_C  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 rvw)-=qR[  
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    !@v7Zu43,  
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    场追迹仿真 Bs?^2T~%{  
    4F{70"a  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 ^ (FdXGs[  
    •单击go! )KAEt.  
    VTH> o>g  
    y~\oTJb  
    LSRk7'0  
    场追迹仿真(相机探测器) *Em,*!  
    *I0T{~  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 Ct>GYk$  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 % oo2/aF  
    OtNd,U.dE  
    _D+J!f^  
    ;&)-;l7M  
    场追迹仿真(电磁场探测器) @!1x7%]G  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 J7g8D{4  
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    场追迹仿真(电磁场探测器) i,/0/?)*_  
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    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 HKUn`ng  
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    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer u@cYw:-C  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
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    QQ:2987619807 @pRlxkvV  
     
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