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摘要 y:6&P6`dx 3l?D%E]P 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 iGG; cVHv>nd#
YzTmXwuA5 GfEg][f 建模任务 ';g]!XsY) 35}{dr mez )G| 概述 RQzcsO n9.` 5BH7/ •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 b2x8t7%O •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 7_,)"J2^ Ok7i^-85
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C 光线追迹仿真 _wa1R+`_ y/!h.[ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 %O$4da"y •单击go! ! }u'% •获得了3D光线追迹结果。 oz!;sj{,D $S~e"ca1
m2!y;)F0 5ZG-3qj 光线追迹仿真 ,j{$SuZM m"MTw@}SJ; •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 D8u_Z<6IjI •单击go! _x<CTFTL •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 Hu"?wZj X{SD3j=G#
AL #w 8$SA"c) 场追迹仿真 P4vW.|@ /IDfGAE •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 J%ym1A9 •单击go! k _)H$* ]YF[W`2h VGLE5lP X '%&i#Eb 场追迹仿真(相机探测器) O=wA/T=w? mT8")J|2 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 %T3L-{s5 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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A;~u"g 'z& )*[3Imq/ 场追迹仿真(电磁场探测器) @pueM+(L& •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 pgg4<j_mn nK*$P +[R v#EXlpS vO#4$, 场追迹仿真(电磁场探测器) 5Qb%g)jZ 4zyy •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 I 2JE@? T7E9l
ejYJOTT{^ $E;`Y|r%WK 文件信息 /"d5<B `% D{~mJDUzK
g%1FTl <<>?`7N 更多阅读 bqmOfGM ;74hOHDS -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer :(A5,$ -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination I~lX53D n dRy&[f7 $Bd{Y"P@6 QQ:2987619807 0w?\KHT
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