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摘要 6XyhOs%/ *nUD6(@g 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 ql,k 5.l ,!U._ic'B
N)Fy#6 QDCu 建模任务 -r%4,4 A:$Qt%c .&O}/B 概述 2QwdDKMS_ JvFd2@ •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 9\9:)q •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 dh r)ra] B"rV-,n{
G gmv(! k}T#-Gb 光线追迹仿真 0k"n;:KM8 &2-dZK •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 7x8/Vz@\ •单击go! _U}pdzX? •获得了3D光线追迹结果。 G'b*.\= ,CiN@T \&
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Ro 8 光线追迹仿真 ``*iK 0mcZe5RS •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 \.c •单击go! =7{n 2 •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 A1Tk6i<F1 y;zp*(}f$h
zu8 cMxuG'{=. 场追迹仿真 ;Fw{p{7< c*o05pMS •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 ;a@%FWc •单击go! T,z7U2O AE`z~L, , y%!s27 _a?c,<A 场追迹仿真(相机探测器) )l 0\TF Ql`N)! •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 ~>8yJLZ.7 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 +OSF0#bj \F`%vZrKR
;+ : C sfb)iH|sW 场追迹仿真(电磁场探测器) Zb> UY8 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 4%k{vo5i )1#J4 tf1iRXf8 a=m4)tjk 场追迹仿真(电磁场探测器) v6uXik .|ZO2MCd •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 u!$+1fI> Uwj|To&QR
=$kSvCjP ;UU`kk 文件信息 ,x (?7ZW> "d1~(0=6<m
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2c)Ez? -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 10?+6*d -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 2%!yV~Z Mk-zeq<2z 3MqyHOOv QQ:2987619807 o8uak*"{
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