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摘要 FIlw v<_}Br2I[ 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 D4G*K*z,w4
D} px=?
 3 =@7:4 A
2GX Aq~h@ 建模任务 [nn/a?Z4 S ,ZV<o!\  cQzd0X 概述 26>e0hBh& `r'q(M •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 7!hL(k [ •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 c)#b*k,lw< 5H:NY |
 yfiRMN"2 +che Lc 光线追迹仿真 wd~e3%JM WW0N"m' •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 X}0NeG^'O •单击go！ o DPs xw •获得了3D光线追迹结果。 = r3Yt9 Thn-8DT
 p*_g0_^ a3 6n}R4Q 光线追迹仿真 ,~ X^8oY B{H;3{0 •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 fW!~*Q •单击go！ y&t&'l/m •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 \r^=W= -
4' yp
 hUSr1jlA #p&i H9c_ 场追迹仿真 %bZ3^ ub}t s#&jE
GBug •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 k )Z? •单击go！ Xp1xhb*^ RR{]^g51  pwT|T;j*
(3 8.s:- 场追迹仿真（相机探测器） y mY,*Rb 8^\DQ& D •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 &.an- •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 0?BT* %FT F
 -0YS$v%au> p+snBaAo} 场追迹仿真（电磁场探测器） u Zz^>* b •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 !9356) cV 0fxA*]h  `O.*qs5
}di)4=U9 场追迹仿真（电磁场探测器） RQ y|W}d_
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]2=5;) •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 w:r 0> L7G':oA_`p
 rs~RKTv- a N ). G1 文件信息 h\Op|#gIT }%| (G[
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer "%D+_Yb'X
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination (=CV")tF f6PXcV
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