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摘要 'C8=d(mR=m |@9I5Eg)iE 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 zbKW.u]v wN0OAbtX'
wk7_(gT`0 Xv(9 YhS 建模任务 wuC tg= m6ws#%|[ WHk/mAI-s 概述 ^%/5-0?xE FwzA_
nn •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 x;]{ 8#-z •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 =
y,avR !rqR]nd
8 =Lv7G% }EG(!)u 光线追迹仿真 ]6[d-$#^ko e9~4wt •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ]|BSX-V.%i •单击go! ( #"s!!b •获得了3D光线追迹结果。 YD.^\E4o 1KR|i"
E"yf!* ~,65/O 光线追迹仿真 {!?RG\EYN `GWq3c5 •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 %4KJ&R
(>[ •单击go! Oydmq,sVe( •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 +B|X
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h R51!j>[fqM 场追迹仿真 +E[)@;T D8{HOv;d^ •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 pREYAZh •单击go! {EN@,3bA JU.%;e7 9o'6es..@Z ,#O8:s 场追迹仿真(相机探测器) MW>28 -d)n0)9 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 4^^rOi0 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 GLF"`M /g `R?W @,@'
ghj~r j'x{j %U 场追迹仿真(电磁场探测器) GP'Y!cl •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ?zu{&aOX| a$O]'}]` wKbymmG @&B!P3{f 场追迹仿真(电磁场探测器) 9r#{s Y #L$ I%L" •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 [wG%@0\ 1hS~!r'qqv
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文件信息 I!O S&8:u BAHx7x#(
S$WM&9U c10).zZ 更多阅读 lHqx}n@e A$6b=2hc> -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer LTct0Gh -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination d]`,}vi#E9 x&vD,|V! `aycYoD QQ:2987619807 j #YFwX4.
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