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摘要 =b,$jCv<,5 ? $p GG 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 xpFu$2T6P.
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{^9,Dy_D 建模任务 KBzEEvx/$ yqlkf$?  e @p` -;< 概述 ?`\<t$M +Qu~UK\ •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 B/E1nBobC •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 N&S :=x:$S /lttJJDU
 D.qbzJz S~YrXQ{_>- 光线追迹仿真
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q •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 :@_CQc*yB •单击go！ ]ZO^@sH •获得了3D光线追迹结果。 I=f1kr
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 lqqY5l6j BEPDyy 光线追迹仿真 A &w)@DOe :Iwe> ;} •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 ]|Vm!Q •单击go！ sPkT >q •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 Yl8tjq}iC w i*Ke2YKP
 `U p< ; g IX"W; 场追迹仿真 k>VP<Zm13 Gpe h#Q4x •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 X@x:
F|/P •单击go！ AP3SOT3I 3m7$$ N|  }}t"^m s
.j7|;Ag 场追迹仿真（相机探测器） uT]_pKm 56?U4wj7{ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 b)@D*plS& •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 {!^HG+ * I'O_D
 ~ D3'-,n[ Wf: AMxDm 场追迹仿真（电磁场探测器） MB ^ b)\X •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 =5dv38 * +A!12s@  'O\K Wj {
Q:_pW<^ 场追迹仿真（电磁场探测器） n6Q 3X
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ^o?.Rph|i]
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination #B+2qD>E / d6mlQS
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