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摘要 1xL2f&bG 9"=:\PE 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 V_Wv(G0-\ opte)=]J
2[r#y1ro 3PpycJ} 建模任务 IZi1N 6Nj\N oS :f 1*-y 概述 'F5&f9A Cb x/ •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 lyF~E •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 [,8@oM# (pREo/ T
c,!Ijn\;(
3RXq/E 光线追迹仿真 HP:ee+n 7xMvf<1P •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 (6^v`SZ •单击go! PUuxKW} •获得了3D光线追迹结果。 :~~}|Eu L1VUfEG-
ZMt9'w; jdK~]eld= 光线追迹仿真 A Ns.`S 3PIZay •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 <ZSH1~<{6 •单击go! ~-.}]N+([ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 }JeGjpAcV A0m
^vn8s~# B:\\aOEj 场追迹仿真 -y5^xR Qj.]I0d •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 %YkJA: •单击go! (0 /,R 'Ybd'|t{} :.e`w#$7 I<`K;El' 场追迹仿真(相机探测器) DzydS=`w ;R|i@[(J •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 n+QUT •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 29("gB N:?UA
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场追迹仿真(电磁场探测器) 4QC"|<9R •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 *oopdGue ZKy)F-yX @ol=gBU K2$ fKju 场追迹仿真(电磁场探测器) 5$f
vI#NO< ?QxI2J •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 2;Vss<hR4A p)6!GdT
)3K# ${p tpu2e*n-| 文件信息 ,;;7+|` L7i2is
KaVNRS ,LI$=lJ@ 更多阅读 H<_BnT# O[}{$NXw -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer mj{B_3b5 -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination F1_s%& (LiS9|J! LSewMj QQ:2987619807 I0iTa99K
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