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摘要 N$<R6DU]K $[+)N~ 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 l|K$6>80 G)&S%R!i\N
WO[O0!X X>U _v 建模任务 F<Ig(Wl#az .:B;%* #:tC^7qk 概述 &|fWtl;43 P$6Pe>3 •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 j-7aJj% •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 aJ
J63aJ {Hzj(c~S?
pLtK :Z SL?YU(a 光线追迹仿真 x,TnYqT^ `a9iq> •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ev1:0P •单击go! Gk:k
px •获得了3D光线追迹结果。 %;b] k 0t6DD
<AU0ir __`6 W1 光线追迹仿真 pg{cZ1/ "0J;H#Y"# •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 !k!1h%7q •单击go! ^CP>|JWD^ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 ^#4Ah[:XA _3q}K
nRs:^Q~o VUZeC,FfO 场追迹仿真 [I}xR(a@n 4++p K;I •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 L$v<t/W •单击go! bRK\Tua
6 r\FduyOXv j8;Uny9 i'[! 'HY 场追迹仿真(相机探测器) n2Ew0- $ J!PSF8PL •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 >L J<6s[= •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 $.zd,}l@L 5.
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-x-EU#.G z&CBjlh 场追迹仿真(电磁场探测器) ym'!f|9AA •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 XC4wm#R w|61dB '~zi~Q7M _}tPtHPa/ 场追迹仿真(电磁场探测器) 0 KA@]! hP$5>G(3 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 }H|'W[Q. ]rji]4s
C]Q}HI#G lLLPvW[Q 文件信息 k\IdKiOj!D 9V>C %I
uobQS! #szIYyk 更多阅读 8L5O5F' fpJ%{z2 -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer Q;GcV&f;f -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination eu'~(_2 8y;gs1d;A G|TnvZ KX QQ:2987619807 S_38U
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