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摘要 bDq[j8IT6 v62O+{ 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 Z?"f# |b^+=
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Fx6]x$3 O4lHR6M2 建模任务 (]gd$BgD q"C(`S.@ {>rGe#Vu 概述 {Z!x]}{M ?=#vp / •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 :Y)jf •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 8DLj?M>N kACgP!~/1
S;L=W9=wby *JT,]7> 光线追迹仿真 4M,Q{G|e E8LA+dKN: •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 vj,OX~| •单击go! {@YY8SKb9 •获得了3D光线追迹结果。 OPe3p {] mtd ,m
/;{E}` vnr{Ekg 光线追迹仿真 YDxEWK< Vz
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•然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 $L kTu •单击go! lC8Z@wkjO •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 ~OSgpM#O!T 'L$}!H1y
,*MAteD o7i>D6^^ 场追迹仿真 Wb{0UkApJ }p|S3/G?$! •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
bo|3sN+D •单击go! iKM!>Fi >K;DBy* a2%xW_e @^cR 场追迹仿真(相机探测器) wSd|-e A29R5 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 SPN5H;{[]K •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 [L ?^+p> n4sO#p)'
uEui{_2$ J5Ovj,[EZ 场追迹仿真(电磁场探测器) DmtCEKa •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Em ;2fh q/#pol @i <vlHpl f Hd|tl 场追迹仿真(电磁场探测器) -qqI@+u+ NpLZ
,|H •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 /P%OXn$i/ ORx6r=zg
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iu.v8I;< 文件信息 L+.&e4f'oj >r\q6f#J4
~YRG9TK YN}vAFR` 更多阅读 rt0_[i V|&->9" -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 6^e}^~| -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination `n?Rxhkwp pf$gvL #IR,KX3]A QQ:2987619807 K1$
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