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摘要 k'`m97B L;_c|\% 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 ,O=a*%0rt
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~Y= @$!Uq 建模任务 P`$12<\O1 si1*Wt<3Bc  L^kp8o^$ 概述 |ifHSc.j< `U!y&Q$, •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 P#kGX(G9! •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 Qz<d~ N K YJ1}5n
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'@ )!9Ifk0KH 光线追迹仿真 gLD`wfZR @54*.q$ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ;sdN-mb •单击go！ i;\s.wrzH •获得了3D光线追迹结果。 g]mtFrP hVoNw6fE
 Ftb%{[0}u3 wn +FTqj 光线追迹仿真 "yb WD Wu KHiFJ_3 •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 KM?1/KZ/~ •单击go！
V+MK'<#B •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 S^RUw U S OKDDm
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场追迹仿真 UP1?5Q=H]Q d<p 2/ aA •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 Y8s;w!/ •单击go！ rp!
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场追迹仿真（相机探测器） I d8wS!W`7 }am U[U, •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 #5CI)4x0! •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 eBB:~,C^q. _]#klL
 M.%shrJ/ ^i%A7pg 场追迹仿真（电磁场探测器） <dR,' •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 O;XG^s@5 S0w> hr  c,5n , i
CDg AGy 场追迹仿真（电磁场探测器） ?qH F}k|
E{^^^"z P •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 9Ld9N;rWm# M=!i>(yG
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ?X_V#8JK
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ,"
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