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摘要 In)#`E` g. 7
C5m#e3 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 EnrRnVB oh5fNx
;q&>cnLDR *p.P/w@1 建模任务 #isBE}sT{ j!;?=s bYEq`kjzc 概述 m(Cn'@i`"0 dOFxzk,g&R •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 m.MOn3n] •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 V$wf;v0d( }Jgz#d
rBP!RSl1 ]OoqU-q 光线追迹仿真 !m$OI:rr ~h;c3#wuc •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 =S-'*F •单击go! MS6^= [" •获得了3D光线追迹结果。 '$M=H. ~PUz/^^
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33\{S$p ,2)LH'Xx 光线追迹仿真 }Y5Sf"~M a`CsL Bv& •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 ()vxTTa •单击go! 6ZVJ2xs[% •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 +gTnq")wnI
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GP uAIoBo ;""V s6 场追迹仿真 /r|^Dc Nx un[Z$moN" •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 :JSOj@s •单击go! S >uzW # D:llGdU#2 4.7ePbk[E s} ,p>8 场追迹仿真(相机探测器) "}|n;:r C} +w< •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 UR?[ba_h •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 ;y?,myO J;+iW*E:
;t@zH+*} oa+Rr&t' 场追迹仿真(电磁场探测器) :a}hd^;[%8 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 GLL, *;O$=PE AMvM H r 9@W8](\ 场追迹仿真(电磁场探测器) }7vX4{Yn 9xC,i
) •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 #P-S.b &&|*GAjJ
0,nDyTS^ G6Z2[Ej1 文件信息 ?K{CjwE.M T<DQi
`Bnp/9q5 <O>r e3s 更多阅读 cxrUk$f `R fhxzI -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer PV>-"2n -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ) ]U-7 gec<5Ewg N9Yc\?_NU_ QQ:2987619807 y_38;8ex
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