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摘要 QO&{Jx.^[ v+b#8 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 pSC\[%K a(Fx1`}
6#SUfK; "7X[@xX@ 建模任务 :kb2v1{\ .%x%b6EI uZ/XI {/ 概述
}\$CU
N (.Th?p%>7 •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 r|,_qNrw •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 #PJHwvr pcrarj
mN&B|KWU N R0"yJV> 光线追迹仿真 )nM<qaI{ mY1Gm| •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 :H(wW
•单击go! hzcSKRm •获得了3D光线追迹结果。 MX)mm^A Ww&r
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! mNk@WY_F 光线追迹仿真 2P(6R.8;6 5"WI^"6b: •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 uG){0%nX •单击go! > f*-9 •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 LuE0Hb"S8 m<liPl
uv
xMr=tU1C %5yP^BL0 场追迹仿真 uy'qIq pt_]&3\e •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 T jrz_o) •单击go! ;#XF.l,u F(DM$5z[ >*]dB| 2 Tf{lH9ca$ 场追迹仿真(相机探测器) s/\<;g:u^ k((kx: •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 f!K{f[aDa •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 m8,jV R "%rzL.</
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M{Sng nJ2910"< 场追迹仿真(电磁场探测器) | <bZ*7G •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 x,j%3/J^2 9
K~X+N\ HXb^K %%+@s 场追迹仿真(电磁场探测器) l[Ko> <El!,UBq< •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 oEJxey]B7 ufB9\yl{~
%zYTTPLZ t3<HE_B| 文件信息 j*_>/gi ,X)/ T!ff
hH]oJ}H \ 08_<G`r 更多阅读 Mt*eC)~Yx q-r5z GI -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer *]>~lO1 -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination (gEz<}Av. @g]>D '-V[tyE QQ:2987619807 1B`JvNtd
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