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摘要 Ur!~<4GO 4h8*mMghs 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 fu4!t3 1
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}y6q\#G 建模任务 r N5tI.iC ashar&'  66\jV6eH7L 概述 +,5-qm)Gh> =a$Oec g? •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 }x :f%Z5h •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 ~L{l+jK$p ]
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 !SxG(*u 0L#/lDNk 光线追迹仿真 VhEka# qP1FJ89H •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 h`Tz5% n •单击go！
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y 1 •获得了3D光线追迹结果。 PsnGXcj +Qj(B@ i
 [4Q"#[V&9 O !&,5 Dy 光线追迹仿真 )T| L,Lp Eu,`7iQ?( •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 ,6,]#R
:J •单击go！ fex,z%}p •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 Vf $Dnu@}z w>e
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 MX|H}+\ DjLL|jF 场追迹仿真 X}A'Cg0y _[h8P9YI4 •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 >:1P/U •单击go！ v=? 2S !3 qVB  j
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f 场追迹仿真（相机探测器） HM9fjl[ \6!W05[ Q •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 DAO]uh{6 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 'T8 W!&$ s:>\/[*>0c
 > BVoHt~; k cuzB+ 场追迹仿真（电磁场探测器） "Cz<d w]D •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Hi}RZMr 1 xTz %nx  PnYBy| yl
quxdG>8 场追迹仿真（电磁场探测器） r 2: 2,5_
gm"#:< ) •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ec3<%+0f S<wj*"|.s
 YN/ }9. ipE ]}0q 文件信息 8V/L:h#7 >SbK.Q@ei
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-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination .ic:` 1 |a^ U]
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