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    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 In)#`E` g.  
    7 C5m#e3  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 EnrRnVB  
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    *p.P/w@1  
    建模任务 #isBE}sT{  
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    概述 m(Cn'@i`"0  
    dOFxzk,g&R  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 m.MOn3n]  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 V$wf;v0d(  
    }Jgz#d  
    rBP!RSl1  
    ]OoqU-q  
    光线追迹仿真 !m$OI:rr  
    ~h;c3#wuc  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 =S-'*F  
    •单击go! MS6^= ["  
    •获得了3D光线追迹结果。 '$M=H.  
    ~PUz/^^ s  
    33\{S$p  
    ,2)LH 'Xx  
    光线追迹仿真 }Y5Sf"~M  
    a`CsLBv&  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 ()vxTTa  
    •单击go! 6ZVJ2xs[%  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 +gTnq")wnI  
    aF$HF;-y  
    GP uAIoBo  
    ;""V s6  
    场追迹仿真 /r|^Dc Nx  
    un[Z$moN"  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 :JSOj@s  
    •单击go! S >uzW #  
    D:llGdU#2  
    4.7ePbk[E  
    s} ,p>8  
    场追迹仿真(相机探测器) "}|n;:r  
    C}+w<  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 UR?[ba_h   
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 ;y?,myO  
    J;+iW*E:  
    ;t@zH+*}  
    oa+Rr&t'  
    场追迹仿真(电磁场探测器) :a}hd^;[%8  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 GLL,  
    *;O$=PE  
     AMvM H  
    r9@W8](\  
    场追迹仿真(电磁场探测器) }7vX4{Yn  
    9xC,i )  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 #P- S.b  
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    `Bnp/9q5  
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    更多阅读 cxrUk$f  
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    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer PV>-"2n  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
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    QQ:2987619807 y_38;8ex  
     
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