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摘要 'e{e>>03 IXd&$h]Lq 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 i$%;z~#wW $2;YJjz(
K;[V`)d' U$0#j 建模任务 cC4*4bMm 9%\q* .bL{fBTT~ 概述 &yVii^ .lTGFeJqZ4 •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 %o^'(L@z •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 Vfc9+T+ o Q{gh$6*
Z(Q?epyT 8V~w3ssz 光线追迹仿真 #c?\(qjWA wW!*"z •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 rl4daV&,U •单击go! (qB$I\ •获得了3D光线追迹结果。 173/A=] p1X
lni%=
,JVD ;u >@ge[MuS 光线追迹仿真 <V>vDno\ n%"s_W'E •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 W P.6ea7k •单击go! '%K,A-7W •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 }>)"!p;t_ ;O{AYF?,N
q;B-np?U gDAA>U3|$ 场追迹仿真 Gi;eDrgj~ _Vp9Y:mX2 •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 tLV9b %i( •单击go! x#Hq74H, p|AIz3 GHYgSS pN%L3?2 场追迹仿真(相机探测器) ,ci
tzh hnG'L*HooE •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 wU+ofj;
+I •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 DSET!F;PG 8$3 Tu"+;
4y)"IOd#| | LfH,6 场追迹仿真(电磁场探测器) t^u X9yvx •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 p^~lQ8t O`|'2x{[O atW;S99# :ykQ[d`:| 场追迹仿真(电磁场探测器) 2ht<" Q[8L='E •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 r7w&p.? JH<q7Y6!y
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n11L 文件信息 3haY{CEr HOu<,9?>Q
r=qb[4HiV f]o DZO%^ 更多阅读 y;#p=,r xNq&_oY7 -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer <7)Vj*VxC -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination #sNa}292" `2S%l,>)# yUEUIPL QQ:2987619807 f9OVylm
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