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摘要 rk2j#>l$4 OmpND{w 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 ,+DG2u O7m(o:t x3
^R7lom. QL&ZjSN 建模任务 5y[Oj^ ^e _hLX\SW feDlH[$ 概述 H9`)BbR IqaT?+O\?r •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 N=5a54!/ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 ]?kZni8j_ JV^=v@Z3
qFCOUl $aDVG}) 光线追迹仿真 *=/ { HvJ {9&;Q|D z •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 x_N'TjS^{ •单击go! )9{0]u;9 •获得了3D光线追迹结果。 2^[`e g Eex~xiiV
NI76U |^"1{7) 光线追迹仿真 [I,Z2G,Jb ;>EM[u •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 "Y
=;.:qe •单击go! wo;~7K •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 dk#k bG; s^G.]%iU
|}s*E_/[ [2!w_Iw' 场追迹仿真 w7.V6S$Ga VGy<")8D/ •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 '6iEMg&3 •单击go! #C74z$ Z*]9E^ PB\(= Q0`wt.}V2 场追迹仿真(相机探测器) ;40/yl3r3[ D[[|")Fn •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 H7&8\FNa •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 0y'H~( \R9(x]nZ%
Y1W1=Uc uk .nf#c.DI 场追迹仿真(电磁场探测器) 1Ti f{i,B •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 G#q@v(_b L2[($l 2+N]PW\V b5dD/-Vj 场追迹仿真(电磁场探测器) hP%M?MKC r4b 6 c •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 O-0x8 O^B #_ ;lf1x!
zlSNfgO B?gOHG*vd> 文件信息 x*\Y)9Vgy k<nZ+! M
`t>l:<@% YlJ@XpKM 更多阅读 Gi|w}j_ Wq D4YGN -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer HTv2# -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination })H wh). hohfE3rd Zgp4`)}: QQ:2987619807 8+Lm's=W*
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