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摘要 '_lyoVP yM}}mypS 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 >XcbNZV 2?u>A3^R
5|my}.TR J*o :RnB 建模任务 cv=nGFx6 %0fF_OU lM86 *g 'l 概述 [^EU'lewnW )@09Y_9r •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 F l83
Z> •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 L(\sO=t an_qE}P
b'Pq[ ) Zf68EB 光线追迹仿真 [ R+zzl&Zw }S<2({GI •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 'YIFHn$! •单击go! (~:k70V5 •获得了3D光线追迹结果。 rlT[tOVAY l=8)_z;~D
"u~l+aW0 F1JSf&8 光线追迹仿真 (#Z2 BIEc4k5( •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 M>D 3NY[, •单击go! IT!
a)d •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 )z&0 g2Am +-&N<U
:@jhe8'w )SQ*"X4" 场追迹仿真 d"<Q}Ay U_v{Vs •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 S+3'C •单击go! %^n9Z/I C9E l {f 0,)B~|+ ML'4 2z
Y 场追迹仿真(相机探测器) zWoPa,
YLmzMD> •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 TC[_Ip& •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 ,B%M P<Rz1 sP$bp Z}
}ddwL ;j])h!8X 场追迹仿真(电磁场探测器) ZHUAM59bx •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 4 d4le Rn~FCj,- '\\dh RBIf6oxdE 场追迹仿真(电磁场探测器) J\<7M8
-FytkM^]6 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ^'.=&@i- ^prseO?A
"'h?O*V]u{ 4J0{$Xuu0 文件信息 0-p LCf Z m9 e|J
Bzn{~&i?W: x^Tjs<# 更多阅读 j89|hG)2 Z.Lm[$/edn -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer fN~kdm. -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination jK/2n}q&] [H;HrwM
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