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摘要 fWCo;4<5? O#n 8=B4 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 Ya b%/z2:
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6 +Sxr 建模任务 }^4Xv^dW>g %OtFHhb  Eav[/cU 概述 d)B@x` bADnW4N`6; •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 aC^\( wp[ •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 b
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 )}''L{k- N O2XA\ 光线追迹仿真 *w$W2I>b7 #&c I3i •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 Gn22<C/ •单击go！ B 5g j_ ^ •获得了3D光线追迹结果。 S_iMVHe 2{M^,=^ >
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z0 7wWFr 光线追迹仿真 yTyj'-4 &*sP/z •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 y6@0O %TDN •单击go！ iF*:d •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 E^Y#&skXp3 ,c$,!. r
 *EI6dD" MtM%{=&_ 场追迹仿真 v.\*./-i HPpR. •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 uv gdY •单击go！ -1Jg?cPz k gwNq
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kM!kD4& 场追迹仿真（相机探测器） OL5v).Bb 5Y?L>QU" •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 _t:$XJ`bTk •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 w^(<N7B3T H!vax)%-\
 jnd[6v=C7- eD-#b| 场追迹仿真（电磁场探测器） w|3z;-#Q; •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 &9/O!3p) ?m z+x\(/
:#2Bw]z&z 场追迹仿真（电磁场探测器） -\+s#kE:
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer n-5W*z k1
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination =b38(\ aHlcfh9|
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