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    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 YXJreM5  
    jL }bGD  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 o!]muO*Rm  
    7L%JCH#F  
    DFgQ1:6[  
    }McqoZ%F  
    建模任务 ans(^Up$  
    XniPNU  
    o1kTB&E4B  
    概述 S:bYeD4  
    Qm-I=Rh+  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 q9e(YX>  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 Oe)d|6=  
    T*Dd% f  
    4YV 0v,z  
    \;!}z3Ww  
    光线追迹仿真 $U_M|Xa  
    x0KW\<k  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 fH@P&SX  
    •单击go! Y3_C':r  
    •获得了3D光线追迹结果。 (#&-ld6  
    {Jna' eS  
    UmR\2 cs  
    5NR@<FE  
    光线追迹仿真 ?*zDsQ  
    uPT2ga]  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 _Gu;=H,~&  
    •单击go! |rgp(;iO  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 lZ'WFFWLE  
    bu?4$O  
    !K8Kw W|X  
     )>=!</@  
    场追迹仿真 x>cl$41!W  
    Vktc  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 9\zasa  
    •单击go! pjN4)y>0  
    5K:'VX  
    ( < e q[(  
    7es<%H  
    场追迹仿真(相机探测器) VLfc6:Yg  
    g@O H,h/  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 {;L,|(o^  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 [n2+`A  
    Mp?Gi7o=  
    57K\sT4[  
    Ki\\yK  
    场追迹仿真(电磁场探测器) l(y,lK=YP1  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 /szwVA  
    ELN1F0TneH  
    45,):U5  
    Op'&c0l  
    场追迹仿真(电磁场探测器) mDXG~*1   
    >T#" Im-  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 M ZAz= )-  
    _f1;Hhoa  
    Vb8Qh601  
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    文件信息 |@1M'  
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    更多阅读 l;SXR <EU  
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    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer _P` ^B  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
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    QQ:2987619807 <])]1r8  
     
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