切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • 1399阅读
    • 0回复

    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

    上一主题 下一主题
    离线infotek
     
    发帖
    6634
    光币
    27319
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 $pg1Av7l  
    5<y pK`Kq  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 u9}k^W)E  
    zn@yt%PCV  
    1]<w ZV}.  
    H(TY.  
    建模任务 $m-rn'Q  
     1ZF>e`t8  
     e ):rr*  
    概述 }}'0r2S  
    mt(2HBNoz  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 qJZ5w }  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 (n,!v)  
    r g$2)z1  
    *To 5\|  
    7FiQTS B:  
    光线追迹仿真 i #%17}  
    N=oWIK<;-  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 JBKCa 3  
    •单击go! ZCbnDj  
    •获得了3D光线追迹结果。 XeT{y]lkd  
    Z/S7ei@56  
    \%FEQa0u  
    voHFU#Z$  
    光线追迹仿真 WI$MT6  
    *=X$j~#X  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 (haYY]W\  
    •单击go!  :nHa-N3  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 nd[{DF?)/  
    EhOy<f[4W  
    eaxp(VX?oy  
    s@ ~Y!A  
    场追迹仿真 XJ`!d\WL/!  
    7O,y%NWaK  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 &7YTz3aj  
    •单击go! rIt#ps  
    ^U`Bj*"2  
    6?3f+=e"~!  
    n^Uu6  
    场追迹仿真(相机探测器) H^c8r^#  
    / ao|v  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 @,Iyn<v{B  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 kT+Idu  
    tC,R^${#  
    8"zFTP*;u  
    ,y+}0q-Ou  
    场追迹仿真(电磁场探测器) 9f ^c9@=  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Q3$AL@".  
    U;7Cmti"  
    ugwZAC  
     6tPgFa#N  
    场追迹仿真(电磁场探测器) s5DEuu>g  
    SGd[cA Ko  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 0 2lI-xHe  
    9"=1 O  
    6Ch [!=p{  
    .FarKW  
    文件信息 Wy[Ua#Dd  
    R3;,EL{H&  
    ._uXK[c7P  
    W?n)IBj8  
    更多阅读 '9+JaB  
    5ir[}I^z  
    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer i58&o@.H<u  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
    c/G4@D>  
    I,*zZNv Ri  
    1gA9h-'w  
    QQ:2987619807 J\kGD  
     
    分享到