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摘要 R0ID2:i]F W&* f#E 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 `*", <
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(wIzat 建模任务 #} ~qqJ G2 ( wDm*bZ*  JWvjWY2+P 概述 &, A64y lO&3{dOYE •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 f=C ,e/sw •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 AjcX N ;<yd^ Xs
 /J f.y*; z%MW!x 光线追迹仿真 Q_* "SRz }bY; q- •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 1)
ta •单击go！ -F'b8:m •获得了3D光线追迹结果。 "k]CW\H6z ?]D"k 4
 yjfat&$ ~ P~ 光线追迹仿真 u6>?AW1~ S*j6OwZ •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 lY|Jr{+L n •单击go！ dJT]/g •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 ono4U.C9 =]:> "_jN
 ;"(foY"L
NR; 1z 场追迹仿真 f|O{#AC 4`J H&))} •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 #fT* ]NN •单击go！ )Ke*JJa q $O9^SB  (`y*V;o4
O'Js} 场追迹仿真（相机探测器） ^i:`Zf A# 1V8-^ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 ()~pY!)1/ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 TMY d4 7 ?LvCR_D:
 w)Covz'uf y|'SXM 场追迹仿真（电磁场探测器） p.LFVFPT •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 @|Rrf*J?% MEwo }=B  #1>X58I^
%-d]X{J: 场追迹仿真（电磁场探测器） bV ZMW/w
Mbjvh2z •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 7Hm3;P. oWYmj=D~2z
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer -wjN"g<
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination s8}@=]aA &L^+BQ`O?
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