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摘要 \2h!aRWR #pnI\ 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 H:V2[y 8\
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%V7at7>o 建模任务 cPlZXf oG_ ~q
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K~}\CR 概述 50S &m+4d+ MDn ua •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 VZKvaxIk6 •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 ``hf=`We rD 3v$B
 p OIJH =# g,!L$,/F 光线追迹仿真 a . k.n< b gK}-EU •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 s Z].8. •单击go！ (@fHl=! Za •获得了3D光线追迹结果。 V Y7[) Jdj2~pTq
 Pd_U7&w,5 6a~|K-a6 光线追迹仿真 iv J@=pd)B 8;JWK3Gv •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 n{ar gI8wF •单击go！
@niHl •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 t -tg-< Ng2twfSl$
 86=}ZGWd <L8' ! q} 场追迹仿真 mn"G_I ,i s3&9 •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 6d<r= C= •单击go！ qN9(S:_Px ( R=:X+ k  V^bwXr4f
DEKP5?] 场追迹仿真（相机探测器） dO!
kk"qn ZbW17@b •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 6]WAUK%h •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 f@wquG' B" 1 c
 l<58A7 U ]H#MiC! 场追迹仿真（电磁场探测器） m$>H u@Va •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 2*;~S4 4 nS }<-s  gwuI-d^
_Xe>V0 场追迹仿真（电磁场探测器） 5H<m$K4z
hd%F nykq •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 -P$PAg5"2 M2, l7
 N2^=E1|_ UNu#(nP 文件信息 _7Ju /|6N*>l)y
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 4 #Mt F'J
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination v!~fs)cdE| r,73C/*&/
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