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摘要 U2seD5I ]FP(,:Yw 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 j8P=8w{ ~0eJ6i
*Mk5*_
s"s^rC 建模任务 MqRpG5 . D}OvD |<- %8s$l'Q; 概述 qf#Ou |bA\>%~ •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 r Z%l?( •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 1$H*E~ eh`n?C
Tc$Jvy-G4A d?)k<!fJk 光线追迹仿真 k"7l\;N [f 4Nq \i •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ^z>3+oi •单击go! jInI% •获得了3D光线追迹结果。 5o- WA1 8`M) r'5
k <SFl .'aW~WR 光线追迹仿真 $}+t|`*q8] Z#+lwZD •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 g$+ $@~ •单击go! xvU@,bzz •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 /{il;/Vj ?>
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vr T` Qu]F<H*Y| 场追迹仿真 <a_ytSoG1 3HCH-?U5 •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 4E:kDl* @ •单击go! cc37(=oKL J%r$jpd' apmZ&Ab =r=?N\7I 场追迹仿真(相机探测器) "0Ca;hSLM2 q.I •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 (m:ktd=x •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 lfTDpKz3D fRlO.!0(
S3fyt]pp cug=k 场追迹仿真(电磁场探测器) pT ]: TRPS •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 8p"R4 K%i9S;~
~!//|q^J] -0P(lkylf 场追迹仿真(电磁场探测器) wB%N}bi! S1SsJo2\ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 NRIp@PIF:" i?^lEqy[
m6wrG`-di e:`d)GE 文件信息 $e#V^dph &-R(u}m-F
^VL",Nt ip)gI&kN`z 更多阅读 J) I|Xot L>@:Xo@ -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer jq_E{Dq1 -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ']Z1n b lD+f{GR lJ>OuSd QQ:2987619807 <36z,[,kZ@
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