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摘要 $pg1Av7l 5<y pK`Kq 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 u9}k^W)E zn@yt%PCV
1]<wZV}. H(TY. 建模任务 $m-rn'Q 1ZF>e`t8 e):rr* 概述 }}'0r2S mt(2HBNoz •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 qJZ5w} •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 (n,!v) r g$2)z1
*To5\| 7FiQTS B: 光线追迹仿真 i#%17} N=oWIK<;- •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 JBKCa 3 •单击go! ZCbnDj •获得了3D光线追迹结果。 XeT{y]lkd Z/S7ei@56
\%FEQa0u voHFU#Z$ 光线追迹仿真 WI$MT6 *=X$j~#X •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 (haYY]W\ •单击go! :nHa-N3 •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 nd[{DF?)/ EhOy<f[4W
eaxp(VX?oy s@ ~Y!A 场追迹仿真 XJ`!d\WL/! 7O,y%NWaK •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 &7 YTz3aj •单击go! rIt#ps ^U`Bj*"2 6?3f+=e"~! n^Uu6 场追迹仿真(相机探测器) H^c8r^# / ao|v •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 @,Iyn<v{B •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 kT+Idu tC,R^${#
8"zFTP*;u ,y+}0q-Ou 场追迹仿真(电磁场探测器) 9f
^c9@= •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Q3$AL@". U;7Cmti" ugwZAC
6tPgFa#N 场追迹仿真(电磁场探测器) s5DEuu>g SGd[cA
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._uXK[c7P W?n)IBj8 更多阅读 '9+JaB 5ir[}I^z -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer i58&o@.H<u -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination c /G4@D> I,*zZNvRi 1gA9h-'w QQ:2987619807 J\kGD
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