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摘要 -5@hU8B'a 9jllW[`2F 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 s^/2sjoL SU(J
pAyUQe;X# 8L*#zaSAf 建模任务 DKG;up0 -$`q:j Pxgal4{6 概述 0<nW
nD,z c&"1Z/tR •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 Sy^@v%P'A •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 o}yA{<" a4",BDx
srH.$Y;~ {T3wOi 光线追迹仿真 afjEN
y1 Iz&<rL;s •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 LftzW{>gI" •单击go! ~$YasFEz •获得了3D光线追迹结果。 9 $zx<O peVzF'F
y4Nam87;/? Ee=!bv(%70 光线追迹仿真 H:o=gP60] l;h5Y<A%? •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 Cm-dos •单击go! +d3h @gp •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 pMkM@OH
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X&!($*/ F`o"t]AD-a 场追迹仿真 Nb\B*=4AR cgR8+o •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
;z~j%L%b •单击go! K\5/ ||gi Q1x=@lXR la`f@~Bbr1 XKvH^Z4h{l 场追迹仿真(相机探测器) 3*eS<n[uG ;Ehv1{; •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 $Eo-58<q •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 o1[[!~8e svMu85z
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mEbj 场追迹仿真(电磁场探测器) GsIqUM#R •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 \sS0@gnDI U+VyH4" i L'j9_w, Om2w+yU 场追迹仿真(电磁场探测器) _hEr,IX=J j_SUR)5 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 e,l-}=5*P 4C9k0]k2
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1n U Fyk%#L 文件信息 M/YS%1 Kae-Y
i.e4<|{ .v['INK9 更多阅读 fj[Kbo 7!h L!~ap -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer Ce} m_ -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 3lN@1jlh i\kDb= lOHW9Z QQ:2987619807 lDZ~
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