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摘要 Pf(z0o& =BNmuAY7 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 ?4gYUEM# R},mq&f5
>f}rM20Vm *3.
] 建模任务 FDpNM\SR1l Fvi<5v 9>[$;> 概述 Wp T.25 DQ~+\ •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ]]9eUw= •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 ~Dgui/r9J 5RZAs63t
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5e 光线追迹仿真 X~n Kuo $+V{2k4X, •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 l3(k •单击go!
%~$4[,= •获得了3D光线追迹结果。 3$WK%"%T N[r@Y{
>(d+E\!A .KK"KO5k 光线追迹仿真 &W|'rA'r *>Om3[D •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 Nb(se*Y# •单击go! aD0w82s]J •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 hLJO\=0rJz ilpg()
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P<B 7r*>?]y+ 场追迹仿真 sm\/wlbE :i?Z1x1` •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 OJ]{FI •单击go! d p_J*8 5M*q{kX) <}.)kg${O l,sYYU+iY 场追迹仿真(相机探测器) -/7[_, .hZ =8y9 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 P,tN;c •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 .{)b^gE `| R8WM
LOe!qt\& `M"b L|[R 场追迹仿真(电磁场探测器) L'z?M]
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 %3"3OOT7 9.PY49| $3"0w %l3RM*zb 场追迹仿真(电磁场探测器) 7Zr jU{ !A!zG)Ue< •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 +Y 3_)
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Re,0RM\ A+Z3b:}~ 文件信息 69q8t*%O "ZT=[&2
0Wv9K~F hFQC%N.' 更多阅读 b*.)m G|Q}.v -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer `qs'={YtU -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ?55('+{l @{t^8I#] '!IX;OSjH QQ:2987619807 =>-b?F0(c
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