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摘要 7nPcm;Er NYr)=&)Ke. 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 ,zdGY]$ yQ$]`hr;
.9J}Z^FD YVwpqOE.= 建模任务 araXE~Ac zPc"r$'0U x\U[5d 概述 eZ+6U`^t "a=Hr4C*r •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 e MHz/;I •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 E*u*LMm v7SYWO#
uDP:kM aopZ-^ 光线追迹仿真 N[e,%heR D;NL*4zt •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ZMb+sUK •单击go! lKw-C[ •获得了3D光线追迹结果。 PMpq>$6b7 $L 8>Ha}
y]0O"X-G s*[
I"iE 光线追迹仿真 }L)[> 4`,7tj •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 ^8;MY5Wbs •单击go! 5h&sdzfG •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 H7GI`3o
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Gk{ 'U mmbe.$73 场追迹仿真 ~t~[@2?WG |67Jw2 •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 NX,m6u •单击go! Q{|%kU" W06#|8,{v )gEE7Ex? dI
,A;. 场追迹仿真(相机探测器) a1~|?PCbY rP3tFvOH •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 1oej<67PdJ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 -n&&d8G^s 2+rT .GFc
v*?8 :>:} le\-h'D 场追迹仿真(电磁场探测器) 'EiCTl •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 D,}bTwRb- wn5OgXxG< U-9Aq NgDhdOB 场追迹仿真(电磁场探测器) ywAvqT, \jwG*a •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 =|]h-[P' Qc3d<{7\~
UeO/<ml3>J "00j]e. 文件信息 PGJh>[s \{ @m
'z;(Y*jb <"5l<E 更多阅读 `/PBZnj miaH,hm -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ZOEe -XW -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 3p=Xv%xd |O_JUl KVa{;zBwl QQ:2987619807 n?fy@R
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