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摘要 r:H]`Uo'r S/] \GG{ 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 [H h-F#|R
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 meX2Y;
QG5WsuT 建模任务 y]h0c<NP 9!( 8o  Aw#<: 6- 概述 c*IrZm *[si!e% •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 mnpk9x}m •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 _C !i(z!d <,} h8;Fr
 c1f"z1Z a-NTA 光线追迹仿真 2*Qv6
:qK CF bNv9GZj •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 8['R D`O •单击go！ Btm ,'kBG •获得了3D光线追迹结果。 $TIeeTB &L8RLSfX
 xw #CwMbbi YSD G! 光线追迹仿真 `5Y *)
q z!}E2j_9P •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 dFz"wvu` o •单击go！ z
CLaHx! •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 5 JzvT JMx 6`e{l+c=F
 8V:;HY# F-m%d @P&X 场追迹仿真 d/d)MoaJ*t P $`1} •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 a/J<(sak~X •单击go！ k|;a"56F YC6T0 m  zhn ?;Fi
}1#m+ (; 场追迹仿真（相机探测器） C$w%!
jE {nmG/dn { •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 !ku}vT e •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 [mtp-4* w"R<8e=
 e;.,x 5+ l(>6Yq 场追迹仿真（电磁场探测器） ](r}` u%}y •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 A]BeI kt yplo#F  DGvuo 8
7By7F:[ b 场追迹仿真（电磁场探测器） r^
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 Q>1BOH1by XM]m%I 文件信息 B}"R@;N j97+'AK X
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer {i t.F4.
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination J*B-*6O44 S`-I-VS=L
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