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摘要 |6sT,/6 1#>&p%P! 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 --
i&" 'NT#(m% 7wiK.99 %="~\1y 建模任务 nszpG1U: P1 7> 6)a <ELziE~>V 概述 :cXIO $ DDSN •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 d s|8lz, •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 ~A[YnJYA# 9Qt)m
fqM *=$[}!YG j*;*Ka w 光线追迹仿真 7y>Tn`V8G CF3E]dt •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 o{{:|%m3Q •单击go! k
Zk .]b •获得了3D光线追迹结果。 ER~T'-YMS wUZQB1$F |u^)RB oF%^QT"R 光线追迹仿真 H_%d3 RI Yw~;g:= •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 ur/Oc24i1n •单击go! 6-*~t8 •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 0M#N=%31 :k WZSN8.D vQ:x%=] eZ!yPdgy| 场追迹仿真 U9<_6Bsd +Fk4{p •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 Nl~Z,hT$* •单击go! Fy 4Tvg { A:LAAf[6 " 2ZI oa!^ f*{M3"$E 场追迹仿真(相机探测器) sTd}cP x9xzm5 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 $!3gN% •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 8_"3Yb`f 5c<b| @
\!KF*v W:`5nj]H9 场追迹仿真(电磁场探测器) i'M^ez)u •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 jmRhAJV gb]hOB7g 8'3"uv 5>'?:jY 场追迹仿真(电磁场探测器) ow-+>Y[qZ ^Lsc`<xC •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 (3AYy0J% d>YmKTk" x
HY+q; nped 文件信息 `ifb<T h^['rmd XXXljh6 :L]-'\y 更多阅读 =8O}t+U vAi"$e -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer !-KCFMvT -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination UV?[d:\>' kclp} $b4*/vMr QQ:2987619807 )qbI{^_g
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