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摘要 +bA% =Mj 0:rW 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 kJ{+M] pW
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fBhoGA{=g 建模任务 D+JAK!W yVX8e I  i afE5b) 概述 8`=v. \ ?**2{9&) •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 -]srp;=i •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 3Fs5RC~a /mA,F;
 LzML%J62 W/fuKGZi_ 光线追迹仿真 -F@L}| "ZrOrdlg+A •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 .iG&Lw\, •单击go！ @WMA }\Cc •获得了3D光线追迹结果。 ?'s6Xmd K/L;8a
 Y}s @WJ 1yQej w 光线追迹仿真 [P~hjmJ(y P 43P ]M2 •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 }}&#|)Yq •单击go！ k(t}^50^j •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 mN |r)4{` :Dt~e|
 g[H',)A) oGa^/:6L 场追迹仿真 : ,B7-k Bw -=`#fDvBn •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 8NBT|N~N •单击go！ 2ZcKK8X;7 6$\ j Ad|  T 2 0& F
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场追迹仿真（相机探测器） UCW V2Mu Ep9W- n?} •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 `h:34RC; •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 1y#D?R=E $+p ?Y)h .
 Fz#X= gmG f| _u7"OX 场追迹仿真（电磁场探测器） t>=fTkB •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 _g%TSumvq< ^9Qy/Er'  JjaoOe
1#IlWEg 场追迹仿真（电磁场探测器） F8-?dp f'
?POUt RN •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 >zAUW[]C:I ?;[w" `"
 h2ytS ^ *g?Po+ef% 文件信息 wE+${B03 wLK07e(
 (aOv#Vor]% !?c|XdjZ 更多阅读 8J$|NYv_b
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer {|I;YDA
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination cufH?Xg< k0Ol*L!p
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