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摘要 {)iiu k8\ KCKql 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 1Ys)b[:
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7'OR ;b$ 建模任务 7+8 8o:G9 ? V}ub>J/=  ]- 6q`'?[ 概述 yEMM@5W)8 F Uz1P •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 L 8q#_k •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 u -)ED S }fQis
 )Tieef*Q~ KWxTN|> 光线追迹仿真 qzNXz_#+u /0cm7[a ? •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 _M&n~ r •单击go！ n*ROlCxV •获得了3D光线追迹结果。 k( Ik+=u BL~#-Mm<|l
 |)xWQ KzA q{Gh5zg5O 光线追迹仿真 w_V A:]j4 wpp!H< ') •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 QOgGL1)7- •单击go！ giH# t< )W •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 %y\5L#T!> ;jau gK f
 e|W;(@$< -[J4nN &N 场追迹仿真 bHcBjk.\ auB
93 1| •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 }t"K(oamm •单击go！ dGj0;3FI% }D+ b`,  ).`v&-cK4E
?(U;T!n 场追迹仿真（相机探测器） 4%zy$,|e $&qLr KJ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 Q=> 5@sZB •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 d2NFdBoI gG@ 4MXq.
 u Fw1% Abh R* 场追迹仿真（电磁场探测器） cHVJ7yAZI •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 mR|5$1[b wx`.  E S!e/l
w N`Nj m9! 场追迹仿真（电磁场探测器） z .\r7
cl1ygpf( •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 v E8BB$D ,\X ! :y~
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ?<B I)[B
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination wkPj MmW+! XN6$TNsD$
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