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摘要 f.6~x$:)`E KzO,*M 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 XP3xJm3 "G?Yrh
t ls60h [[+ pMI 建模任务 |E3X X+82[Y,mB. $`J_:H% 概述 #hw>tA6 (gXN%rsY •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 _ZY\,_ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 Um.qRZ? I#rubAl
",Cr,;] iG<Som 光线追迹仿真 &
,hr8 ~E5z"o6$ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ;zH
HIdQ>- •单击go! %)(Cp-b! •获得了3D光线追迹结果。 Mps5Vv ZH 6\><My
1iBP,:>* vbG]mMJ 光线追迹仿真 )>a B nH-V{=** •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 kHK0(bYK •单击go! G}nO@ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 cr;`Tl~}s gm"#:< )
ec3<%+0f R.9V,R5 场追迹仿真 YN/}9. 5*-3?
<)e •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 gABr@>Vv •单击go! /j2H A^GT 2f~($}+* 9pKGr@ & #]Y>KX2HG 场追迹仿真(相机探测器) F>hZ{ q(M:QWA q •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 }hpmO- •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 u9qMqeF eD?3"!c!
9ooY?J dtt ~ Bd 场追迹仿真(电磁场探测器) ?Bi*1V<R •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 muON>^MbC D<$XyP WYcA8X/ 5VW|fI 场追迹仿真(电磁场探测器) *Mc7f ?H rVnd0K •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 8hanzwoJ: oXsL9,
+j14Q$ I0'WOV70 文件信息 @C_KV0i tz NlJ~E
fh8j2S9J bpAv1udX-W 更多阅读 o`S? rZXrT}Xh{W -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 1Tp/MV/> -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination "UFs~S|e Io`P,l: ZD/jX_!t QQ:2987619807 -_OS%ARa
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