-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-10-15
- 在线时间1875小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 fWCo;4<5? O#n8=B4 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 Yab%/z2: 45=bGf#
a Fc1|.Nm 6 +Sxr 建模任务 }^4Xv^dW>g %OtFHhb Eav[/cU 概述 d)B@x` bADnW4N`6; •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 aC^\(wp[ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 b
IH; ~<P
0]ju
)}''L{k- NO2XA\ 光线追迹仿真 *w$W2I>b7 #&cI3i •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 Gn22<C/ •单击go! B5gj_^ •获得了3D光线追迹结果。 S_iMVHe 2{M^,=^>
PvR6
z0 7wWFr 光线追迹仿真 yTyj'-4 &*sP/z •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 y6@0O%TDN •单击go! iF*:d •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 E^Y#&skXp3 ,c$,!.r
*EI6dD" MtM%{=&_ 场追迹仿真 v.\*./-i HPpR. •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 uvgdY •单击go! -1Jg?cPzk gwNq
x" Tb A}BFT` kM!kD4& 场追迹仿真(相机探测器) OL5v).Bb 5Y?L>QU" •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 _t:$XJ`bTk •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 w^(<N7B3T H!vax)%-\
jnd[6v=C7- eD-#b| 场追迹仿真(电磁场探测器) w|3z;-#Q; •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 &9/O!3p) ?m![Pg% z+x\(/ :#2Bw]z&z 场追迹仿真(电磁场探测器) -\+s#kE: CF&NFSti^ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 YTAmgkF\4 ;V@WtZv
:WQ^j!9' ~a%Z;Aj 文件信息 7ByTnYe~S PiY Y6i0
8 m5p_\& Q)"C&)`l 更多阅读 4B=2>k WegtyO -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer n-5W*zk1 -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination =b38(\ aHlcfh9| >oea{u QQ:2987619807 `(T,+T4C5k
|