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摘要 DWH)<\? 5Gsj; 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 &hYjQ&n QcQ|,lA.HI
SB[,}h<u1 WH$
Ls(' 建模任务 7u^6`P w8g36v*+(u $bKa"T* 概述 5OUe|mS 2={ g'k( •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 M O/-?@w •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 %rRpUrnm Fk,3th
ptuW}"F @*O(dw 光线追迹仿真 %tzz3Y c$'UfW •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 L3~E*\cV •单击go! #Y*AG xk •获得了3D光线追迹结果。 K~WwV8c9; U\~[
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}AsfLY y6?Q5x9M 光线追迹仿真 c(AjM9s m%E7V{t •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 i9)y| •单击go! `czXjZE •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 ()>\D |R*fw(=W
rd1&?X #PA"l`" 场追迹仿真 ;o3
.<" /HDX[R •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 Rb~Kyy$ •单击go! m x,X!} 9HEc=,D| D_9/|:N: Z9aDE@A 场追迹仿真(相机探测器) ;|/7o@$n R4JO)<'K& •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 vFCp=8h •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 J= |[G' a<gzI
y_QxJ~6t f3l >26 场追迹仿真(电磁场探测器) p-;]O~^ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 l1wxs@]( O.K8$ ?0;b}Xl-
t8)Fkx#8} 场追迹仿真(电磁场探测器) ^LC5orO U.6hLFcE •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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8w*fg6,= 3P\I;xM 更多阅读 :6M0`V;L "?9fL#8f*! -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer iGU N$ -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 1k/l7&n"
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