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摘要 04cNi~@m
-z$&lP] 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 AT]Ty
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>n^[-SWJCT 建模任务 G`r*)pdm uA2-&smw  nH^ RQ'19 概述 /Jc i 1o CHRO9 •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 =)Q0=!%- •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 [ O"8Tzr <FFaaGiE>
 ]w[T_4 l GcYT<pwN6 光线追迹仿真 y?s8UEC C2 ] x •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ,HM~Zs •单击go！ PC}m .tE •获得了3D光线追迹结果。 *=ymK* &k2nt
 =q-H R+ k_<8SG+` 光线追迹仿真 !,3U_! d~b#dcv$" •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 N>}2&'I •单击go！ X@n\~[.B •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 qW6}^aa dE CH/vJ^
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- 9&`e jeD 场追迹仿真 H \Jpw eZWR)+aq •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 d@72z r •单击go！ )bG d++2 |ozlaj  dnP3{!"b
].eY]o}= 场追迹仿真（相机探测器） Xqac$%[3 8>|@O<2\ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 ?) ~j>1"S •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 GC gpe(cQ 4U*u H
 T?Dq2UW ~?c}=XL- 场追迹仿真（电磁场探测器） 7o4 vf~ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 *I}_B\kY Q b|.;_  mJ%r2$/*
RO"*&o'K' 场追迹仿真（电磁场探测器） nd] Av VS
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer +"] 'h~W
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination N!fp;jvG 8bX\^&N
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