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摘要 &'DR`e O) ; %AgKgV
高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 h<'tQGC =D?HL?
|V}tTx1 .2rpQa/h 建模任务 S+eu3nMq dF! B5( p}I\H
^"8+ 概述 pFu!$.Fr is%ef •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 2.@IfBF6 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 Wy1.nn[ e<A>??h^
ox.kL &0ymAf5R 光线追迹仿真 cFjD*r- ^* y1Fn0 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 +#UawYLJ •单击go! lFA-T I& •获得了3D光线追迹结果。 ?mVSc/ _\@zq*E
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Qu!%o 光线追迹仿真 nD
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•然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 V=>]&95-f •单击go! NVom6K •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 siV]NI':| Y>2#9LA
Sy*p6DP oj?y_0}:^ 场追迹仿真 |Zo36@s B'y)bY'_dS •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 R:^jQ'1 •单击go! x
FvKjO) G_k_qP^: NP!LBB)=Y |w>b0aY 场追迹仿真(相机探测器) nI73E ~Kt+j •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 2>CR] •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 SFEDR?s 80gOh:
5VVU%STP uXA}" f2 场追迹仿真(电磁场探测器) &I{5f-o* •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 $RC)e7 -Vmp6XY3q qckRX+P` ME5M;bz( 场追迹仿真(电磁场探测器) 79jnYjk Efpju( •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 BryD?/}P)M @!!5el {
NUtKT~V !"F8jA} 文件信息 %w!x \U V ( pCU:'"
&-vHb [*H h6 更多阅读 ^%U`|GBZp vZqW,GDfXo -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer =|c7#GaiF -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination pQ ul0] [KW)z#`* 0@
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