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摘要 Ur!~<4GO 4h8*mMghs 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 fu4!t31 1nI^-aQ3
|m;L?)F< }y6q\#G 建模任务 rN5tI.iC ashar&' 66\jV6eH7L 概述 +,5-qm)Gh> =a$Oecg? •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 }x :f%Z5h •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 ~L{l+jK$p ]
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!SxG(*u 0L#/lDNk 光线追迹仿真 VhEka# qP1FJ89H •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 h`Tz5% n •单击go!
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y 1 •获得了3D光线追迹结果。 PsnGXcj +Qj(B@i
[4Q"#[V&9 O !&,5 Dy 光线追迹仿真 )T|L,Lp Eu,`7iQ?( •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 ,6,]#R
:J •单击go! fex,z%}p •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 Vf $Dnu@}z w>e
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MX|H}+\ DjLL|jF 场追迹仿真 X}A'Cg0y _[h8P9YI4 •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 >:1P/U •单击go! v=?2S !3qVB j
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f 场追迹仿真(相机探测器) HM9fjl[ \6!W05[ Q •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 DAO]uh{6 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 'T8W!&$ s:>\/[*>0c
>BVoHt~; k cuzB+ 场追迹仿真(电磁场探测器) "Cz<d w]D •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Hi}RZMr1 xTz%nx PnYBy| yl quxdG>8 场追迹仿真(电磁场探测器) r 2:2,5_ gm"#:< ) •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ec3<%+0f S<wj*"|.s
YN/}9. ipE]}0q 文件信息 8V/L:h#7 >SbK.Q@ei
sW@krBxMv vX|UgK?2^ 更多阅读 C})'\1O% BMyzjteS+ -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ca<" -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination .ic:`1 |a^U] 4=8QZf0\ QQ:2987619807 {FO$yw=>
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