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    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 DWH)<\?  
    5Gsj;   
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 &hYjQ&n  
    QcQ|,lA.HI  
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    WH$ Ls('  
    建模任务 7u^6`P  
    w8g36v*+(u  
    $bKa"T*  
    概述 5OUe |mS  
    2={ g'k(  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 M O/-?@w  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 %rRpUrnm  
    Fk,3th  
    ptuW}"F  
    @*O(dw  
    光线追迹仿真 %tzz3Y  
    c$'UfW  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 L3~E*\cV  
    •单击go! #Y*AGxk  
    •获得了3D光线追迹结果。 K~WwV8c9;  
     U\~[  
    hTn }AsfLY  
    y6?Q5x9M  
    光线追迹仿真 c(AjM9s  
    m%E7V{t  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 i9)y|  
    •单击go! `czXjZE  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 ()>\D  
    |R*fw(=W  
    rd 1&?X  
    #PA"l` "  
    场追迹仿真 ;o3 .<"  
    /HDX[R   
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 Rb~Kyy$  
    •单击go! m x,X!}  
    9HEc=,D|  
    D_9/|:N:  
    Z9aDE@A  
    场追迹仿真(相机探测器) ;|/7o@$ n  
    R4JO)<'K&  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 vFCp= 8h  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 J= |[G'  
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    y_QxJ~6t  
    f3l >26  
    场追迹仿真(电磁场探测器) p-; ]O~^  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 l1wxs@](  
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    场追迹仿真(电磁场探测器) ^LC5orO  
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    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ]aakEU  
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    更多阅读 :6M0`V;L  
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    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer iGU N$  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
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    QQ:2987619807 Vi?Z`G]w!  
     
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