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摘要 P!yE{_% BeZr5I"`} 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 s.z (1MB] )G6{JL-I Dp|y&x! 5]yQMY\2) 建模任务 eqD|3YX z
zL@3/<j :f (UZmV$ 概述 zr%2oFeX, E
O^j,x g •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 !mhV$2&r •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 Wk w.z F9(*MP| t_1(Ex ?EF[OyE 光线追迹仿真 U{(B)dFTH MKIX(r(| •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 @]ydWd •单击go! SQ7Ws u>T@ •获得了3D光线追迹结果。 -[A4B) qP? V{N csP 5R3 vd`;(4i#X 光线追迹仿真 ${\iHg[vZ :tclYX •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 @-y.Y}k#$~ •单击go! ^hPREbD+f •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 4DaLt&1 >jxo,xz `j+aAxJ=\ hh\}WaY 场追迹仿真 %5<uQc9 $g? ]9}p •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 -0[?6.(s" •单击go! Y'tPD#|r 1FC'DH! |HhqWja ;{mKt%# 场追迹仿真(相机探测器) F)dJws7- o%dKi] •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 :l~^un|<2Y •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 "b)Y 5[nW 4cC TC 7&IqT 1b*Me' 场追迹仿真(电磁场探测器) nT.i|(xd. •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 8Mx+tA D; xRgHn WE;QEA / xZ'-G6O
"~ 场追迹仿真(电磁场探测器) G Y? ?q8 .W4P/Pw' •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 XL9smFq h"h3SD~ Cu*+E%P9` _}8hEv 文件信息 |C;8GSw>|F !h\.w9o[ byALM 1Pya\To,m 更多阅读 kg0X2^#b Sg#$
B#g -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ./SDZ:5/ -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 4^4<Le-G @E Srj[ lG[@s 'j QQ:2987619807 6T*MKu
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