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    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 y(gL.08<  
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    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 f|U;4{ k  
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    建模任务 r@e/<bz9  
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    概述 e5\/:HpI  
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    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 }J=>nL'B  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 Ht >5R  
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    光线追迹仿真 ^y" #2Ov  
    s2SxMFDP  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 <%d/"XNg[D  
    •单击go! ~SKV%  
    •获得了3D光线追迹结果。 eBUexxBY  
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    c*>8VW>  
    z;T_%?u  
    光线追迹仿真 'mwgHo<u  
    S*"uXTS  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 FA5|`  
    •单击go! jh7-Fl`  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 A kMP)\Q  
    80(Olf@PE  
    [)efh9P*  
    FM{^ND9x  
    场追迹仿真 dnEIR5%+.  
    pl#2J A8  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 }%^N9AA8  
    •单击go! z@za9U`6i  
    !TNp|U!  
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    h7 r *5E  
    场追迹仿真(相机探测器) P8& BtA  
    gc<w nm|  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 w.7p D  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 '{>R-}o[3  
    =6.4  
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    场追迹仿真(电磁场探测器) Jy^.L$bt  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 -uk}Fou  
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    场追迹仿真(电磁场探测器) #gq!L  
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    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ?Yf0h_>  
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    文件信息 L'?7~Cdls  
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    更多阅读 C0K0c6A (4  
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    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer [r#m +R"N  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
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    QQ:2987619807 +0l-zd\  
     
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