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摘要 yyBfLPXZ )A x1?Nx$ 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 X $cW!a
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HO$s&}t 建模任务 $s ?q>Z) +#n[55d  g.&&=T 概述 8t h G- C8a Yg •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 > \KBXS} •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 !U *i13 5\qoZs*e
 nh,N (t 9 :)%Vah u 光线追迹仿真 ']4sx_)S gK`6 NUj •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 r;}kw(ukC •单击go！ ~Kt.%K5lgt •获得了3D光线追迹结果。 ;|}6\=( pbju;h)O!|
 HR)joD*q;[ Rs5G5W@"A 光线追迹仿真 |67<h5Q1 R.+Q K6B& •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 :DQHb"( •单击go！ l[rIjyL@ •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 4 ,T S1 H @P[Tu; 4
 ]\*g/QV _s<eqCBV 场追迹仿真 m
{wMzs Q Hza{"I*^ •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 =U3 !D;XP •单击go！ H@5:x8 -F@Rpfrj_#  %w_h8
=f=MtH?0y 场追迹仿真（相机探测器） 1JJQ(b JdFMSmZ@ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 f;
>DM •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 n%W~+ ?$
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N d%5QEVV 场追迹仿真（电磁场探测器） B%cjRwO T •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 4 vGkgH<, )O2giVq7[0  j<wWPv
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Y7]N.G3,] •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Bk~WHg>@G Ah) _mxK
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\}ITf l[L\|hv'n 文件信息 IHMZ E42 doVBV Tk^
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer asmMl9)(`
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination _~| j~QE] TZ ?va@2
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