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摘要 Ka
V8[|Gn, H40p 86@M 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 `l[c_%Bm
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0=1T.4+= 建模任务 B %6)}Nl[ iz PDd{[  u `6:5k 概述 ?NsW|w_ })V i •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ndMA-`Ny, •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 7[XRd9a5( >} i E(
 C33J5'(CA _)m]_eS._ 光线追迹仿真 yWo; a I,vJbvvl! •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 Qpc__ dA\ •单击go！ . 3T3E X|G •获得了3D光线追迹结果。 hhc,uJ">! qu{ &xjTH8
 &d^m 1 8'io$ 6d= 光线追迹仿真 TK mf+ZT*r "J_9WUN •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 M%P:n/j •单击go！ c4eBt))}V •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 tl^9WG $B5aje}i
 -X2Buz8 ^8N}9a 场追迹仿真 [/ 41 % B2 56 kI
5: •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 S3 Xl •单击go！ Q sCh eHP Cj lk  z5*'{t)
l}A93jSL 场追迹仿真（相机探测器） @Qt{jI ! ')<hON44EX •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 PIS2Ed] •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 K_Eux rPn *#+An<iT ;
 *_\_'@1|J) $suzW;{# 场追迹仿真（电磁场探测器） pB0 \\wR •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ]2qo+yB TJXT-\Vk  &E5g3lf
,U F_`| 场追迹仿真（电磁场探测器） .V8Lau z8
N6i Q8P - •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 s&3Vg7B A# YrWW
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-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 9V*qQS5 <p yEE*B:
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