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摘要 +6vm4(3? .O\z:GrSZz 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 /MS*_ ]rEFWA
'E/vE0nN? ~I0I#_$'P 建模任务 :!vDX2o)\ (n&Hjz,Fv .uAOk0^z 概述 x\ :x`k@ i!/V wGg •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 @@U'I^iG •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 {u BpM9KT Hv>C#U
#;F1+s<|QJ /jI>=:z 光线追迹仿真 S.o@95M
[CH%(#>i~ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 =1o_:VOG •单击go! jW6~^>S •获得了3D光线追迹结果。 PI7M3\z {nH.
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Pnb?NVP!^9 f-5vE9G3y7 光线追迹仿真 dQ*3s>B[ Ez^U1KKOE7 •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 aHKv*-z- •单击go! EP#3+BsH •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 XVi?-/2 V@jR8zv|_
89F^I"Im( &6/#
O 场追迹仿真 N|eus3\E M*)}F •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 zJ4 2%0g •单击go! 3=!\>0;E- &3VR)Bxn ]}/LNO*L" (o_w[jv 场追迹仿真(相机探测器) }Vw"7 oDp!^G2A" •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
=@b/Gl •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
WpX)[au P@'<OI
|$`LsA. %&bO+$H3 场追迹仿真(电磁场探测器) wy&s~lpV,7 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 R9gK> }>Y *]%{ttR~ +Io^U x72bufd 场追迹仿真(电磁场探测器) p=6Q0r|' iXtar;% •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 wmFI? lmb5Z-xB
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TG:}H(J 文件信息 j+Nun e!*d(lHKos
mM"!=' z &eq>> 更多阅读 AE1!u{ [E_6n$w -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer NKd!i09` -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination *M;!{)m? W[A;VOj0$ uJ,>Y#
? QQ:2987619807 >6 [{\uPK
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