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摘要 +bA% =Mj0:rW 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 kJ{+M] pW =wVJ%
F]EBD 8/b fBhoGA{=g 建模任务 D+JAK!W yVX8e I iafE5b) 概述 8`=v. \?**2{9&) •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 -]srp;=i •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 3Fs5RC~a /mA,F;
LzML%J62 W/fuKGZi_ 光线追迹仿真 -F@L}| "ZrOrdlg+A •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 .iG&Lw\, •单击go! @WMA }\Cc •获得了3D光线追迹结果。 ?'s6Xmd K/L;8a
Y}s@WJ 1yQejw 光线追迹仿真 [P~hjmJ(y P 43P]M2 •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 }}|)Yq •单击go! k(t}^50^j •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 mN|r)4{` :Dt~e|
g[H',)A) oGa^/:6L 场追迹仿真 :,B7-kBw -=`#fDvBn •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 8NBT|N~N •单击go! 2ZcKK8X;7 6$\jAd| T 20&F [F!Y%Zp
场追迹仿真(相机探测器) UCWV2Mu Ep9W- n?} •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 `h:34RC; •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 1y#D?R=E $+p?Y)h .
Fz#X=gmG f| _u7"OX 场追迹仿真(电磁场探测器) t>=fTkB •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 _g%TSumvq< ^9Qy/Er' JjaoOe 1#IlWEg 场追迹仿真(电磁场探测器) F8-?dp f' ?POUtRN •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 >zAUW[]C:I ?;[w" `"
h2ytS^ *g?Po+ef% 文件信息 wE+${B03 wLK07e(
(aOv#Vor]% !?c|XdjZ 更多阅读 8J$|NYv_b 1`ayc|9BR -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer {|I;YDA -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination cufH?Xg< k0Ol*L!p |$?bc3 QQ:2987619807 `tP7ncky
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