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摘要 Zfn390 _ *) ?Fo 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 W_z?t ;
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JdW:%,sv 建模任务 F W zf8*^ 8ncgTCH:  B)`^/^7 概述 *^5. .0du ]VS$ ?wD •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 U?:<clh •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 58 Rmq/6s V`z2F'vT
 Sk 10"D B/ @YfCS8
eH 光线追迹仿真 pr(16P $k&}{c8P •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 #Zy-X_r •单击go！ RU^lR8; •获得了3D光线追迹结果。 n\Y|0\ B KGI0 |Z]n~
 dQ4K^u K?o} B 光线追迹仿真 );.q:" H21\6 GY •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 f C4 D# •单击go！ ` y!6(xI •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 GL_a`.=@ hA 81(JWG
 L('G1J} " jUr[X2J 场追迹仿真 f uxBoB uUczD 8y •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 $LF •单击go！ 2 S\~ 7gV"pa  Ngn Ho\)
r 4~Bn7j2 场追迹仿真（相机探测器） .qioEqK8!y wxg`[c$: •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 *eO@<j? •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 kxg]sr" m$xyUv1
 L/w9dk*uv k]Y#-Q1p~ 场追迹仿真（电磁场探测器） |Aw(v6 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 h
!~u9 !j)H !|R  "b!QE2bRO
Qj? G KO 场追迹仿真（电磁场探测器） pX]*&[X?
KsGS s9 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 22 |f!la8n OjCT*qyU<
 b\ %=mN =>hq0F4[; 文件信息 D4m2*%M ,$habq=;
 MO :##C ,XW 6W&vR; 更多阅读 NBR6$n
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ^)b*"o
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination p1HU2APFP 3R?7&oXvH
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