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内容简介： lZ,$lZg9Z
1bCS4fs^> 1.在VirtualLab中如何进行结构设计； R^K:hKQ
TP`"x}ACa? 2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 ]go.IfH
'E \qqE[; 结构设计 C+C1(b;1 1) 点击 ，打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 EY Z,GT-I
g(F2IpUm/ v1NFz>Hx 2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布，默认为振幅视图. 点击 ，将默认的振幅视图转换为相位视图，点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 %VrMlG4hx
#hEU)G' $+ Y~ OyoNu2 3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 sJ_3tjs)
A<[w'" 目标(Target)标签，可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 `_{,4oi
Bf,}mCq 光学设置(Optical Setup)标签，在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium)，同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长（Wavelength）。 JNA_*3 '
9H%ixBnM b]W vKdq 光学界面参数(Interface Parameters)标签，在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None)，以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面，并选择像素化的高度轮廓（最临近点插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值 u3PM 7z!~ t\ 9Y)d  7{[i)
ZZ].h2= K %bhFl,tL W6yz/{Rf 导出加工数据 :XO7#P
cdfnM% `>\ 1) 在LPD中双击生成的元件，可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component，简称DIC)的形式保存的，而高度轮廓以取样光学界面（Sampled interface）的形式保存，点击编辑(Edit) Z
Mf,3
NB&zBJ# j<vU[J+gx~ 2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口，在结构(Structure)标签上，选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值，并进行3D预览 7"{CBbT
wV{VV?h} 0MOn>76$N 3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中，点击鼠标右键，选择精度(Accuracy)，将界面取样精度设置为5，提高取样光学界面的显示精度 CDFkH Dr#V^"Dte  u$1^=
G*^4 CJ 在一般(General)标签进行如下图所示的设置 3T@`V FbE U a>.k|>0 在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置 d|$-S z _jk+$`[9PL 在GDSII/CIF标签上选择默认设置，并点击Export导出加工数据 +
oNr c. bKPjxN?!9 Um
I,?p
导出加工数据列表 g7]g0*gxXW
?Q}3 X-xy ;0E[ ;
L! 6E:5w9_ =c 导入加工数据 :J6F I6
)$E'2|Gm/ 1) 点击 ，新建一个LPD，在LPD中选取单光学界面(Single Optical Interface)元件，以下简称SOI BKW%/y"
)0 i$Bo ;UWp0d %
2) 双击SOI，进入其编辑窗口，点击加载(Load) 7e<\11uI]a
I S }U2d,W .+ CMm5T 3) 导入取样光学界面(Sampled Interface) lK y4Nry9 [{r ne2sA 4) 点击编辑(Edit)，进入取样光学界面编辑窗口，导入加工数据 =&;}#A%m
V?z-Dt C _1 HEGX\  Wi!$bL`l Bd*\|M  5?gZw;yiv% 6) 导入完成，观察3D视图 +P "u1q*+p
DBzF\-  3a6 %Wb$qpa
QQ：2987619807
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