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内容简介: %4' <0 O{^8dwg 1.在VirtualLab中如何进行结构设计; xnP@h D[/h7Ha 2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 RK)1@Tz7! 5<U:Yy 结构设计 2(I S*idq 1) 点击 ,打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 *I]/ [d h'lqj0 #mKF)W 2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布,默认为振幅视图. 点击 ,将默认的振幅视图转换为相位视图,点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 B703{k *!oV?N[eA' W_.WMbT 3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 &fofFVQnW
$Mg[e*ct 目标(Target)标签,可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 hZ_@U?^ . n[;H;
光学设置(Optical Setup)标签,在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate),并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium),同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长(Wavelength)。 {ooztC B@w/wH *T6*Nxs0k 光学界面参数(Interface Parameters)标签,在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None),以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面,并选择像素化的高度轮廓(最临近点插值)[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值 !,lk>j.V HTz5LAe~b7 hk+8s\%- 4) 完成结构设计,在新的LPD中设计好的结构已经包含在名为“Generated Structure Design Component”的元件中 H #Hhi<2 9$k0 hKnAWKb0 Znw3P|>B 导出加工数据 [s4|+ bT7+$^NHf 1) 在LPD中双击生成的元件,可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component,简称DIC)的形式保存的,而高度轮廓以取样光学界面(Sampled interface)的形式保存,点击编辑(Edit) U7#C. Z f+!k:}K -wa"&Q 2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口,在结构(Structure)标签上,选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值,并进行3D预览 W{m_yEOf }ChS cY p0rmcP1Ln 3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中,点击鼠标右键,选择精度(Accuracy),将界面取样精度设置为5,提高取样光学界面的显示精度 -*A1[Z ? hT`fAn_ ui
RO,B}z s<>d&W 0= \VpN:RI 4) 进入界面高度离散化(Height Discontinuities)标签,将离散高度阶数(Discrete Height Levels)设置为8,通过工具(Tools)中的导出(Export)生成可用于光学界面加工的数据 Gg e X S=}1k,I iD*21c< |