[分享]极紫外投影光刻光学系统 [复制链接]

摘要：极紫外光刻(EUVL)是半导体工业实现32～16nm技术节点的候选技术，而极紫外曝光光学系统是EUVL的核心部件，它主要由照明系统和微缩投影物镜组成。本文介绍了国内外现有的EUVL实验样机及其系统参数特性；总结了EUVL光学系统设计原则，分别综述了EUVL投影光学系统和照明光学系统的设计要求；描述了EUVL投影曝光系统及照明系统的设计方法；重点讨论了适用于22nm节点的EUVL非球面六镜投影光学系统，指出了改善EUVL照明均匀性的方法。 W{JNNf6G  
B^{87YR  
关键词：极紫外光刻；投影光学系统；照明光学系统；光学设计

感兴趣 顶顶顶

zszp:感兴趣 顶顶顶 (2020-12-06 14:57)  ;,z^!bD  

lB\"*K;  
楼主 RAR 文件下载下来无法打开

谢谢分享。

zszp:楼主 RAR 文件下载下来无法打开  (2020-12-06 14:59)  ^(8 i``V  

1){1 HK  
我下载了，压缩文件能正常解压呀，是不是你的网络有问题，传输错误了。

谢谢分享

学习一下。。。。。。

不错的论文。。。。。。

学习下光科技术哈

谢谢分享