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    [分享]极紫外投影光刻光学系统 [复制链接]

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    离线gangzi0801
    技术专家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-12-06
    关键词： 光刻光学系统光学设计
    摘要：极紫外光刻(EUVL)是半导体工业实现32～16nm技术节点的候选技术，而极紫外曝光光学系统是EUVL的核心部件，它主要由照明系统和微缩投影物镜组成。本文介绍了国内外现有的EUVL实验样机及其系统参数特性；总结了EUVL光学系统设计原则，分别综述了EUVL投影光学系统和照明光学系统的设计要求；描述了EUVL投影曝光系统及照明系统的设计方法；重点讨论了适用于22nm节点的EUVL非球面六镜投影光学系统，指出了改善EUVL照明均匀性的方法。 g2 dvs  
    J(&a,w>p  
    关键词：极紫外光刻；投影光学系统；照明光学系统；光学设计
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    共2条评分 ，光币+11
    mang2004 光币 +6 - 2021-01-10
    cyqdesign 光币 +5 - 2020-12-06
     
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    在线mrnobody
    实习生
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    只看该作者 83楼 发表于: 02-10
    EUVL学习
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    离线alexcye001
    实习生
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    只看该作者 82楼 发表于: 02-08
    感谢分享！
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    离线gcy980605
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    只看该作者 81楼 发表于: 2024-10-28
    感谢分享。顶顶顶
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    离线qinzyong
    助理工程师
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    只看该作者 80楼 发表于: 2024-10-14
    下载下来学习学习，多谢楼主！
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    离线smartu
    实习生
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    只看该作者 79楼 发表于: 2024-10-13
    谢谢分享
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    离线smartu
    实习生
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    只看该作者 78楼 发表于: 2024-10-12
    感兴趣 顶顶顶
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    在线mmttxiaoxiao
    高级工程师
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    只看该作者 77楼 发表于: 2024-10-11
    极紫外光刻系统
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    离线yexiaowei12322
    实习生
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    只看该作者 76楼 发表于: 2024-09-13
    谢谢分享
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    离线风起长林
    实习生
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    只看该作者 75楼 发表于: 2024-01-22
    进来看看，感谢分享
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