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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 9#6ilF:F  
    $zz=>BOk  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 wR/i+,K  
    AJ:@c7:eS  
    YKl!M/  
    qTyU1RU$9^  
    该用例展示了… Qq]UEI `Go  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: N &p=4  
    倾斜光栅介质 S,S_BB<Y[b  
    体光栅介质 g)&-S3\  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 =GM!M@~,Ab  
    60AX2-sdJ,  
    #>ci!4Gz=Z  
    =4JVUu~Z  
    光栅工具箱初始化 ?67j+)  
    %v~j10e  
    x_Ais&Gc  
     初始化 iJrscy-  
    开始-> '}4[m>/  
    光栅-> >cM U<'&  
    通用光栅光路图 p dnL~sv  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 ^#^u90I  
    光栅结构设置 ^ad> (W  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 gYzKUX@  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 ocgbBE  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 9y]$c1  
    //Tr=!TQu  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 xI:;%5{LN  
    EUna_ 4=  
    堆栈编辑器 9CBB,  
    aeBth{  
    V`fh,(:  
    4?yc/F=kI  
    堆栈编辑器 2,QkktJLo  
    s^KxAw_IV  
    Tu/JhP/g,`  
    涂层倾斜光栅介质 $V~%$  
    [sKdIw_  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 x-Mp6  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 dqKTF_+VhA  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 =h_4TpDQ  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) @MB;Ez v  
    (J^ Tss  
    !&'xkw`  
    $yFur[97C  
    涂层倾斜光栅介质 /{kyjf[o&*  
    ?ST}0F00}  
    vCpi|a_eCu  
    dNJK[1e6  
    涂层倾斜光栅介质 p6HZ2Q:a  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 VJR'B={h  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 hCxL4LrF  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 y6PAXvv'{  
    1  yzxA(  
    @$nI\ n?*  
    mML^kgy\N  
    涂层倾斜光栅介质参数 ,<vrDHR  
    lP9I\Ge&  
    R<U?)8g,h~  
    zA"D0fr  
    涂层倾斜光栅介质参数 /p%K[)T(  
    ~AE034_N  
    TM^1 {0;r5  
    .i=%gg  
    高级选项&信息 }zobIfIF  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 vSnb>z1  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 _ma4  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 Bw#ubQJ8}  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 _E30t( _.  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 pz$$K?  
    s?6 7@\  
    VmUM _Q~  
     !gk\h  
    高级选项&信息 AQiP2`?  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 <m6Xh^Ko;  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 \iL,l87  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 O?2<rbx  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 ]Z84w!z  
    9e1 6 g  
    xLD6A5n,[  
    v:HgpZo+  
    高级选项&信息 mhVoz0%1X  
    t~a$|( 9  
    bNaUzM!,H  
    Hwc{%.%ae  
    高级选项&信息 ,m"ztu-  
    @LE?XlhD  
    3w9 ]@kU  
    c0qv11,:t  
    体光栅介质 JyqFFZ&  
    '0O[d N  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 : te xl  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 {fb~`=?  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 \=@r1[d  
    D}061~zb$  
    *3ne(c  
    rgYuF,BT.  
    体光栅介质参数 O\LW 8\M  
    H4m6H)KOG  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 k41la?  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 wr$}AX  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 xk*3,J6BK  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) V- cuG.  
    .#:,j1L"53  
    #w*pWD^  
    hKTg~y^  
    体光栅介质参数 5j{@2]i  
    ,SyUr/D  
    #LN I&5  
    r;XQ i  
    高级选项&信息 YDNqWP7s  
    $&C(oh$:  
    >Y/[zf I2  
    ob] lCX)  
    高级选项&信息 6oP{P_Pxi  
    da2[   
    ]v{fFmL  
    . ?p}:  
    在探测器位置处的备注 [Kj:~~`T   
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 reA8=>b/  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 )R^Cqo'  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 @"I#b99  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) +hg\DqO^M  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 j>o +}p?3I  
    *!'&:  
    vaj66nV  
    N4To#Q1w  
    文件信息 KCk?)Qv  
    2\w=U,;(  
    u!uDu,y  
    t%U[\\ic  
    ;-?ZI$  
    QQ:2987619807 &{ {DS  
     
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