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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 ~4O3~Y_+GN  
    (I(U23A~  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 UEt78eN  
    -B! a O65^  
    &4 #%xg  
    bg_io*K  
    该用例展示了… lj:.}+]r  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: ld):Am}/o  
    倾斜光栅介质 {K}Dpy  
    体光栅介质 >j*0fb!:]  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 }_}    
    L/,g D.h^  
    @<X[,Mj  
    o|c&$)m  
    光栅工具箱初始化 .IVKgQ B  
    !q$>6P  
    !'IZr{Y>  
     初始化 Uovna:"  
    开始-> UH;bg}=8  
    光栅-> L{l}G,j<  
    通用光栅光路图 Ktvs*.?  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 G#@#j]8  
    光栅结构设置 [eBt Dc*w  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 W(?J,8>  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 #7]>ozKm  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 ="f-I9y  
    2 e#"JZ=  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 SG&H^V8  
    G`&P|xYg  
    堆栈编辑器 oHp"\Z&  
    0;,Y_61  
    5dG+>7Iy}  
    w(X}  
    堆栈编辑器 6 b?K-)kL  
    T+rym8.p  
    CdcB E.%<  
    涂层倾斜光栅介质 V$;`#J$\b  
    w40*vBz  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 <{hB&4oL  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 (2"4PU8  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 .x/H2r'1  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) /R?*i@rvf  
    pU,\ &3N  
    N1'Yo:_A  
    I")Ud?v0)  
    涂层倾斜光栅介质 !U(KQ:j  
    :D>flZi  
    uC#] F@  
    eb,QT\/G  
    涂层倾斜光栅介质 :B|rs&  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 &hi][Pt  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 /X#OX 8gb]  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 RU=g|TL  
    EG8z&^O x  
    ;ByCtVm2  
    B>z^W+Unyn  
    涂层倾斜光栅介质参数 F8{T/YhZ  
    8JW0;H<  
    }v?l0Gk(  
    Z3ODZfu>  
    涂层倾斜光栅介质参数 FT}^Fi7  
    f^5sJ 0;%  
    Pl#u ,Y  
    >qGWDCKr  
    高级选项&信息 N "eK9>  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 F^TOLwix  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 P>x88M  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 ^r]-v++  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 !}1l8Y  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 e U-A_5  
    |c-`XC2g  
    ?9 `T_,  
    |Q?$n3-f"  
    高级选项&信息 |Xv\3r  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 cmaha%3d  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构  TLVfu4  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 40-/t*2Ly  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 y4!fu<[i  
     Y!|};  
    P5"B7>L:  
    Gt!Hm(  
    高级选项&信息 =Q|s[F  
    .Dr7YquW  
    6Hd^qouid  
    8-K4*(-dL  
    高级选项&信息  e+@.n  
    U[#q"'P|l  
    aIWpgUd`  
    : R8+jO   
    体光栅介质 :n x;~f  
    *S Z]xrs  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 jar?"o  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 )MX%DQw  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 o9v9 bL+X  
    L;KLmxy#  
    tfe'].uT  
    #e9XU:9 @g  
    体光栅介质参数 `WQpGBS_z_  
    ;{n*F=%uC  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 H"2,Q T  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 >v%UV:7ap  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 mFIIqkUAL  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) x6=tS  
    q#Ik3 5  
    %g4)f9>  
    6|%HCxWO  
    体光栅介质参数 fK=vLcH  
    6(HJYa  
    $5>x)jr:w+  
    \z2d=E  
    高级选项&信息 ? 5hwz  
    mOYXd,xd  
     +!wkTrV  
    B#4 J![BX  
    高级选项&信息 a\I`:RO=<Z  
    Gv\fF;,R  
    "QY~V{u5  
    89A04HX  
    在探测器位置处的备注 ]m^ECA$  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 sF#t{x/sW  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 /3~}= b  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 z.kBQ{P  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) vYG$>*  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 Cd7d-'EQn  
    5wMEp" YHE  
    w~*"mZaG  
    _]=, U.a=/  
    文件信息 9'JkLgz;d+  
    k+cHx799  
    , Onu%  
    R )e^H  
    `#N7ym;s@  
    QQ:2987619807 QgX[?2  
     
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