[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 o<S(ODOfi  
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光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 E-rGOm" m  
?cr^.LV|h^  
GQkI7C  
*=QWx[K|  
该用例展示了… ~:A=o?V2  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： X{5(i3?S  
倾斜光栅介质 F-?s8RD  
体光栅介质 CJLfpvV  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 m!<uY?,hf  
Daf;; w  
yzCamm4~0  
5DeAH;  
光栅工具箱初始化 $T'lWD*  
_nW#Cl~  
ID=^497  
 初始化 ^paM{'J\\)  
开始-> (d5kD#.N  
光栅-> "IdN*K  
通用光栅光路图 XuW>GT/  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 {Ve_u  
光栅结构设置 X04JQLhy"  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 h1N{;SWQ
 
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 &q[`lIV,L  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 }W"/h)q  
&14Er,K  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 AtlUxFX0S  
a^GJR]] {  
堆栈编辑器 pj'
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堆栈编辑器 h-:te9p6>4  
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Hk|wO:7
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涂层倾斜光栅介质 p#(5 ;  
Xkb\fR6<K  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 ??`zW  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 t2q{;d~.  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 h}jE=T5Hc  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） 8d"Ff  
{`1gDKH  
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涂层倾斜光栅介质 9TbRrS09  
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TW}nO|qw  
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涂层倾斜光栅介质 z7g=L@   
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 ?Q%X,!~\:  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 \$[S=&E  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 rOd~sa-H  
N3g\X
  
+(3U_]Lu  
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涂层倾斜光栅介质参数 +&h<:/ V  
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涂层倾斜光栅介质参数 _B5v&#h(.  
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U0X?~ 1  
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高级选项&信息 hMvLx>q3)  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 7awh__@  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 qt!0#z8  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 7$u}uv`j  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 Zw<\^1  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 #?EmC]N7  
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SV0h'd(b  
w5uOkz #  
高级选项&信息 RO+N>Wkt  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 J}'a|a@bk  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 a08`h.dyN  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 qmx4hs8sh  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 ic(`Ev  
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S)$iHBx{  
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高级选项&信息 ~ '/Yp8(  
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高级选项&信息 hiQ#<  
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7lH3)9G;  
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体光栅介质 3q*p#l~  
LW '3m5  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 mW&hUPRx  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 
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 同时，两个平面界面作为介质的边界 yrVk$k#6}  
3BzC'nplm  
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M\rZr3  
体光栅介质参数 AkE(I16Uy~  
zo>@"uH4  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 g<(\#F}/  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 j}fu|-  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 e"O c  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） <*F!A' w2o  
Q^!x8oUF  
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O; #qG/b1  
体光栅介质参数 WAqH*LB  
mx3p/p  
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高级选项&信息 _ ,~D]JYE  
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高级选项&信息 <A
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在探测器位置处的备注 UrJrvx  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 3 =-XA2zJ  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 yYN_]&ag  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 &\>.j|  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） Pof]9qE-y  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 @h)Z8so  
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文件信息 vMv? fE"  
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QQ：2987619807 `*-rz<G