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摘要 hY *^rY' T
:^OW5 d 光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 C\;%IGn &N3a`Ua
qC=ZH# _W,?_"[R= 该用例展示了… _g D9oK 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: CPY|rV 倾斜光栅介质 bGwj` lue 体光栅介质 yM(ezb 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 >>;He7 .#K\u![@N 4
'vjU6gW I8IH\5k 光栅工具箱初始化 ;7JyL|2 Q'j00/K
~X'hRNFx~ 初始化 (9] =;) 开始-> D*_.4I 光栅-> MRK3Cey} % 通用光栅光路图 U9%^gC 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 hsQ*ozv[) 光栅结构设置 6$csFW3R 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 8)b*q\O' 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 k^s7s{ 堆栈可以固定到基底的一边或两边 uhwCC ZKB27D_vg> 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 nA=E|$1 mhs%8OTN 堆栈编辑器 jq|fIP S6_dmTV* .g=D70 i^4i]+ 堆栈编辑器 '(3|hh)Tl \#"&S@%c k4"O}jQO 涂层倾斜光栅介质 OPv~1h<[ E-?JHJloU 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。
H^$7= 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 gA2]kZg 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 Vr T0S 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) rC ,ZRFF &iJvkt
mP_c-qD
| i*+N[#yp 涂层倾斜光栅介质 0F&(}`V quq !Jswn `mN5s q 'puiahA 涂层倾斜光栅介质 #!4
HSBf 堆栈周期允许控制整个配置的周期 d! _8+~ 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 v0pev;C 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 U{9yfy jF{\=&fU eTY(~J#' !Bhs8eGr3 涂层倾斜光栅介质参数 TO]
cZZ< A_5M\iN\
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.V l 涂层倾斜光栅介质参数 {9nH#yv A$::|2~ nYnv.5 zf[KZ\6H 高级选项&信息 ,T+.xB;Q@ 在传输菜单中,多个高级选项可用 *1U"uJno 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 $~1~+s0$ 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 vUJQ<D 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 ;n/04z 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 &2pa9i WiF6*]oI NH8\}nAK {6;S= 9E\ 高级选项&信息 H+VjY MvK 高级选项标签提供了结构分解的信息 I@I-QiI 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 nSbcq>3 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 j g(cpo d 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 $HFimU,V=0 PW"uPn
0G#s/u# +^|=MK% 高级选项&信息 *orP{p-U c(lG_"q6
lXu6=r z_t%n<OvK 高级选项&信息 nztnU9OG %j;mDR95 %xP'*EaM? #Dl=K<I 体光栅介质 i0{sE N=TDywRI 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 s)7sgP 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 Y86mg7[U/ 同时,两个平面界面作为介质的边界 Rj])c^ZA'* ^wb$wtL(' PsyXt5Dk ?0'db 体光栅介质参数 aQL$?, $/$ 5{< 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 rLI);!^- 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 H.!\j&4j 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 T9-2"M=|< 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) +o}mV.& |