[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 9}uW}yJ  
\ZhfgE8{%  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 @@rEs40  
pT1[<X!<s  
~J8pnTY  
?(m jx  
该用例展示了… +|@rD/I6  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： `|#Qx3n%  
倾斜光栅介质 ,FMx5$  
体光栅介质 E)7F\w  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 rB
Teb0i?  
4e;yG>  
]oV{t<0a  
!x>%+&c>k  
光栅工具箱初始化 I}t3 p|z  
>sjhA|gXk  
f1)x5N  
 初始化 HU-QDp%*r7  
开始-> L%$|^T=%  
光栅-> v-Fg +  
通用光栅光路图 rs*Fy@  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 bY2 C]r(n  
光栅结构设置 NeBsv= [-  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 :%AL\n  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 1q3( @D5~+  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 ND,Kldji  
A@D2
+fS  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 { "xln/  
X3:XTuV  
堆栈编辑器 }^*F59>H  
]I.n\2R]om  
|?,[@z _,  
wHv]ViNvXE  
堆栈编辑器 ;v~-'*0  
|*X*n*oI  
',4x$qe  
涂层倾斜光栅介质 rgf#wH%hN  
q;D+ai  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 7
HJS.047  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 ror|R@;y  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 wpt='(  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） u!U"N*Y"  
0T5=W U  
,j ',x\  
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涂层倾斜光栅介质 70Yjv1i  
%q322->
Z  
*P!e:Tm)  
qr50E[  
涂层倾斜光栅介质 b7\ cxgRq  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 &Q=ZwC7#  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 SL&hJs4c'  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 4YMX|1wd)  
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np}O  
vhT_=:x  
Y'3}G<'%  
涂层倾斜光栅介质参数 ]G}B 0u3  
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^c>)  
R
F!1oZ  
T\# *S0^  
涂层倾斜光栅介质参数 `C
+HE$B  
R,!Q Zxmg  
]43bere  
"$5\,  
高级选项&信息 JH]K/sC>  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 l n}}5Q  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 rspayO<]3  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 "?
GebA  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 OAZ#|U   
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 i_LF`JhEQT  
9kY[j2,+  
yWHiw<  
Vjm_F!S  
高级选项&信息 do>
"[RO  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 %im#ww L%  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 L1)@z8]
 
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 d(*fy}  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 =]Hs|{  
MYnH2w]  
6vf\R*D|A  
y466A]|  
高级选项&信息 ^yKY'>T#d  
gCVryB@z2  
gglQU"=g{  
7TX,T|>9  
高级选项&信息 #S+Z$DQD  
N\1/JW+  
M`,XyIn  
+MO E  
体光栅介质 I/COqU7~  
EZ(^~k=I  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 8<)$z?K  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 gw3NS8 A+  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 qG>DTKIU  
=O{~Q3z@s  
WA.\*Nqze  
/k"hH\Pp  
体光栅介质参数 Dd2Lx&9  
ke.7Zp2.R  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 76#.F  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 tnW;E\cR  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 hK}bj  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） _& 4its  

+3bfD  
O rk  
A@$fb}CF  
体光栅介质参数 ~'  =lou  
ZZ A.a  
VVrwOoCN  
:?r*p>0$  
高级选项&信息 O5 7jz= r  
hZNEv|  
o|287S|$  
v`G U09  
高级选项&信息 TIRHT`"i  
dB|Te"6  
hrM"Zg  
S[@6Lp3q_  
在探测器位置处的备注 .Y/-8H-3v  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 GMFc K=  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 ~440#kj<  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 x9`ZO<L$  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） YbvX$/zGu  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 \!X?zR_  
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Ry%YM,K3  
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文件信息 #DaP=k"XV  
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QQ：2987619807 C
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