[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 l3Wh&*0  
b\Mb6s  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 Z&6*8#wn  
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Nr8,[c  
wl0i3)e:  
c{{RP6o/j=  
该用例展示了… M=sGPPj  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： -1%AM40j  
倾斜光栅介质 wqF_hs(O  
体光栅介质 P0l.sVqL  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 D9r4oRkP*  
2&0#'Tb  
_}l7f  
Z!z#+G  
光栅工具箱初始化 0I}c|V'P  
~mvD|$1z  
C4|H5H  
 初始化 V?r(;x  
开始-> ZJOO*S  
光栅-> %&M*G@j  
通用光栅光路图 j|IvDrm#  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 Z"d21D~h9`  
光栅结构设置 }_h2:^n  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 roNs~]6  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 ;edt["Eu  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 [W8?ww%qT  
{KqERS& g  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 <]u]rZc$  

>$_@p(w  
堆栈编辑器 ]Vd1fkXO0  
{TC_ 4Y|8  
qR^i5JH}u  
HC RmW'  
堆栈编辑器 g*$yUt  
?#J;\^  
o(Q='kK  
涂层倾斜光栅介质 : G0^t
 
mO@S
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 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 0Rz",Mu>  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 7s2e>6Q[  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 JA "  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） FfibR\dhY  
4FcY NJq  
W-ol*
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V w5@)l*f  
涂层倾斜光栅介质 .!Q?TSQ+{!  
`E5vO1Pl  
eS;W>d  
Wf9K+my  
涂层倾斜光栅介质 v$EgVcK  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 z{G@t0q  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 =>Dw,+"  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 7w5 L?,a  
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~MZ.988:<  
jrm L>0NZ  
涂层倾斜光栅介质参数 @^K_>s9B  
Yf[GpSej  
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ZsL-vlv  
涂层倾斜光栅介质参数 |3uE"\nfA  
_|KeB(W  
x#TWZ;  
U?yKwH^{  
高级选项&信息 "(^1Dm$(  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 =f-.aq(G/  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 mx")cGGQ  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 KI8Q =*  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 m|cT)-  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 .="[In'  
TF;}NQ  
*Q:EICDE7  
GeCyq%dN  
高级选项&信息 x\!Uk!fM  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 .5YIf~!59  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 .LEn~ 8  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 PU{7s  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 G~|Z(}H  
#e(P~'A0  
X~5kgq0"  
I\oI"\}U  
高级选项&信息 pxO?:B  
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yct^AN|%  
高级选项&信息 c!}f\ ]D  
}!0nb)kL  
Bi|XdS$G  
*O@uF4+!1  
体光栅介质 =#ls<Zo:  
KgMW  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 Lv`NS+fX  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 #.z`clK#  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 y:N>t+'5  
cWG?`6xU&  
:D!}jN/)  
@I$;  
体光栅介质参数 rlIDym9nY~  
p 6FPdt)  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 }I;5yk,o  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 }v?_.MtS  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 Sx%vJYH0  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） LVX01ox$  
G>fJ)A  
Q\4nduQ  
iSz?V$}?
  
体光栅介质参数 rM?ox  
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ntT~_Ba8;u  
]C me)&hX  
高级选项&信息 h"~GaI  
E5}wR(i,4  
P6cc8x9g(  
(ON_(MN   
高级选项&信息 ,wvzY7%  
LVj62&,-  
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在探测器位置处的备注 >^Zyls  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 #n_uELE  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 1li1&  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 -bHfo%"^TT  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） 4l~0LdYXKm  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 >{dj6Wo  
3)J0f+M>dv  
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文件信息 A S#D9o  
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QQ：2987619807 G1d!a6>