[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 :Osw4u]JXd  
!1+yb.{\  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 ,9T-\)sT  
w9QY2v,U  
i"eUacBz/-  
9b KK  
该用例展示了… tYE\tbCO'  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： 3C8cvi[IS  
倾斜光栅介质 ;0j 8Xj  
体光栅介质 S
!*wK-  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 ')ZM# :G  
ZH]n&%@j  
!JZ)6mtlr  
3yT7;~vPj  
光栅工具箱初始化 \[m{&%^G  
s d-5AE  
P.G`ED|K!Y  
 初始化 
DI/yHs  
开始-> >lZ9Y{Y4v  
光栅-> @9yY`\"ed  
通用光栅光路图 @m*^v\q<u  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 Bismd21F6=  
光栅结构设置 zT;F4_p3G-  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 .nXOv]  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 GR@jn]50  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 /5@4}m>Z@  
wWaO"N]  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 ~0S_S+e  
KW&5&~)2  
堆栈编辑器 XJ\j0  
\EP<r  
51:NL[[6  
\\\%pBT7]\  
堆栈编辑器 {5<3./5O  
Knd2s~S  
K,pQ11J  
涂层倾斜光栅介质 Fu@2gd  
&<Gs@UX~w  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 DB1F_!9  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 HzdtR  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 "RZVv~BD  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） 'IR
2H{Q  
x RV@_  
x>Hg.%/c[  
i,77F!  
涂层倾斜光栅介质 LV$@J  
6xLLIby,  
!nPwRK>  

Oy>V/  
涂层倾斜光栅介质 XeGtge/}T  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 gO{XD.s  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 5e>
<i  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 U_1syaY!  
.?C-J  
*)+K+J  
U9uy(KOW  
涂层倾斜光栅介质参数 !KYX\HRW  
@Yv+L)  
VeLuL:4I  
xy/B<.M1  
涂层倾斜光栅介质参数 -+#QZ7b  
:E$<!q  
Sdk:-Zuv  
WfnBWSA2T  
高级选项&信息 u0Nag=cU  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 v5aHe_?lp  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 $)V_oQSqn  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 G)vq+L5%  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 6*!
R'  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 m^6& !`CD  
!|SVRaS  
H)eecH$K  
!!jitFHzb  
高级选项&信息 "4 Lt:o4x  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 Q Pel n)  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 tH7@oV;  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 H%}ro.u  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 \(S69@f  
5x([fG  
st|;]q9?  
$]{20"  
高级选项&信息 0`{3|g  
qUZm6)p6[a  
2;82*0Y%  
^rHG#^hA  
高级选项&信息 ,wyfMOGLt  
WcG!6.U>  
ZQ&A'(tt4  
, Ww\C  
体光栅介质 gM0^k6bB8  
`oDs]90  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 H(MCY3t  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 ?Aewp$Bj  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 m'L7K K-Y)  
?PMF]ah  
l'~~hQ{h/  
u$3wdZ2&m  
体光栅介质参数 U c6]]Bbc  
?iX1;c9  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 |=dmxfj@  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 H 3e(-  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 T)!$-qdz/  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） yMJY6$Ct  
vf|lF9@U  
\Mi] !b|8  
I3{koI  
体光栅介质参数 pPC_ub  
Z#2AK63/T  
POnI&y]
  
Oq7R^t`b  
高级选项&信息 N
33{
vx  
y .+d3  
#P)7b,3pe  
shjq4#9  
高级选项&信息 ZPM,ZGlu:  
/~4wM#Y
i8  
r_5k$u(  
-w0U}Te^  
在探测器位置处的备注 qrWeV8u
r+  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 {3jV ,S  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 #Cw
zk{p(  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 RR%[]M#_T  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） \z/_vzz4  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 (>E}{{>2r  
7 Q`'1oE?  
,>DaS(  
M
zF9 &{N  
文件信息 CdTyUl  
3#IU^6l:1S  
x vi&d1  
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QQ：2987619807 ]>K02SVT: