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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 h Y *^rY'  
    T :^OW5d  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 C\;%IGn  
    &N3a`Ua  
    qC=ZH#  
    _W,?_"[R=  
    该用例展示了… _g D9oK  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: CPY|rV  
    倾斜光栅介质 bGwj` lue  
    体光栅介质 yM(ezb  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 >>;He7  
    .#K\u![@N  
    4 'vjU6gW  
    I8IH\5k  
    光栅工具箱初始化 ;7JyL|2  
    Q'j00/K  
    ~X'hRNFx~  
     初始化 (9] =;)  
    开始-> D*_. 4I  
    光栅-> MRK3Cey}%  
    通用光栅光路图 U9%^gC  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 hsQ*ozv[)  
    光栅结构设置 6$csFW3R  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 8)b*q\ O'  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 k^s7s{  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 uhwCC  
    ZKB27D_vg>  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 nA=E|$1  
    mhs%8OTN  
    堆栈编辑器 jq|fI P  
    S6_dmTV*  
     .g=D70  
    i^4i]+  
    堆栈编辑器 ' (3|hh)Tl  
    \#"&S@%c  
    k4"O} jQO  
    涂层倾斜光栅介质 OPv~1h<[  
    E-?JHJloU  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 H^$7=  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 gA2]kZg  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 V r T0S  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) rC,ZRFF  
    &iJvkt  
    mP_c-qD |  
    i*+N[#yp  
    涂层倾斜光栅介质 0F &(}`V  
    quq!Jswn  
    `mN5sq  
    'puiahA  
    涂层倾斜光栅介质 #!4 HSBf  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 d! _8+~  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 v0pev;C  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 U {9yfy  
    jF{\=&fU  
    eTY(~J#'  
    !Bhs8eGr3  
    涂层倾斜光栅介质参数 TO] cZZ<  
    A_5M\iN\  
    ~eekv5  
     .V l  
    涂层倾斜光栅介质参数 {9nH#yv  
    A$::|2~  
    nYnv.5  
    zf[KZ\6H   
    高级选项&信息 ,T+.xB;Q@  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 *1U"uJno  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 $~1~+s0$  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 vUJQ<D  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 ;n/04z  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 &2pa9i  
    WiF6*]oI  
    NH8\&#}nAK  
    {6;S= 9E\  
    高级选项&信息 H+VjY MvK  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 I@I-QiI  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 nSbcq>3  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 jg(cpo d  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 $HFimU,V=0  
    PW"uPn  
    0G #s/u#  
    +^ |=MK%  
    高级选项&信息 *orP{p -U  
    c(lG_"q6  
    lXu6=r  
    z_t%n<OvK  
    高级选项&信息 nztnU9OG  
    %j;mDR9 5  
    %xP'*EaM?  
    #Dl=K<I  
    体光栅介质 i0{sE  
    N=TDywRI  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 s )7sgP  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 Y86 mg7[U/  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 Rj])c^ZA'*  
    ^wb$wtL('  
    PsyXt5Dk  
    ?0'db  
    体光栅介质参数 aQL$?,  
    $/$ 5{<  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 rLI );!^-  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 H.!\j&4j  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 T9-2"M=|<  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) +o}mV.&1,  
    78FLy7  
    IF <<6.tz  
    5<h:kZ"S^g  
    体光栅介质参数 E)Cdw%}^  
    1\%2@NR  
    `(lD]o{,s  
    bt 0Q6v5  
    高级选项&信息 VK^m]??s_  
    DY8w\1g"  
    t4r%EP|Zt  
    i'uSu8$'*  
    高级选项&信息 ,2`FSL%J  
    1t<  nm)  
    8\$ u/(DX  
    !ZzDSQ ;  
    在探测器位置处的备注 )LjW=;(b  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 mD go@ f  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 [IPXU9& Q  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 =~ [RG  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) ^?-wov$  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 >4]y)df5  
    {# Vp`ji  
    {6gY6X-R  
    +`l)W`zX  
    文件信息 ^#)]ICV  
    3\0,>L9ET@  
    BFn4H%1  
    .[C@p`DZ  
    y5`$Aa4~  
    QQ:2987619807 lka Wwjv_D  
     
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