[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 J-lQPMI,  
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光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 >'#G$f  
{.9phW4Vr?  
'>(R'g42n  
\nV|Y=5  
该用例展示了… Ww*='lz  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： >V:g'[b  
倾斜光栅介质 PezUG{q(  
体光栅介质 h'wOslyFa  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 Qg+0(odd  
B\&;eZY'G  
+r)'?zU  
 N7j  
光栅工具箱初始化 Xz5 aTJ&  
CQfrAk4mu  
{HeIY2  
 初始化 gkS#=bv9e@  
开始-> \
ief [  
光栅-> .)^@[yrkz  
通用光栅光路图 jh.W$.Oq  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图  D/hQ{T  
光栅结构设置 E)|_7x<u  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 Mn+;3qo{6  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 VAf~,T]Ww  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 "|pNS)  
-}k'a{sj=  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 D3yG@lIP3  
 G~T]
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堆栈编辑器 sqHvrI  
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堆栈编辑器 W5*%n]s~  
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DG1  >T  
涂层倾斜光栅介质 j[YzBXd V  
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 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 xd8UdQ,lt  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 s)<#a(!  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 +uW$/_Y$  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） i%H_ua  
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涂层倾斜光栅介质 O!='U!X@P  
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dC@aQi6{6  
涂层倾斜光栅介质 eN{[T PPCq  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 Y."ujo#bB  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 94%gg0azp  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 8WV1OIL  
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涂层倾斜光栅介质参数 m}0US;c#f  
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涂层倾斜光栅介质参数 b
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3tI=?E#  
高级选项&信息 #/@U|g  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 l?(nkg["nY  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 dv-yZRU:  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 Jl&bWp^3  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 G;V@oT  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 @B ~![l  
_~_04p  
PC/fb-J  
Y32F{ z  
高级选项&信息 0t5>'GYX  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 `3kE$h#  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 y?<[g;MuT  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 7Upm  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 m\7-/e2a  
M$-4.+G  
KSVIX!EsX  
F/ 2@%,2n  
高级选项&信息 #`:s:bwM:  
fOJk+? c  
I!jSAc{  
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高级选项&信息 '0X!_w6W  
xC`Hm?kM  
p*!@z|F>U  
P~_CDh.N  
体光栅介质 )(*A1C[  
9~zh]deH  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 x`PIJE  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 dJ?VN!B0  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 y4VCehdJ  
:tdx:  
3`TC*  
JwB:NqB  
体光栅介质参数 zJI/j _~W  
dpZ7eJ  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 Sn.I ]:l  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 X~0l1 @!  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 YC&iH>jO3  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） Jkpw8E7  
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0o At=S  
Yp 6;Y7^  
体光栅介质参数 PZNo.0M70  
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x~s>  
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高级选项&信息 MP[v 9m@  
Ou2H~3^PL  
_I~TpH^1K  
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高级选项&信息 }Bc'(2A;,  
P:lvZ   
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m80+b8b  
在探测器位置处的备注  3mWo`l  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 dadOjl)S)
 
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 j`,;J[Zd`h  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 XYod>[.x  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） bQXxb(^  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 E|
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