切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • 1851阅读
    • 0回复

    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

    上一主题 下一主题
    在线infotek
     
    发帖
    7040
    光币
    29345
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 n=SzF(S[M  
    ~)!VV)  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 1uj05aZh}  
    mc56L[  
    ]LY^9eK)>{  
    QZ9M{Y/  
    该用例展示了… =1&}t%<X  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: 9M19 UP&  
    倾斜光栅介质 8Y]}Gb!  
    体光栅介质 _.hIv8V  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 qFGB'mIrFz  
    %`N&ti  
    vzQyE0T/  
    \c'%4Ao  
    光栅工具箱初始化 TyyRj4>  
    +;5Wp$ M\  
    I[a%a!QO  
     初始化 /!o1l\i=5  
    开始-> (#lm#?<)  
    光栅-> Xd5! Ti}  
    通用光栅光路图 aq$62>[  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 2@OBeR  
    光栅结构设置 orK+B4  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 ge@reGfsB1  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 1_XO3P\  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 {!>E9Px  
    -!JlM@  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 sd]0Hx[  
    d"Ml^rAn  
    堆栈编辑器 1XC*|  
    V&$  J;  
    }b<87#Nb9R  
    o4U]lK$  
    堆栈编辑器 h7)VJY  
    u_hE7#i  
    ,OFq'}q  
    涂层倾斜光栅介质 /,-h%gj  
    f45;fT>   
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 !e9N3Ga  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 LJ:mJ#  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 I>(;bNgN E  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) Jq=X!mT d.  
    :K!GR  
    Q;d+]xj  
    zLE>kK  
    涂层倾斜光栅介质 wCTcGsw W  
    %D`^  
    M^!C?(Hx^x  
    iDyMWlV  
    涂层倾斜光栅介质 )ylv(qgV  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 \a9D[wk;@  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 MxFt;GgE8  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 >F_qa=t%[  
    .eZPp~[lAN  
    p =#'B*'w  
    -PIA;#Gs  
    涂层倾斜光栅介质参数 IF,i^,  
    ^\Ue7,H-  
    )M&I)In'  
    35-DnTv  
    涂层倾斜光栅介质参数 FkB6*dm-  
    GF$rPY[  
    %N?W]vbra  
    d&$.jk8 2  
    高级选项&信息 uyS^W'fF  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 %B*<BgJ;4F  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 EU&6 Tg  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 @ U7#, G  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 zz+M1n-;o  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 `2Z4#$.  
    3> n2  
    kHz+ ZY<?  
    0%q{UW2  
    高级选项&信息 GA%"w=M\  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 xIq"[?m  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 n9mM5H47  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 4jq`No_  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 %nG~u,_2f  
    7>c 0V&  
    Dn{19V. L  
    [E..VesrM  
    高级选项&信息 7><* 9iOW  
    &)fhlp5  
    jN5} 2 p*  
    ;c \zgs~"T  
    高级选项&信息 ~Q{[fy=  
    Hz;jJ&S  
    4P-'(4I)  
    af`f*{Co3  
    体光栅介质 %i]uW\~U  
    NXV~[  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 w;h\Y+Myyk  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 "\R@l Ux.Y  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 =km-` }I,  
    1Q2k>q8  
    G74a9li@  
    [/#k$-  
    体光栅介质参数 <or>bo^  
    b|V4Fp  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 ,& pF:ql F  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 k:HSB</}  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 }GU6Q|s[u[  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) ]Pg?(lr6)  
     c+G:@%  
    >R'VY "\  
    \I o?ul}za  
    体光栅介质参数 Xj@    
    bCac .x#jo  
    "8j;k5<  
    f4\p1MYQ  
    高级选项&信息 {bq-: CZe  
    e>i8=U` ;  
    O ]4 x;`)  
    { P\8g8  
    高级选项&信息 M0"g/W  
    ~sU! 1  
    *"9)a6T t+  
    : QhEu%e  
    在探测器位置处的备注 Xta>  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 HDae_.  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 j/`qd(=B  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 /j5- "<;.  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) @x>$_:]  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 Q17o5##x7  
    1 0Tg > H  
    i!+3uHWu`)  
    p/^\(/\])  
    文件信息 2 DNzC7}e  
    *U^\Mwp  
    `] dx%  
    i:N^:%  
    YPJx/@Z`  
    QQ:2987619807 CR8r|+(8  
     
    分享到