[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 9#6ilF:F  
$zz=>BOk  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 wR/i+,K  
AJ:@c7:eS  
YKl!M/  
qTyU1RU$9^  
该用例展示了… Qq]UEI `Go  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： N &p=4  
倾斜光栅介质 S,S_BB<Y[b  
体光栅介质 g)&-S3\  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 =GM!M@~,Ab  
60AX2-sdJ,  
#>ci!4Gz=Z  
=4JVUu~Z  
光栅工具箱初始化 ?67j+)  
%v~j10e  
x_Ais&Gc  
 初始化 iJrscy-  
开始-> '}4[m>/  
光栅-> >cMU<'&  
通用光栅光路图 pdnL~sv  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 ^#^u90I  
光栅结构设置 ^ad> (W  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度
gYzKUX@  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 ocgbBE  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 9y]$c1  
//Tr=!TQu  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 xI:;%5{LN  
EUna_ 4=  
堆栈编辑器 9CBB,  
aeBth{  
V`fh,(:  
4?yc/F=kI  
堆栈编辑器 2,QkktJLo  
s^KxAw_IV  
Tu/JhP/g,`  
涂层倾斜光栅介质 $V~%$  
[sKdIw_  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 x-Mp6  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 dqKTF_+VhA  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 =h_4TpDQ  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） @MB;Ez v  
(J^ Tss  
!&'xkw`  
$yFur[97C  
涂层倾斜光栅介质 /{kyjf[o&*  
?ST}0F00}  
vCpi|a_eCu  
dNJK[1e6  
涂层倾斜光栅介质 p6HZ2Q:a  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 VJR'B={h  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 hCxL4LrF  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 y6PAXvv'{  
1 yzxA(  
@$nI\n?*  
mML^kgy\N  
涂层倾斜光栅介质参数 ,<vrDHR  
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R<U?)8g,h~  
zA"D0fr  
涂层倾斜光栅介质参数 /p%K[)T(  
~AE034_N  
TM^1{0;r5  
.i=%gg  
高级选项&信息 }zobIfIF  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 vSnb>z1  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 _ma4  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 Bw#ubQJ8}  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 _E30t( _.  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 pz$$K?  
s?6 7@\  
VmUM_Q~  
!gk\h  
高级选项&信息 AQiP2`?  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 <m6Xh^Ko;  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 \iL,l87  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 O?2
<rbx  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 ]Z84w!z  
9e1 6 g  
xLD6A5n,[  
v:HgpZo+  
高级选项&信息 mhVoz0%1X  
t~a$|( 9  
bNaUzM!,H  
Hwc{%.%ae  
高级选项&信息 ,m"ztu-  
@LE?XlhD  
3w9
]@kU  
c0qv11,:t  
体光栅介质 JyqFFZ&  
'0O[dN  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 :te xl  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 {fb~`=?  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 \=@r1[d  
D}061~zb$  
*3ne(c
 
rgYuF,BT.  
体光栅介质参数 O\LW 8\M  
H4m6H)KOG  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 k41la?  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 wr$}AX  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 xk*3,J6BK  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） V-cuG.  
.#:,j1L"53  
#w*pWD^  
hKTg~y^  
体光栅介质参数 5j{@2]i  
,SyUr/D  
#LN I&5  
r;XQ i  
高级选项&信息 YDNqWP7s  
$&C(oh$:  
>Y/[zfI2  
ob] lCX)  
高级选项&信息 6oP{P_Pxi  
da2[   
]v{fFmL  
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在探测器位置处的备注 [Kj:~~`T   
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 reA8=>b/  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 )R^Cqo'  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 @"I#b99  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） +hg\DqO^M  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 j>o +}p?3I  
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文件信息 KCk?)Qv  
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QQ：2987619807 &{ {DS