[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 6(uK5eD(!n  
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光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 ;>duY\$<  
HX77XTy  
 DlWnz-  
}+fMYgw  
该用例展示了… 8~>5k  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： l].Gz`L
 
倾斜光栅介质 L| uoFG{  
体光栅介质 NY`$D}Bi  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 udV.$N  
5}uH;E)4  
*$I5_A8,.  
"X }@VT=  
光栅工具箱初始化 :7w^2/ZGo  
}yfSF|\  
[o0Z;}fU  
 初始化 Gw5j6  
开始-> jeM/8~^4-  
光栅-> ^}gQh#  
通用光栅光路图 nf7l}^/UE  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 "XEKoeG{  
光栅结构设置 $]Vvu{  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 w,t>M_(N  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 Sf2pU!5n^  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 ]}~[2k.  
&GC`4!H  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 g0P^O@8  
&F*L=Ng  
堆栈编辑器 Ie[8Iot?bn  
LyRU2A  
1,tM  
5gPcsn"D  
堆栈编辑器 MMZdF{5@G  
K9#=@}!3L  
=X0"!y"  
涂层倾斜光栅介质 i9qn_/<c  
\UdHN=A&  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 CO`%eL~  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 X5|<qu  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 SOq{`~,4B  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） \m3;<A/3n  
cZ@z]LY.g  
 f:_\S  
5w\>Whbd  
涂层倾斜光栅介质 }E\ b_.  
bvf}r ,`Q7  
cBl F  
RGw=!0V  
涂层倾斜光栅介质 GvL)SVv?  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 \BV$p2m5-  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 NDJIaX:]  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 P,2FH2Eyj  
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7>Af"1$g  
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7_2  
涂层倾斜光栅介质参数 yA8e"$  
x-Kq=LFy.  
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t {uG  
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涂层倾斜光栅介质参数 CnJrJ>l  
hP=^JH  
:|s!_G<  
w"Q6'/P  
高级选项&信息 D;pfogK @  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 ^^u{W|'CaH  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 -'j_JJ  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 :N\j@yJK  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 woctnT%"Q/  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 a@E+/9  
7X h'VOljB  
x<m{B@3T  
x
Q[~ c1  
高级选项&信息 H
h_Yd)  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 }
klET   
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 i@=0fHiZQ  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 bbDl?m&bq  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 _vQtV]  
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3D)gy9T&l  
高级选项&信息 >vDa`|g  
:^c' P<HM  
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)20jZm*  
高级选项&信息 *hhPCYOm  
9] i$`y  
,_STt)  
'W!N1W@  
体光栅介质 T6gugDQ~.  
Q\pTyNAYn  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 V Ae@P  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 1o&]=(  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 RTPxAp+\5  
-dCM eC  
Q&zEa0^rG6  
DB1GW,  
体光栅介质参数 D(EY"s37  
&d"c6il[  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 >k:BG{$Kae  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 {fwA=J9%KS  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 ]g#ur@Y%  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） i%1ny`Q  
^Z?X\t  
PNm WZW*  
gk"0r\Eq  
体光栅介质参数 K+9oV[DMs  
]2^tV.^S^  
7+I%0U}m  
wz!a;]agg  
高级选项&信息 0*G5Vd  
}LXS!Ff:  
aNZJs<3;'D  
BXNt@%  
高级选项&信息 ds@w=~  
I)wjTTM5  
Kd2?9gaw  
")J\} $r  
在探测器位置处的备注 RYU(z;+0p  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 qo1eHn4  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 d>ltL`xn  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 [;bZQ6JR  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） kbqG)
 
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 e-$U .cx  
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]SNA2?q  
P3w]PG@  
文件信息 A=Au>"nAA  
Gp=X1 F  
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QQ：2987619807 U) tqo_