[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 XnB-1{a1  
Lj1>X2.gD  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 KeWIC,kq  
P,)\#([vc  
|XJ|vQGU  
|N0RBa4%  
该用例展示了… x{3q'2  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： *
0z'!m12  
倾斜光栅介质 MPMAFs  
体光栅介质 /\U:F  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 fJ;1ii~  
|u.3Tp|3W  
(H-kWT  
O)INM  
光栅工具箱初始化 ztC>*SX  
0}
q*s!  
WQv`%%G2>  
 初始化 toel!+  
开始-> ~8EzK_c  
光栅-> P9M. J^<  
通用光栅光路图 6*s:I&  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 V82hk0*j  
光栅结构设置 |3Bmsd/3  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 aK--D2@}i  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 q{pa _  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 is`~C  
+0M0g_sk  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 qcoTt~\  
S'=}eeG  
堆栈编辑器 Svm'ds7>  
w~>tpkUB  
iu QMVtv  
3ZhuC".c  
堆栈编辑器 v_,'NA0  
MLN+ BuS  
} ^WmCX2a  
涂层倾斜光栅介质 ;]_h")4"c  
BO'7c1FU  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 RU% 4~WC  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 2I{kLN1TY  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 |D1TSv}rZD  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） ;Mz7emt  
kNoS% ?1,  
%jxeh.B3B  
=$#=w?~%  
涂层倾斜光栅介质 <P#:dS%r  
g])iU9)8  
r?HbApV P  
5?|yYQM0tK  
涂层倾斜光栅介质 B:(a?X-7  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 u
nt{RVR%  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 wpcqgc  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 R+tQvxp#  
w/@ tH  
]p8<Vluv  
URj2 evYW  
涂层倾斜光栅介质参数 uuYeXI;  
["15~9
  
l]S%k&  
d bHxc@H  
涂层倾斜光栅介质参数 f'OcW*t  
?4#wVzuzA  
!H~PF*,hY  

UHX,s  
高级选项&信息 ?P(U/DS8  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 ~$m:j];  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 z~#d@c\  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 ;jFUtG  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 }B&+KO)  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 "-g5$v$de  
R[}fr36>/  
G x{G}9  
{g
I%-  
高级选项&信息 ebhV;Q.  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 t]8nRZ1  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 'k/:3?R  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 `Af5%m
[  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 r;GAQH}j_  
L@`:mK+;  
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(= Wu5H  
高级选项&信息 hQaa"U7[  
hpo*5Va  
QI`&N(n  
-lb%X3`  
高级选项&信息
J9lG0  
a|Wrc)UR  
yv\ j&B|  
ICzcV };$  
体光栅介质 {~ 1 ~V  
rs,:pU  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 Vsd4;  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 -=)+)9~G  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 Ted!*HKlB  
)p[Qj58  
SyIi*dH  
 jRhRw;  
体光栅介质参数 ESnir6HoU  
zin'&G>l  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 VN]j*$5   
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 ~z7
Fz"o<  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 Vw5Pgtx  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） OZ}o||/Rc  
rS_pv=0S  
3W}qNY;J  
HjZf3VwI  
体光栅介质参数 'W/AYF^5  
Nzl`mx16  
:a_MT  
vWjHHw  
高级选项&信息 @^nE^;  
;R^=($X  
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高级选项&信息 fnK H<  
5E}!TL$  
tLM/STb6  
)npvy>C'(  
在探测器位置处的备注 |v:fP;zc  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 )zu m.6pT  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 51`*VR]`K  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 bM"d$tl$?'  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） U[NQ"  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 >[4CQK`U  
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文件信息 s(y=u>  
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QQ：2987619807 9''x'E=|