[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 de1cl<  
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光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 1fm4:xHH  
Q^prHn*@  
Q@?8-  
C]414Ibi  
该用例展示了… < aJl i   
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： x? tC2L  
倾斜光栅介质 _8A  
体光栅介质 !iA3\
Ai"  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 Z<L}ur  
rR]U Ff  
N;4bEcWjp  
p.6C.2q~s]  
光栅工具箱初始化 rV84?75(Y  
)12.W=p  
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;Tdqv!Ju  
 初始化 H xs'VK*  
开始-> ]xC#XYE:dy  
光栅-> WJWi'
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通用光栅光路图 .7&V@A7  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 s|F}Ab
x,^  
光栅结构设置 E@ J/_l;  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 Rd'P\  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 "@^Pb$BLY  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 EQI9J#;+  
K+MSjQS"
 
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 Q2yD4>qy  
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堆栈编辑器 -]el_:H  
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堆栈编辑器 6&|hpp#[  
XSk*w'xO  
m%zo? e  
涂层倾斜光栅介质 ICck 0S!  
RO+ jVY~H-  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 ]%M&pc3U  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 qm^|7m^  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 %,T=|
5  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） n(I,pF  
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-t]3 gCLb  
Q$+6f,m#W  
涂层倾斜光栅介质 fGZ56eH:  
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mtU{d^B  
Z8C~o)n9  
涂层倾斜光栅介质 }NjZfBQW`  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 ]K?;XA3dZ  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 %xt;&HE  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 :HW| m
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涂层倾斜光栅介质参数 Az7 ]qb  
a\m_Q{:  
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涂层倾斜光栅介质参数 XHU\;TF  
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YMN=1Zuj?  
M*!WXQlud  
高级选项&信息 :V3z`}Rl  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 nw4I<Q  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 l1bkhA b  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 :Kmn
wYm  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 44NMof8N  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 HQvJ*U4++  
GO?hB4 9T  
xi51,y+(5  
3CzF@t;5  
高级选项&信息 lihIPMU  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 +GJPj(S  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 m"@o  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 0~~yYo&  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 Rk,'ujc  
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高级选项&信息 i;rcgd  
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高级选项&信息 @R-11wP)M  
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体光栅介质 UX+vU@Co[  
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 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 VKkvf"X  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 Q^;:
Kl.b  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 IyI0|&r2A  
0-~s0R89A  
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体光栅介质参数 pdB\D  
HKr}"`I.  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 iO&*WIbg  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 xP_/5N=f  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 O wuc9  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） #}Yrxf  
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"={*0P  
体光栅介质参数 PtYG%/s  
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高级选项&信息 y>.t[*zT  
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高级选项&信息 
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在探测器位置处的备注 ^D5Jqh)
 
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 (8aj`> y  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 #M{qMJHDo  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 `3i<jZMG  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） ,cL;,YN  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 )l$}plT4  
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文件信息 y] c1x=x  
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QQ：2987619807 S\h5 D2G;