[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 YWK0.F,8a  
ZLT?G  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 %6320 x  
\R<MQ# x  
(<eLj Q  
k~
8-Eu1  
该用例展示了… PaI\y!f  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： ->b5"{t  
倾斜光栅介质 ksv]  
体光栅介质 Vc(4d-d5  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 o1ZVEvp  
09-8Xzz  
|Gf<Ql_.4  
<{kPa_`'  
光栅工具箱初始化 >J7slDRo  
}ssV"5M  
YRlfU5  
 初始化 B-MS@<2  
开始-> {$z54nvw$  
光栅-> 2R&\qZ<  
通用光栅光路图 !i;6!w  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 m !*F5x  
光栅结构设置 N:<$]x>  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 0V
1GX~2  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 ,ErfTg&^  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 1,wcf,  
V'&;r'#O  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 eM<N?9s  
Y)1/fEM  
堆栈编辑器 61S;M8tNv  
e'K~WNT  
INN}xZ  
u}iuf_  
堆栈编辑器 (bb!VVA  
vha9,5_  
oVvA`}  
涂层倾斜光栅介质 wb$uq/|  
CeYhn\m5K0  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 |UB$^)Twb  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 +K1M&(  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 :0r,.)  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） ,.<mj !YE  
;ek*2Lh  
CPOHqK`k  
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涂层倾斜光栅介质 {XOl &  
v$]B;;[A  
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sLr47 NC  
涂层倾斜光栅介质 ^lHy)!&A  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 B7 s{yb  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 ]>X_E%`G<b  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 e(t}$Q=  
Tvx1+0Z%z  
~&<#H+O  
*BsK6iVb  
涂层倾斜光栅介质参数 -uYxc=4Lh  
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0fOhCxtL@  
l!tR
<$|  
涂层倾斜光栅介质参数 17s~mqy  
{srP3ll P  
(uC8M,I\  
!eF(WbU0  
高级选项&信息 @"7S$@cO  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 b}
K,wAx  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 *5fe
B#  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 h5P_kZJ  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 9+@h2"|N4*  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够  
QHNyH  
1&dtq,|N  
,CqWm9  
/s4~Ij`be  
高级选项&信息 RDdnOzx  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 GL n M1  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 P{o)Ir8Tt  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 U,#~9  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 ;5tOQ&p%v  
`\UY5n72  
Bv<gVt  
L8`v  
高级选项&信息 ,:t,$A  
^^b'tP1>  
4#IT" i  
Lwl1ta-  
高级选项&信息 dxX`\{E  
G[k3`  
H,(vTthd  
`Z;Z^c  
体光栅介质 c""&He4zp  
Q!+AiSTU  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 h&'|^;FM  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 aC,adNub  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 Skt-5S#  
/PwiZA3sA  
!UoA6C:  
gv`_+E{P  
体光栅介质参数 Py;5z  
l2Sar1~1  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 roQI;gq^  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 .y s_'F-]0  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 E f\|3D_  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） |]< 3cW+  
2d.$V,U<  
CP7Fe{P  
m!xv
WqY+  
体光栅介质参数 >?@5>wF  
;^ME  
uyYV_Q0~;  
H7+"BWc  
高级选项&信息 Q5ASN"_  
dL0Q8d\^T  
 FSMM  
H\>{<`sD;f  
高级选项&信息 <odi>!ViH  
FOG{dio  
T1d@=&0
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)V1xL_hx/  
在探测器位置处的备注 d'';0[W)  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 9Vt ^q%DC  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 G=cRdiy`C  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 FsE
D9+/m  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） PLz{EQ[cV  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 ZO%^r%~s  
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文件信息 sx#O3*'>1  
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