[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 MG<F.u  
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光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 i4JqU\((]  
QI.{M$,m~  
{D 9m//x  
x?y)a9&Hm  
该用例展示了… h/mmV:v  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： w0q.cj@nd  
倾斜光栅介质 v&(PM{3o  
体光栅介质 V80g+)|  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 T:q!>"5  
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7%b?[}y4  
光栅工具箱初始化 \U\ W Q  
~C\R!DN,  
Q~MV0<{  
 初始化 ZQlja  
开始-> [z5pqd-  
光栅-> /2Y t\=S=  
通用光栅光路图 wi|'pKG  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 ]p:s5Q  
光栅结构设置 9o@5:.b<j  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 x_GD  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 #/=s74.b  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 b MZ-{<+i  
om@GH0
o+  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 BGh1hyJ8d  
u!S^lV@  
堆栈编辑器 w@ALl#z;}  
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LZG?M|(6D  
H$bu*o-Z  
堆栈编辑器 Oi+9kk e  
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涂层倾斜光栅介质 V+G.TI P  
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 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 _r@ FWUZ  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 He @d~9M  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 `@!4#3H  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） `!V=~"ve  
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涂层倾斜光栅介质 }#]2u|G  
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涂层倾斜光栅介质 O~D>F*_^j  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 "jS@ug  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 cih[A2lp  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 xvn@zi  
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涂层倾斜光栅介质参数 StZ GKY[Q  
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涂层倾斜光栅介质参数 \zOo[/-<  
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高级选项&信息 p8gm=  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 ,cj531.  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 ,, S]_S  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 "L ,)4v/J  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 :qlc
N@_  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 DD$YMM  
J[0o6  
}[2  
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高级选项&信息 uUmkk  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 q%&JAX=  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 KNvvYwFH]  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息
=*2_B~`  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 q)N]*~  
A?)nLp&Y  
qK=uSLo\+  
ou V%*<Ki  
高级选项&信息 >`{B  
GQ-fEIi{  
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' v)@K0P  
高级选项&信息 , yd]R4M  
}Zuk}Og9+  
"2m (*+  
8_*31Y   
体光栅介质 |!Ryl}Oi  
~(v7:?  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 .R";2f3  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 Gn?NY}.S  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 \mo NpKf  
rg5ZxN|g  
u$M,&Om  
Mn>/\e  
体光栅介质参数 nXRT%[o&  
qp##>c31X  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 _ZMAlC*$G  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 s^\ *jZ6  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 HP,sNiw  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） C srxi'Pe  
@yImR+^.7  
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#];b+ T  
体光栅介质参数 od=x?uBVd  
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高级选项&信息 #Ch*a.tI@  
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高级选项&信息
R`HC EX)  
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在探测器位置处的备注 gJFx#s0?6.  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 |O';$a1S  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 3xX^pjk  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 p[^a4E_v  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） 1OI/,y8}  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 Tb!Fv W  

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文件信息 A||,|He~  
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QQ：2987619807 I6e[K(7NY