[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 FtT+Q$q=  
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光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 ;g7nG{  
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该用例展示了… {BDp`uZ  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： { ~FYiX  
倾斜光栅介质 8xZN4ck_@  
体光栅介质 @va)j   
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 &3'II:x(  
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pX*Oc6.0mu  
光栅工具箱初始化 7[ *,t  
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VctAQ|h^  
 初始化 iVREkZ2SC  
开始-> %dKUB4  
光栅-> TBvv(_  
通用光栅光路图 `4gm'C  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 6ZR'1_i6i=  
光栅结构设置 9=K=gfZ  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 }I9\=jT  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 l%rwJLN1  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 CXb)k.L  
a<rk'4,8a  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 f'TdYG  
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堆栈编辑器 X-e)w  
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-_4U+Cfmtl  
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堆栈编辑器 d {T3  
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涂层倾斜光栅介质 AFF7fK  
Wu,'S;>C  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 ZS4lb=)G  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 .3t[M0sd  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 BOoLs(p  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） '&xv)tno  
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L/_OgL]YdI  
GBGGV#_q'}  
涂层倾斜光栅介质 bN8GRK )  
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涂层倾斜光栅介质 pBG(%3PpW  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 }`{aeVHT  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 {r#2X1  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 FQ*4?D,A  
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涂层倾斜光栅介质参数 ,q]Wi#  
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涂层倾斜光栅介质参数 :[ F`tDL  
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高级选项&信息 T9osueh4  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 =cs;avtL  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 K{%}kUj>  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 ^
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 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 s/ibj@h  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 <]r.wn=}M  
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高级选项&信息 x0
0"d$!  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 WoHFt*e2  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 ;;pxI5  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 snT!3t  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 k6_RJ8I  
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高级选项&信息 >wS52ng  
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高级选项&信息 *A':^vgk  
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体光栅介质 br*L|s\P\9  
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 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 x_CB'Rr6  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 -yHVydu=  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 TBHIcX
 
X[\b!<C
 
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ER~m &JI  
体光栅介质参数 <*E{zr&  
n*(Vf'k  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 |v#N  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 p:U9#(v)  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 #80DM  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） $p30?\  
S^? @vj  
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体光栅介质参数 -H5n>j0!{  
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高级选项&信息
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高级选项&信息 y Dg  
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在探测器位置处的备注 Oaf!\z}  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 zc>/1>?M  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 e@"1W  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 ,R]hNjs-{  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） 0i/l2&x*k]  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 p!BZTwP  
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文件信息
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QQ：2987619807 :bFCnV`Q