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摘要 -jVaS wt JEsLF{ 光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 bR'mV-2' M20Bc,VI
}(ma__Ao NT@YLhs? 该用例展示了… B.YMP;7> 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: wHtJ_Y 倾斜光栅介质 GOf`Z'\xt 体光栅介质 rv}mD 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 feI./E ;+i'0$;*w \TbsoWX n5v' 光栅工具箱初始化 K$GRJ M@~~f
#v4LoNm 初始化 zLsb`)! 开始-> V06CCy8n 光栅-> :xFu_%7 通用光栅光路图 }!%JYG^!D 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 S9G+#[.| 光栅结构设置 :K~rvv\L7 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 vZ$U^>": 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 FxCZRo& 堆栈可以固定到基底的一边或两边 q^a|wTC ](W5.a,-$L 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 qKdS7SoS +VCo$o 堆栈编辑器 , 3X: ) M18qa,fK{ NunV8atn: >Mvka;T] 堆栈编辑器 <4bz/^ qoj^_s6 EntF@ln! 涂层倾斜光栅介质 :dP~.ZY7 e~{^oM 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 _eJXi, 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 U4>O\sU 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 LY]nl3{E 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) `)R?nVb J["H[T*
.'|mY$U~] d0(Cn}m"c 涂层倾斜光栅介质 vSOT*0r 6M ^IwE ^0^(
u M[, D * 涂层倾斜光栅介质 8|O=/m^] 堆栈周期允许控制整个配置的周期 A1^Ga5 B> 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 'p%=<0vrr 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 d%0+i/p Q48+O?&
lT.zNhz:d9 &lAQ & 涂层倾斜光栅介质参数 c=6ahX}d ,c>N}*6h=W
)QmGsU}? 5m4DS:& 涂层倾斜光栅介质参数 3{"byfO#% !
ja[4. x97L6! 9)`amhf> 高级选项&信息 x(8n
9Q> 在传输菜单中,多个高级选项可用 OifvUTl9b 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 Y\xUT>(J7 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 St@l]u9 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 !X|k"km" 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 fb.J$fX e,HMwD 7^$)VBQ/ bd!U)b(}OV 高级选项&信息 5IW8=$k~.) 高级选项标签提供了结构分解的信息 DkgUvn/S 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 1dFa@<5 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 <l$P&jSF3 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 yGTziv! 8eluO ?p
-v+&pG?m 0GZq`a7[ 高级选项&信息 fkjeR
B DG(%-w8p"
%_MEfuL 22
&'@C> 高级选项&信息 o}8I_o&]U dC.bt|#Oz { p;shs5 *5k+t 体光栅介质 ^~$\ g] lCJ6Ur; 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 i?>tgmu. 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 3J~0O2 同时,两个平面界面作为介质的边界 y6-XHeU %MZP)k,&U g #
S0V }#1/fok 体光栅介质参数 n[,XU|2 T%$jWndI 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 Fv8f+)k)Z~ 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 #(KDjnP[ 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 k?*KnfVh! 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) w##^}nHOR >oGiIYq u.,Q4u|! 6cz/n8Mg 体光栅介质参数 +D&Pp0xe ^{F_a ! zL1;d eF~dQ4RZ 高级选项&信息 =2Cj,[$ X(@uwX$m m&*JMA;^ I9?Ec6a_ 高级选项&信息 Fh8lmOL;? w(9*7pp
;"kaF! t$J.+}}I 在探测器位置处的备注 T 2F6)e 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 %Ip*Kq- 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 W/fuKGZi_ 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 y7/F_{ 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) "ZrOrdlg+A 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 .iG&Lw\, S<`I
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,ho3 ~q+hV+fa> 文件信息 Ts.wh>` E&`Nh5JfC G2Vv i[c C0jj(ku& K2{aNvR)t QQ:2987619807 xtfBfA
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