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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    离线infotek
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 -jVaS w t  
    JEsLF{  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 bR'mV-2'  
    M 20Bc,VI  
    }(ma__Ao  
    NT@YLhs?  
    该用例展示了… B.YMP;7>  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: wHt J_Y  
    倾斜光栅介质 GOf`Z'\xt  
    体光栅介质 rv}mD  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 feI./E  
    ;+i'0$;*w  
    \TbsoWX  
    n5v'  
    光栅工具箱初始化 K$GRJ  
    M@~~f   
    #v4LoNm  
     初始化 zLsb`)!  
    开始-> V06CCy8n  
    光栅-> :xFu_%7  
    通用光栅光路图 }!%JYG^!D  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 S9 G+#[.|  
    光栅结构设置 :K~rvv\L7  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 vZ$U^>":  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 FxCZRo&  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 q^ a|wTC  
    ](W5.a,-$L  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 qKdS7SoS  
    +VCo$o  
    堆栈编辑器 , 3X: )  
    M18qa,fK{  
    NunV8atn:  
    >Mvka;T]  
    堆栈编辑器 <4bz/^  
    qoj^_s6  
    EntF@ln!  
    涂层倾斜光栅介质 :dP~.ZY7  
    e~{^oM  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 _eJXi,  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 U4>O\sU  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 LY]nl3{E  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) `)R?nV b   
    J["H[T*  
    .'|mY$U~]  
    d0(Cn}m"c  
    涂层倾斜光栅介质 vSOT*0r  
    6M ^IwE  
    ^0^( u  
    M[, D  *  
    涂层倾斜光栅介质 8|O=/m^]  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 A1^Ga5 B>  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 'p%= <0vrr  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 d%0+i/p  
    Q48+O?&  
    lT.zNhz:d9  
    &lAQ &  
    涂层倾斜光栅介质参数 c=6ahX}d  
    ,c>N}*6h=W  
    )QmGsU}?  
    5m4DS:&  
    涂层倾斜光栅介质参数 3{"byfO#%  
    ! ja[ 4.  
    x97L6!  
    9)`amhf>  
    高级选项&信息 x(8n 9Q>  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 OifvUTl9b  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 Y\xUT>(J7  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 St@l]u9  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 !X|k"km"  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 fb .J$fX  
    e,HMwD  
    7^$)VBQ/  
    bd!U)b(}OV  
    高级选项&信息 5IW8=$k~.)  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 DkgUvn/S  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 1dFa@<5  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 <l$P&jSF3  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 yGTziv!  
    8eluO ?p  
    -v+&pG?m  
    0GZq`a7[  
    高级选项&信息 fkjeR B  
    DG(%-w8p"  
    %_MEfuL  
    22 &'@C>  
    高级选项&信息 o}8I_o&]U  
    dC.bt|#Oz  
    { p;shs5  
    *5k+t  
    体光栅介质 ^~$\ g]  
    lCJ6Ur;  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 i?>tgmu.  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 3J~0O2  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 y6-XHeU  
    %MZP)k,&U  
    g # S0V  
    }#1/fok  
    体光栅介质参数 n[,XU|2  
    T%$jWndI  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 Fv8f+)k)Z~  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 #(KDjnP[  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 k?*KnfVh!  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) w##^}nHOR  
    >oGiIYq  
    u.,Q4u|!  
    6cz/n8Mg  
    体光栅介质参数 +D&Pp0xe  
    ^{F_ a  
    ! zL1;d  
    eF~dQ4RZ  
    高级选项&信息 =2Cj,[$  
    X(@uwX$m  
    m&*JMA;^  
    I9?Ec6a_  
    高级选项&信息 Fh8lmOL;?  
    w(9*7pp  
    ;"kaF!  
    t$J.+}}I  
    在探测器位置处的备注 T 2F6)e  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 %Ip*Kq-  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 W/fuKGZi_  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 y7/F _{  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) "ZrOrdlg+A  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 .iG&Lw\,  
    S<`I Jpkv  
    ,ho3  
    ~q+hV+fa>  
    文件信息 Ts.wh>`  
    E&`Nh5JfC  
    G2Vv i[c  
    C0jj(ku&  
    K2{aNv R)t  
    QQ:2987619807 xtfBfA  
     
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