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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 Rp%\`'+Xz  
    />2$ XwP  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 x#e\ H F  
    5z(>4d!  
    x8rFMR#S=  
    4Z T  
    建模任务 .Zo9^0`C  
    __zu- !v  
    e#eO`bT  
    概观 Kg0\Pvg8?T  
    {msB+n~WZ  
    q$2taG}  
    光线追迹仿真 ~JmxW;|_x)  
    M(]|}%  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 /wRK[i  
    ALt";8Oa  
    •点击Go！ WZ V*J&  
    •获得3D光线追迹结果。 #uw*8&%0  
    Y;5^w=V  
     nF[eb{GR`  
    w!h{P38  
    光线追迹仿真 rJ~(Xu>,s  
    Kmf-l*7}  
    _<~Vxz9  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 )Jjw}}$}Y  
    •单击Go！ #FDu 4xi  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     {ZYCnS&?CL  
    l0bT_?LhK  
    zmS-s\$,  
    b({b5z.A  
    场追迹仿真 g$+O<a@n  
    8lb `   
    21k-ob1Y  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 (8X8<>w~  
    •单击Go！     KUn5S&eB  
    Vm8_ !$F  
    op{(mn  
    l|QFNW[i  
    场追迹结果（摄像机探测器） L=Jk"qWV0  
     YG+ Yb{^"  
    \Nn%*?f  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 (Jr;:[4XC  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 =]k_Oq-1h  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 E|}Nj}(*  
    }z 2-|"H  
    %;B'>$O  
     C xN@g'  
    场追迹结果（电磁场探测器） T`DlOi]Z_  
    .Zz7LG{  
    _)H+..=  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     Xg#([}b  
    U"G+su->e  
    Z#V\[  
    文件信息 J)& +y;.  
    4Lq]yUj  
     W@}5e-q)O  
    <iqyDPj  
     ?S7:KnU>K  
    QQ：2987619807 @G{DOxE*  
     
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