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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 Dk!;s8}*c  
     fWx %?J  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 cuO)cj]@e  
    SO #NWa<0|  
    ccc*"_45#  
    0,a;N%K-  
    建模任务  R\%&Q|  
    v)*/E'Cr*  
    Une,Y4{u  
    概观 p&SxR}h  
    W=fw*ro  
    |F }y6 gH  
    光线追迹仿真 uXX3IE[  
    TBN0uk  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ,GB~Cmc1<Q  
    zI5 #'<n  
    •点击Go！ 2sj[hI  
    •获得3D光线追迹结果。 4+ BWHV  
    :}\w2W E[  
     w-%V9]J1  
    WgxGx`Y)  
    光线追迹仿真 eSNwAExm  
    "@1e0`n Q  
    39p&M"Yo  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 #-xsAKi  
    •单击Go！ 9`P<|(  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     {sn RS)-  
    :.863_/  
    yrp5\k*{y  
    AJ_''%$I3:  
    场追迹仿真 k e'aSD  
    -nVQB146^  
    A"(XrL-pV  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 &cDLSnR  
    •单击Go！     qPEtMvL #  
    J#h2~Hz!  
    X]^FHYjhS  
    D=hy[sDBw  
    场追迹结果（摄像机探测器） y0!-].5UH  
     pCXceNFo  
    ]ZV.@% +  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 oy8L{8?  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ,/?7sHK-0  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 SG:Fn8  
    HeV6=&#  
    ~#z8Q{!O  
     =Q\z*.5j.  
    场追迹结果（电磁场探测器） dQX<X}  
    ZY_aE  
    %gK@ R3p  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     <gvuCydsh  
    :@mBSE/  
    ;WydXQ}Q^  
    文件信息 'R'P^  
    7R4sd  
     G@Ha t  
    5 )tDgm  
     m2%OX"#e  
    QQ：2987619807 e70#"~gt[  
     
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