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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 /#H P;>!n  
    >RAg63!`  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 , f$P[c  
    L-C^7[48=  
    c {%mi  
    }6/M5zF3  
    建模任务 ZL\^J8PRK  
    Kw" y#Ys]  
    X )tH23  
    概观 bS r"k  
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    *qy \%A  
    光线追迹仿真 #]tDxZ] 6  
    C9sU^ ]#F  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 _#:7S sJ  
    4^l9d  
    •点击Go! $S|+U}]C  
    •获得3D光线追迹结果。 wGKxT ap  
    >Wt@O\k  
    6{=U= *  
    vf{$2 rC  
    光线追迹仿真 &l1t5 !  
    `hkvxt  
    $jE<n/8  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 |<,qnf | -  
    •单击Go! 8xgBNQdPT  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    @Xl(A]w%!  
    'WP~-}(  
    yVmp,""a  
    WX?nq'nr  
    场追迹仿真 1bCE~,tD  
    \EVT*v=}/  
    /-[vC$B"  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 S W%>8  
    •单击Go!
    [+dCA  
    |kPgXq6  
    -EP1Rl`\  
    (l{8Ix s  
    场追迹结果(摄像机探测器) 04Zdg:[3-!  
    scH61Y8`  
    Y:TfD{Xgc  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Sc>mw   
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 }'eef"DJ9  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 49=pB,H;H  
    Q ^2dZXk~  
    uD=Kar  
    Rh^@1{yr  
    场追迹结果(电磁场探测器) M11\Di1  
    !?JZ^/u  
    @e3+Gs  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    2 {b/*w  
    M^:JhX{  
    r4SwvxhG  
    文件信息 B1 }-   
    qSr]d`7@  
    :k1?I'q%  
    q x)\{By  
    ^t4^gcoZ4Z  
    QQ:2987619807 #U`AK9rP_g  
     
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