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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 78'3&,+si  
    ?D M!=.]  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 `g'9)Xf4KT  
    x*_'uPo S  
    p?<T _9e  
    ];{CNDAL2  
    建模任务 yD^Q&1  
    U7xQ 5lph  
    ]E vK.ORy  
    概观 OLJ|gunA#  
    OYIH**?  
    |/RZGC4  
    光线追迹仿真 T;Ra/H  
    PAjH*5I A  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 y=e|W=<D&  
    <QRRD*\  
    •点击Go！ qAVZ&:#  
    •获得3D光线追迹结果。 JN<u4\e{-&  
    ^' b[#DG>F  
     d/I*$UC  
    qJJ~#W)  
    光线追迹仿真 *46hw(L  
    Ei\tn`I&  
    !-|{B3"6  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 >~* w  
    •单击Go！ ^14a[ta/'  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     -W"  w  
    T oK'Pd  
    $tca: b}Mk  
    }Lb[`H,}A  
    场追迹仿真 2u^/yl  
    a*UxRi8  
    b~EA&dc  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 4wx _@8  
    •单击Go！     %1PNP<3r0  
    D"GQlR  
    J*r%b+  
    v^Pjvv=  
    场追迹结果（摄像机探测器） uY$BZEuAZ  
     &/]g@^h9  
    C1SCV^#  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 -@G,Ry-\t  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Z/[ww8b.  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 OOX[xv!b  
    + Awo\;@,  
    ~e<h2/Xc  
     /UPe@  
    场追迹结果（电磁场探测器） ^q)s  
    S,2{^X  
    o" e]9{+<  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     qHra9yuSh  
    tFYo d#  
    xe!6Pgcb  
    文件信息 j21nh> d  
    /.%AE|0+X  
     ^,N=GZRWW  
    nkTu/)or  
     _|vY)4B 4U  
    QQ：2987619807 Q\[2BJo/  
     
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