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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 z G }?  
    S^@S%Eg  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 +d}E&=p_  
    3981ie  
     5^<h}u9  
    8H,4kY?Z  
    建模任务 ?lGG|9J\  
    C&LBr|  
    RcG0 8p.)  
    概观 'VyM{:8  
    vy2Q g  
    e1(Q(3  
    光线追迹仿真 x5`br.b  
    G'2#9<c*  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 :NHH Dl  
    \6n!3FLl  
    •点击Go！ S1 Z2_V  
    •获得3D光线追迹结果。 $E<Esf$  
    o+`6LKg;  
     .;y#  
    oF9 -&  
    光线追迹仿真 ]wT 7*( Y  
    Ac2(O6  
    N7'OPTKt&  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。  B[=(#W  
    •单击Go！ fH`P[^N  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     Wt)Drv{@ {  
    'j^xbikr  
    ~7~~S*EQ  
    F|Mi{5G%  
    场追迹仿真 /kL $4CA  
    UNijFGi  
    T2}FYVj?!g  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ,fK3ZC  
    •单击Go！     V/ cP4{L  
    3iw{SEY  
    TG}*5Z`  
    7g R@$(1Z  
    场追迹结果（摄像机探测器） 8N:owK  
     {x'GJtpb  
    ?)bS['^1)  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 rl9. ]~  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 0|R# Tb;Y  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 )jq?lw'&  
    0ye!R   
    J]m{ b09F  
     qB)"qFa  
    场追迹结果（电磁场探测器） d,8mY/S>w  
    $P1O>x>LIL  
    nz9DLAt  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     'V8N  
    zBO(`=|  
    h~C.VJWl  
    文件信息 XU+<?%u}z  
    )tCX y4  
     WL`9~S  
    dw.F5?j`b  
     nXjP x@  
    QQ：2987619807 SP|<Tny  
     
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