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摘要 /#H P;>!n >RAg63!` 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 ,f$P[c L-C^7[48= c {%mi }6/M5zF3 建模任务 ZL\^J8PRK Kw"y#Ys] X )tH23 概观 bS r"k \\#D!q* *qy \%A 光线追迹仿真 #]tDxZ]
6 C9sU^]#F •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 _#:7S
sJ 4^l 9d •点击Go! $S|+U}]C •获得3D光线追迹结果。 wGKxT
ap >Wt@O\k
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* vf{$2rC 光线追迹仿真 &l1t5 ! `hkvxt $jE<n/8 •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 |<,qnf| - •单击Go! 8xgBNQdPT •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 @Xl(A]w%! 'WP~-}( yVmp,""a WX?nq'nr 场追迹仿真 1bCE~,tD \EVT*v=}/ /-[vC$B" •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
S
W%>8 •单击Go! [+dCA |kPgXq6 -EP1Rl`\ (l{8Ixs 场追迹结果(摄像机探测器) 04Zdg:[3-! scH61Y8` Y:TfD{Xgc •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Sc>mw
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 }'eef"DJ9 Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 49=pB,H;H Q^2dZXk~
uD=Kar Rh^@1{yr 场追迹结果(电磁场探测器) M11\Di1 !?JZ^/u @e3+Gs •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 2{b/*w M^:JhX{
r4SwvxhG 文件信息 B1 }-
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:k1?I'q% q x)\{By ^t4^gcoZ4Z QQ:2987619807 #U`AK9rP_g
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