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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 VP4t~$"  
    Q]xW}5 /  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 6sy%KO*A  
    sW2LNE  
    na']{a 1K  
    >KY\Bx  
    建模任务 s*CKFEb#  
    xN"KSQpu  
    .%wEuqW=0  
    概观 H5RHA^p|  
    'v|2} T*  
    6 qKIz{;  
    光线追迹仿真 0v7;Z xD  
    4_.k Q"'DH  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 lIjHd#q-C  
    el|t6ZT*  
    •点击Go！ j|G-9E  
    •获得3D光线追迹结果。 , D1[}Lr=K  
    RO.(k!J .  
     g[M@  
    @B9|{[P  
    光线追迹仿真 LVEVCpp@  
    18A&[6"!  
    '*,4F'  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ''v1Pv-  
    •单击Go！ aY:(0en]&  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     }ZmdX^xB  
    hYd8}BvA  
    : m5u=:t  
    @J<B^_+Se  
    场追迹仿真 *Ra")(RnDK  
    &HXSO,@  
    fd,~Yj$R?  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 g?$9~/h :;  
    •单击Go！     ONGe/CEXT  
    }\0"gM  
    xY'g7<})$  
    % 9D@W*Z  
    场追迹结果（摄像机探测器） yX~[yH+Pn  
     >(*jbL]p  
    'j)eqoj  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 '9/kDkt!  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 twu6z5<!-=  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 "G,*Z0V5  
    bp$jD  
    <C>i~ <`d  
     ?0(B;[xEJ  
    场追迹结果（电磁场探测器） !>:tF,fcB  
    .-|O"H$  
    a,4g`?  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     UA8!?r-cR  
    >Qx#2x+  
    4B y-+C*  
    文件信息 0/gcSW b  
    IcoL/7k3  
     OWjZ)f/  
    /< :; ^B  
     F:@Ixk?E  
    QQ：2987619807 Na6z,TW  
     
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