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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 m8PB2h  
    VT7NWT J,  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 iP%=Wo.  
    U}0/V c26  
    Wd5t,8*8  
    EG.C2]Fi  
    建模任务 y)E2=JQA/  
    .Cus t  
    s- V$N  
    概观 [alXD_  
    5Z,lWp2A  
    fdG.=7`  
    光线追迹仿真 @ 1A_eF  
    ( `+Z'Y  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 Vgn1I(Gj4  
    fO>~V1  
    •点击Go！ Z5[:Zf?h7J  
    •获得3D光线追迹结果。 [;AcV73  
    F8Wq&X#r  
     Oha g%<1#  
    " G6j UTt  
    光线追迹仿真 *^Y0}?]qT  
    >pvg0Fh  
    }z+"3A|  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 hY 2PV7"[;  
    •单击Go！ n^02@Aw  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。      0QqzS  
    +yH~G9u(  
    F5MPy[  
    MjC%6%HI  
    场追迹仿真 <,4(3 >js  
    Jk`)`94 I  
    a&"*UJk<?  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 !F#aodM1N  
    •单击Go！     ;w(1Ydo  
    Ef!p:HBJ  
    O f@#VZ  
    _lv:"/3R  
    场追迹结果（摄像机探测器） /t)c fFM  
     ]UT|BE4v  
    *yq]  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 p3FnYz-V  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 O:tX0<6  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 UH-uU~  
    ]=VS~azZ5  
    eSNSnh]'  
     6H,=S`V]EK  
    场追迹结果（电磁场探测器） 0DVZRB  
    3,L3C9V'  
    .]s( c!{y  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     1 3 `0d  
    S5u#g`I]  
    {V% O4/  
    文件信息 g^$11  
    ,]_(-tyN|  
     G? gXK W  
    i6#]$B  
     6.h   
    QQ：2987619807 auTTvJ  
     
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