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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 ;0ap#6T  
    o(GXv3L  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 QFMR~6 ?  
    3 f=_F  
    9P;}P! W  
    P` Hxj> {  
    建模任务 @j*K|+X"  
    R57>z`;  
    DPCB=2E  
    概观 U~8;y'  
    U.]5UP:a  
    e 4-  
    光线追迹仿真 u~WBu|  
    *->2$uWP  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 iV#sMJN9  
    7kX;|NA1  
    •点击Go! q`1"]gy.  
    •获得3D光线追迹结果。 to-DXT.  
    "Sm'TZx  
    {nvF>  
    \*x'7c/qg  
    光线追迹仿真 ZfMDyS$.  
    f793yCiG  
    9e5XS\  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 ^n Gj 7b  
    •单击Go! v@m2c_,  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    ykAZP[^'  
    Y:f"Zx  
    kA c8[Hn  
    i7rO 5<  
    场追迹仿真 imb.CYS74  
    vndD#/lXq  
    @fz0-vT,  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 >|j8j:S[  
    •单击Go!
    :$k] ;  
    Bs?B\k=  
    UdGa#rcNW  
    fHFy5j0H  
    场追迹结果(摄像机探测器) ''p7!V?  
    J}zN]|bz  
    { $ a $m  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 X(r$OZ  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 %Z.!T  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 ,a6Oi=+>/U  
    G~. bi<(v  
    VbU*&{j  
     []L yu  
    场追迹结果(电磁场探测器) %DQ!#Nl*  
    xZE%Gf_U  
    "a T "o  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    ,$oz1,Q/  
    ?xTdL738  
    KtMD?  
    文件信息 #Y_v0.N  
    %^qf0d*  
    EJByYk   
    'Dx_n7&=  
    FfSKE  
    QQ:2987619807 yN/Uyhq  
     
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