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摘要 ;0ap#6 T o(GXv3L 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 QFMR~6 ? 3 f=_F 9P;}P!W P` Hxj> { 建模任务 @j*K|+X" R57>z`; DPCB=2E 概观 U~8;y' U.]5UP:a e 4- 光线追迹仿真 u~WBu| *->2$uWP •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 iV#sMJN9 7kX;|NA1 •点击Go! q`1"]gy. •获得3D光线追迹结果。 to-DXT. "Sm'TZx
{nvF> \*x'7c/qg 光线追迹仿真 ZfM DyS$. f793yCiG 9e5XS\ •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 ^n Gj 7b •单击Go! v@m2c_, •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 ykAZP[^' Y:f"Zx kAc8[Hn i7rO5< 场追迹仿真 imb.CYS74 vndD#/lXq @fz0-vT, •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 >|j8j:S[ •单击Go! :$k]; Bs?B\k= UdGa#rcNW fHFy5j0H 场追迹结果(摄像机探测器) ''p7!V? J}zN]|bz {$
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$m •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 X(r$OZ •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 %Z.!T Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 ,a6Oi=+>/U G~.bi<(v
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yu 场追迹结果(电磁场探测器) %DQ!#Nl* xZE%Gf_U "aT"o •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ,$oz1,Q/ ?xTdL738
KtMD? 文件信息 #Y_v0.N %^qf0d*
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