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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 =g/{%;  
    cU ? 0(z7  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 eAX )^q  
    x 8Retuv  
    -`<kCW"  
    hc~s"Atck  
    建模任务 {S,l_d+(  
    (ohq0Y  
    Y3r%B9~  
    概观 D _/^+H]1  
    Qi_>Mg`x  
    :/:.Kb  
    光线追迹仿真 #k_HN}B  
    !6s"]WvF  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 mocI&=EF2X  
    JAAI_gSR3  
    •点击Go！ _7IKzUn9g[  
    •获得3D光线追迹结果。 j{Hao\F8  
    4Fp0ZVT  
     G"X8}:}  
    la( <8  
    光线追迹仿真 =Vy`J)z9  
    _/Gczy4)#  
    D|rFu  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 xZ|Y ?R5m  
    •单击Go！ fRy^Q_~,  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     4AG\[f 8q  
    b7!Qn}  
    {.Z}5K  
    [|P!{?A43|  
    场追迹仿真 PH?#)l D  
    ?shIj;c[  
    w=j  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 I4i2+ *l}  
    •单击Go！     Gp4A.\7  
    58%#DX34M  
    >=UF-xk;  
    %CS@g.H=_  
    场追迹结果（摄像机探测器） S/Fkw4%  
     OR}c)|1  
    )\6&12rj  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 #{k|I$  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 cgl*t+o&  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 A81ls#is  
    p"l3e9&'j  
    i/~1F_  
     `}BF${vF  
    场追迹结果（电磁场探测器） oI}kH=<,  
    U f|> (C  
    jy giG&H  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     {?J/c{=/P  
    .A-]_98Z  
    F)s{PCl  
    文件信息 D8>enum  
    Z^]|o<.<I  
     $aN-Y?U%  
    ,WJH}(h"D  
     x~GQV^(l3  
    QQ：2987619807 yY[<0|o u  
     
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