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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 2SG$LIV 9Y  
    8P2 J2IU  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 2k5/SV X  
    F9flSeN  
    :a0zT#u  
    z|N3G E(.@  
    建模任务 l]6% lud8_  
    p2 %  
    BRv x[u  
    概观 x#H 3=YD*  
    ~*.-  
    rs;r $  
    光线追迹仿真 k'3Wt*i  
    xDLG=A%]z  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 _Z Y\,_  
    ae+*=,  
    •点击Go! z#6?8y2-  
    •获得3D光线追迹结果。  QLKK.]  
    l"+J c1\X  
    \6!W05[ Q  
    q3P+9/6  
    光线追迹仿真 ]$b2a&r9  
    ~nY]o"8D  
    z rfUQO  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 mUoIJ3fv_,  
    •单击Go! 3V<&|  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    Y.6SOu5$]  
    ~bK9R 0|<  
    {XCf-{a]~  
    g(4bBa9y  
    场追迹仿真 7'lZg<z{~j  
    `3_lI~=eH  
     aSutM  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 Ond'R'3\E  
    •单击Go!
    9jir* UI  
    !|Q5Zi;aX7  
    pY"O9x  
    ,  X{>  
    场追迹结果(摄像机探测器) L=; -x9  
    Cb;WZ3HR  
    9pKGr@&   
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 #]Y>KX2HG  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 F>hZ{   
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 q(M:QWA q  
    }hpm O-  
    u9qMqeF  
    ~ 5"JzT  
    场追迹结果(电磁场探测器) 2{|$T2?e  
    zg)sd1@  
    %3r:s`{  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    XzIx:J6  
    /iaf ^ >  
    5e8AmY8;  
    文件信息 q8P.,%   
    }iB|sl2J  
    [^YA=K hu  
    SkQswH  
    wf.T3  
    QQ:2987619807 BqK(DH^9N  
     
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