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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要  p|D-ez8  
    1JU1XQi  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 }m~2[5q%/  
    'e(`2  
    ;-koMD!2F  
    !%x=o&  
    建模任务 cO#e AQf7  
    2@(Qd3N(  
    ]qJ6#sAw75  
    概观 #z\{BtK  
    / !*gH1 s  
    Q\DD^Pbq  
    光线追迹仿真 ;b""N,  
    =m4_8)-8u  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 `2Buf8|a,  
    N2"4dVV;  
    •点击Go! @42!\1YT  
    •获得3D光线追迹结果。 QcQ:hHF  
    7b2N'^z}  
    o'3t(dyyH  
    ?`hk0qX3  
    光线追迹仿真 qR~s&SC#  
    K%: :  
    7]q$ sQ  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 %EuXL% B  
    •单击Go! p1=sDsLL  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    ql%>)k /x  
    eTc0u;{V  
    r"a4 ;&mf  
    x0])&':!  
    场追迹仿真 P^%.7C  
    0;-S){  
    [`^x;*C  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 $ V"~\h8  
    •单击Go!
    =W9;rQm  
    g5)f8k0+ t  
    '\:?FQ C  
    %$ ^yot  
    场追迹结果(摄像机探测器) ms=I lz  
    Riq5Au?*)  
    /tno`su;  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Z\E3i  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 `@{qnCNQ  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 m7 !Fb  
    A"V3g`dP  
    DVYY1!j<  
    n>X  
    场追迹结果(电磁场探测器) vm+EzmO,!  
    V%pdXM5  
    snTj!rV/_  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    t_YiF%}s&#  
    r4O*0Q_  
    ,vQkvuz  
    文件信息 #(@dN+  
    RIUJ20PfYQ  
    kImGSIJ  
    17G7r\iNYq  
    R|{6JsjG10  
    QQ:2987619807 3Gt'<E|"  
     
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