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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 ^.A*mMQ  
    2F2Hl   
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 :-RB< Lj  
    6l\5J6x  
    %5e|  
    ^*AI19w!Ys  
    建模任务 l|.}>SfL^u  
    |.)LZP,  
     {b!{~q  
    概观  ;+~5XLk  
    >M#@vIo?<6  
    w;,34qbf  
    光线追迹仿真 e0(/(E:  
    f\2IKpF2  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 GlJ[rD  
    v.]{b8RR  
    •点击Go！ ek&~A0k_o  
    •获得3D光线追迹结果。 Y#os6|MV#  
    X7$]qE K  
     Q+Bl1xl  
    P&Ke slk  
    光线追迹仿真 rn-bfzoDS  
    7Yg1z%%U  
    "AagTFs(i  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 5|rBb[  
    •单击Go！ 5len} ){  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     *tv&=  
    $UzSPhv[  
    Gi)Vr\Q.  
    ^os_j39N9  
    场追迹仿真 as@8L|i*  
    sRt7.fe  
    @V 'HX  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 %2:UsI  
    •单击Go！     ejd_ 85$  
    ,8384'  
    7L #)yY  
    %UI^+:C  
    场追迹结果（摄像机探测器） DQ8/]Z{H  
     d}O\:\}y  
    b|_e):V|  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 '#c#.O  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 `dm*vd  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 at?I @By  
    J?V$V >d  
    'u.Dt*.Uq  
     OP\jO DX  
    场追迹结果（电磁场探测器） {]6-,/3UR  
    Nk@-yZ@,8  
    ir6aV|ea!  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     $]LS!@ Rm  
    frcX'M}%  
    -L/%2 X  
    文件信息 +2{ f>KZ  
    B=]j=\o  
     }aOqoi7w  
    LZ)g&A(j?  
     UnDCC_ud  
    QQ：2987619807 s={>{,E  
     
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