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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 sK0VT"7K  
    %wW5)Y I  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 V^I /nuy  
    TEyx((SK  
    T''+zk  
    C-u/{CP  
    建模任务 NCnId}BT  
    =jc8=h[F<  
    -5 /v`  
    概观 X'7S|J6s  
    a~F@3Pd  
    _M[[vXH  
    光线追迹仿真 rs Uw(K^  
    rJZs 5g`  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 \.P}`Bpa  
    WWW#s gM%  
    •点击Go！ \Z20fh2  
    •获得3D光线追迹结果。 Gr$*t,ZW  
    M#]|$\v(  
     n/oipiYx  
    m}[~A@qD  
    光线追迹仿真 jne9=Als5  
    @:+n6  
    ](>7h _2B  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 )_*a7N!  
    •单击Go！ M |?p3%  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     .xkV#ol  
    BrH;(*H)8  
    CKt|c!3 7  
    VnSj:LUD  
    场追迹仿真 R P:F<`DB|  
    ?h)3S7  
    R``V Q  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 9id~NNr7  
    •单击Go！     QHs:=i~VH  
    0*Km}?;0-  
    ?ey&Un"  
    &lPBqw  
    场追迹结果（摄像机探测器） ]Uu(OI<)  
      n22hVw  
    Mj B< \g>  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 i\Pr3 7 "  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 2Cd --W+=  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 >}DjHLTW\  
    zz 'dg-F  
    '+!S|U,{  
     q"+ q  
    场追迹结果（电磁场探测器） nKjeH@&#  
    1%hM8:)i_  
    #i+P(xV  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     A_jB|<bjTP  
    < [S1_2b.t  
    N=Uc=I7C  
    文件信息 &@W4^- 9  
    E]H   
     l0caP(  
    #OD@q;  
     !q-:rW? c  
    QQ：2987619807 >2lAy:B5  
     
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