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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 B$=oU   
    C VXz>oM  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 (:(Im k;9  
    Yvi.l6JL  
    ABx< Ep6  
    V 4#bW  
    建模任务 ftb .CPWI  
    v}cTS@0  
    c-`'`L^J  
    概观 e/7rr~"|  
    <<FBT`Y[  
    Ub,5~I+`  
    光线追迹仿真 &@v&5EXOw  
    T'ko =k  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 &GfDo4$  
    ^P!(* k#T  
    •点击Go！ .](~dVp%~  
    •获得3D光线追迹结果。 &Z3u(Eb  
    +^6a$ N  
     wsKOafrV  
    +=Y[RCXT  
    光线追迹仿真 4)Bk:K  
    67tB8X  
    Q4Zw<IZv5  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 +s j2C  
    •单击Go！ zhC#<  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     LJgGX,Kp  
    *^3&Y@  
    ` t6|09e  
    )KdEl9o  
    场追迹仿真  "d; T1  
    qNuBK6E#4  
    uFUVcWt  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 d)WGI RUx  
    •单击Go！     S'_2o?fs  
     &*Z"r*  
    H3xMoSs  
    3j6Am{9  
    场追迹结果（摄像机探测器） $=9g,39  
     Yn_v'Os2  
    <~bvf A=  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ii5dTimRJ  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 f q&(&(|  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 @hF$qevX  
    ~]Weyb[ N  
    3E-dhSz:i  
     $xqX[ocor  
    场追迹结果（电磁场探测器） Krd0Gc~\|  
    3Viz0I<%  
    `yYYyB[  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     8zO;=R A7%  
    Tr.u'b(  
    {+^&7JX  
    文件信息 S*NeS#!v  
    s$Vz1B  
     ?~3Pydrb#  
    3rj7]:Vr  
     8\S$iGd  
    QQ：2987619807 ,UNnz&H+f  
     
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