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摘要 2SG$LIV 9Y 8P2 J2IU 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 2k5/SV
X F9flSeN :a0zT#u z|N3G E(.@ 建模任务 l]6%lud8_ p2% BRv x[u 概观 x#H
3=YD* ~*.- rs;r
$ 光线追迹仿真 k'3Wt*i xDLG=A%]z •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 _ZY\,_ ae+*=, •点击Go! z#6?8y2- •获得3D光线追迹结果。
QLKK.] l"+Jc1\ X
\6!W05[ Q q3P+9/6 光线追迹仿真 ]$b2a&r9 ~nY]o"8D z rfUQO •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 mUoIJ3fv_, •单击Go! 3V<&| •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 Y.6SOu5$] ~bK9R0|< {XCf-{a]~ g(4bBa9y 场追迹仿真 7'lZg<z{~j `3_lI~=eH aSutM •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 Ond'R'3 \E •单击Go! 9jir*UI !|Q5Zi;aX7 pY"O9x , X{> 场追迹结果(摄像机探测器) L=;
-x9 Cb;WZ3HR 9pKGr@ & •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 #]Y>KX2HG •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 F>hZ{ Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 q(M:QWA q }hpmO-
u9qMqeF ~ 5"JzT 场追迹结果(电磁场探测器) 2{|$T2?e zg)sd1@ %3r:s`{ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 XzIx:J6 /iaf ^
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5e8AmY8; 文件信息 q8P.,%
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[^YA=Khu SkQswH w f.T3 QQ:2987619807 BqK(DH^9N
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