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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 9h~>7VeZ)  
    })s s.  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 kGX`y.-[  
    )LH nDx  
    B4&x?-0ZC  
    >dZ x+7  
    建模任务 hv7!x=?8  
    /t ,ujTK  
    #CVD:p  
    概观 l<^#@SH  
    f'R^MX2  
    VU)ywIs  
    光线追迹仿真 QJ pUk%Wj  
    1kTJMtZG~  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 5/Swn9vwl  
    {v~&.|  
    •点击Go！ f,PFvT$5e  
    •获得3D光线追迹结果。 8M:;9a8fh  
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    &87D.Yy^  
    光线追迹仿真 ILTd*f  
    <[[DS%(M^  
    Px'%5TKN  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 g8}/Ln*W'  
    •单击Go！ b^^Cj(  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     8pt;''  
    [#uX{!q'  
    {"'W!WT b  
    hRGK W  
    场追迹仿真 <@5#  
    WihOGdUS6  
    bIe>j*VPh@  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 g"xLS}Al  
    •单击Go！     0XL x@FYn  
    (!{_O_&  
    ]?mWnEi!z  
    ZXHG2@E)  
    场追迹结果（摄像机探测器） 8R8J./i.K  
     A^%z;( 0p  
    OsvAm'B  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 D OPOzh  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 >0:h(,?V  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 BI,K?D&W-  
    kB"Sh_:m  
    az0( 54M  
     ~F>oNbJIv  
    场追迹结果（电磁场探测器） B>#zrCD  
    fy9{W@E3p  
    #j iQa"  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     VLu_SXlo*  
    M)Tv(7  
    Lg_y1Mu7o  
    文件信息 7Dom[f  
    `H ^Nc\P#  
     BxO2w1G  
    cd*y{Wt  
     XC0G5rtB  
    QQ：2987619807 -5kq9Dy\,  
     
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