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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 Rd5_{F  
    FV/t  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 PPr Pj^%z=  
    #Uu,yHMv:;  
    .JXEw%I@  
    ,1#? 0q  
    建模任务 BB\GrD  
    H8FvI"J  
    ]i$y;]f  
    概观 R`Z"ey@C  
    +tT"  
    d \l{tmte  
    光线追迹仿真 $3G^}A"  
    [ gMn  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 Z K+F<}  
    n@RmH>"  
    •点击Go！ Nw1*);b[y  
    •获得3D光线追迹结果。 z3K$gEve  
    kpIn_Ea  
     Sb/?<$>  
    HS/.H,X  
    光线追迹仿真 uBx\xeI  
    y>aO90wJ  
    Ee2P]4_d  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 $t):r@L  
    •单击Go！ B_Q{B|eEt&  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     6/mz., g2  
    fq6Obh=A#  
    eTvWkpK+  
    =wdh# {  
    场追迹仿真 0BlEt1e2T  
    7,+eG">0  
    W3tin3__  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 E5n7 <  
    •单击Go！     6I +0@,I  
    {x_.QWe5  
    E(4c&  
    a+cMXMf  
    场追迹结果（摄像机探测器） QIGUi,R  
     @/.# /  
    m6ge %  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 w~b:9_reY  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Q^Cm3|ZO  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Y0a[Lb0  
    ju{Y6XJ)  
    f[k#Znr  
     =#V^t$  
    场追迹结果（电磁场探测器） g %f5hy  
    OB(o OPH  
    -<s Gu9  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     1n8[fgz  
    Kd5'2"DI  
    ~i5YqH0  
    文件信息 kL*P 3 0  
    <u!cdYo@  
     u[b |QR=5  
    @=Q!a (g  
     mQ:{>`  
    QQ：2987619807 {=ox1+d  
     
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