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摘要 p|D-ez8 1JU1XQi 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 }m~2[5q%/ 'e(`2 ;-koMD!2F !%x=o& 建模任务 cO#e
AQf7 2@(Qd3N( ]qJ6#sAw75 概观 #z\{BtK /!*gH1s Q\DD^Pbq 光线追迹仿真 ;b""N, =m4_8)-8u •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 `2Buf8|a, N2"4dVV; •点击Go! @42!\1YT •获得3D光线追迹结果。 QcQ:hHF 7b2N'^z}
o'3t(dyyH ?`hk0q X3 光线追迹仿真 qR~s&SC# K%: : 7]q$sQ •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 %EuXL% B •单击Go! p1=sDsLL •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 ql%>)k /x eTc0u;{V r"a4;&mf x0])&':! 场追迹仿真 P^%.7C 0;-S){ [`^x;*C •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 $V"~\h8 •单击Go! =W9;rQm g5)f8k0+ t '\:?FQ
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^yot 场追迹结果(摄像机探测器) ms=Ilz Riq5Au?*) /tno`su; •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Z\E 3i •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 `@{qnCNQ Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 m7 !Fb
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DVYY1!j< n>X 场追迹结果(电磁场探测器) vm+EzmO,! V%pdXM5 snTj!rV/_ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 t_YiF%}s r4O*0Q_
,vQkvuz 文件信息 #(@dN+ RIUJ20PfYQ
kImGSIJ 17G7r\iNYq R|{6JsjG10 QQ:2987619807 3Gt'<E| "
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