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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 CUTjRWQ  
    m%eCTpYo  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 `Gxb98h/r  
    Jo qhmn$j  
    `tO t+>YWn  
    B]hRYU  
    建模任务 /qKor;x  
    rVhfj~Ts  
    `"'u mIz  
    概观 [V /f{y~ {  
    ;L",K?6#  
    D:K"J><@  
    光线追迹仿真 7H6Ge-u  
    KN@ [hb7%  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 M-;Mw Lx  
    3 P75:v  
    •点击Go! !iHC++D  
    •获得3D光线追迹结果。 kDJqT  
    Mx0~^l  
    .|DrXJ \c  
    Q<szH1-  
    光线追迹仿真 WJ8osWdLu  
    2xi; 13?  
    EGFP$nvq  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 :SwA) (1  
    •单击Go! ,6^Xn=o #  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    VNz? e&>  
    7uUq+dp  
    O.Te"=^"F  
    g>7i2  
    场追迹仿真 uDcs2^2l  
    D@5h$ m5  
    9A{D<h}yk  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 F&CvqPI  
    •单击Go!
    K)1Lg? j  
    Q|VBH5}1O  
    X16O9qsh  
    Nv0a]Am  
    场追迹结果(摄像机探测器) DIP%*b#l$\  
    fwx^?/5j  
    r.u\qPT&  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 5D-as9k*  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 J pj[.Sq  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 ~Sf'bj;(  
    sAjUX.c  
    e&A3=a~\s  
    4!3<[J;N;  
    场追迹结果(电磁场探测器) ]4')H;'y  
    N*PJ m6-  
    HdY#cVxy  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    0.PG]K6  
     D5Jg(-  
    4y4r;[@U  
    文件信息 W7.RA>  
    dB&<P[$+8  
    TZn5s~t  
    Zy)iNNtn  
    2w~Vb0  
    QQ:2987619807 DP*$@5  
     
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