-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-08-15
- 在线时间1834小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 CUTjRWQ m%eCTpYo 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 `Gxb98h/r Jo qhmn$j `tO t+>YWn B]hRYU 建模任务 /qKor;x
rVhfj~Ts `"'u
mIz 概观 [V
/f{y~{ ;L",K?6# D:K"J><@ 光线追迹仿真 7H6Ge-u KN@ [hb7% •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 M-;MwLx 3P75:v •点击Go! !iHC++D •获得3D光线追迹结果。 kDJqT Mx0~^l
.|DrXJ\c Q<szH1- 光线追迹仿真 WJ8osWdLu 2xi;13? EGFP$nvq •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 :SwA) (1 •单击Go! ,6^Xn=o # •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 VNz?e&> 7uUq+dp O.Te"=^"F g>7i2 场追迹仿真 uDcs2^2l D@5h$m5 9A{D<h}yk •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 F&CvqPI •单击Go! K)1Lg?j Q|VBH5}1O X16O9qsh Nv0a]Am 场追迹结果(摄像机探测器) DIP%*b#l$\ fwx^?/5j r.u\qPT& •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 5D-as9k* •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 J pj[.Sq Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 ~Sf'bj;( sAjUX.c
e&A3=a~\s 4!3<[J;N; 场追迹结果(电磁场探测器) ]4')H;'y N*PJ m6- HdY#cVxy •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 0.PG]K6 D5Jg(-
4y4r;[@U 文件信息 W7.RA> dB&<P[$+8
TZn5s~t Zy)iNNtn 2w~Vb0 QQ:2987619807 DP *$@5
|