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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 g $Y]{VM.J  
    G<-KwGy,D  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 aUZ?Ue9l>2  
    lqOpADLS3  
    _]o7iqtv  
    ai$l7]7  
    建模任务 ?wG  
    /!5ohQlPJ  
    hbJy<e1W  
    概观 DSRc4 |L  
    bT2c&VPCE  
    vw!7f|Pg ~  
    光线追迹仿真 ,= ApnNUgX  
    1gK^x^l*f  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 J' P:SC1  
    "r@#3T$  
    •点击Go！ fDns r" T  
    •获得3D光线追迹结果。 ~3j +hN8<  
    5A`>3w{3n  
     [>?|wQy>=  
    ^2Cqy%x-  
    光线追迹仿真 W?zj^y[w  
    :2c(.-[`  
    6Zn[l,\  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 cI8\d 4/py  
    •单击Go！ 8Gy]nD  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     P?>:YY53  
    0qFO+nC  
    Ne|CWUhO  
    A]0R?N9wb_  
    场追迹仿真 N*Q*>q  
    >g!$H}\  
    `;}qjm0a  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 k8st XW-w  
    •单击Go！     VO:  
    o'$-  
    | ;a$ l(~<  
    h!(# /  
    场追迹结果（摄像机探测器） .$cX:"_Mk  
     =3'B$PY  
    ;U?=YSHk7  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 wS|k3^OV%  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 K{I"2c  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 sYXLVJ>b  
    E.m2- P;4  
    THOYx :Nr;  
     OjffN'a+N  
    场追迹结果（电磁场探测器） \Kui`X  
    _X?_|!;J  
    J3aom,$o  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     63\ CE_p  
    Bj6%mI42hl  
    <Sd ef^  
    文件信息 <e 9d5-2  
    u8?$W%eW  
     m=h/A xW  
    =jm\8sl~~  
     Y]6d Yq{k  
    QQ：2987619807 ?Mo)&,__  
     
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