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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 >2>xr"  
    iT9cw`A^%  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ?CL1^N%  
    +apIp(E+  
    *b7 HtUA  
    MeP U`M--  
    建模任务 ,MOB+i(3*u  
    JL;H:`x  
    D95$  
    概观 R!}B^DVt  
    l_^>spF  
    gEU)UIJ  
    光线追迹仿真 |]r# IpVf  
    *M- .Vor?R  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 rv|k8  
    ^b>E_u  
    •点击Go！ 8*6J\FE<p  
    •获得3D光线追迹结果。 .$v]B xu  
    YVu8/D@ o  
     !i}G>*XH,  
    fa5($jJ&  
    光线追迹仿真 If!0w ;h  
    #8nF8J< 4  
    &\C vrxa  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 t'm]E2/  
    •单击Go！ !dVcnK1  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     K%Q^2"Eb0  
    [ .dNX  
    !v`q%JW(  
    0Xk;X1Xl  
    场追迹仿真 2Ni{wg"  
    C. 8>  
    9R.tkc|K  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 <JZ=K5  
    •单击Go！     ;;l(  
    #docBsHX&s  
    ( 7Y :3  
    (T'inNbJe  
    场追迹结果（摄像机探测器） YWq[)F@0G  
     r=@h}TKv{I  
    >|z=-hqPK  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 :Q\h'$C  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 o/=K:5  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 WYaDN:kZf  
    Hyee#fB  
    rR C3^X`u  
     L/<Up   
    场追迹结果（电磁场探测器） ]]d@jj  
    /=7|FtB`  
    cJE2z2uW0  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。      -U*XA  
    C: e}}8i  
    kN>d5q9b%X  
    文件信息 rZpc"<U  
    W"!nf  
     n]8_]0{qi  
    If4YqBG  
     wu 3uu1J  
    QQ：2987619807 =4Ex' %%(U  
     
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