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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 V2y[IeSQ  
    .K93VTzy  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ' 5Ieqpm9  
    q OXL(  
    sV+>(c-$  
    Z g'[.wov  
    建模任务 %kUJ:lg;d  
    \GWq0z&  
    C4G)anT  
    概观 O^<6`ku  
    +amvQ];?Q8  
    ;zOZu~Q|'  
    光线追迹仿真 vx4& ;2  
     qJK^i.e  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 +|0m6)J]  
    6%'{Cq1DE  
    •点击Go！ LNg1q1 P3  
    •获得3D光线追迹结果。 dqkkA/1  
    4 '+)9&g  
     RS:0xN\JN  
    )N=wJN1  
    光线追迹仿真 *\`C! r  
    hh?'tb{  
    -@73"w/  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Rsulp#['  
    •单击Go！ L"Gi~:z  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     V|D;7  
    y jpjJ  
    o O|^ [b#  
    s,}<5N]U  
    场追迹仿真 jmb\eOq+~V  
    .SsIU\[)  
    f&`*x t/  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 U!'lc} 5  
    •单击Go！     u1"e+4f  
    Uyh   
    r" D|1  
    lz*PNT{E  
    场追迹结果（摄像机探测器） Cjh&$aq  
     -`RJ k(  
    pqs)ueu  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 d.+vjMI  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 MPB6  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 4EpzCaEZ  
    Cam}:'a/`  
    Cb13Qz  
      Ntqc=z  
    场追迹结果（电磁场探测器） \w:u&6,0O  
    j\vK`.z  
    8x{vgx @M  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     J.&q[  
    OBl8kH(b>  
    B -KOf  
    文件信息 =j{jylC  
    e\dT~)c  
     \(C W?9)  
    `8-aHPF-  
     Yyo|W;a]  
    QQ：2987619807 EH3G|3^xz  
     
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