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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 !;>(i e\  
    . 9 LL+d  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 C4$/?,K(  
    GoE#Mxhxo  
    YDiN^q7  
    \Kd7dK9&]  
    建模任务 /hdf{4  
    S2$5!(P  
    nR8]@cC  
    概观 1a9w(X  
    n_$yV:MuT!  
    .R5/8VuHF  
    光线追迹仿真 =8{*@>CX  
    LCQkgRs}~{  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 =sQ(iso%f  
    ID8k/t!  
    •点击Go！ _g6m=N4  
    •获得3D光线追迹结果。 E!aq?`-'!  
    L2U x9_S  
     Xyv8LB  
    eX<K5K.B  
    光线追迹仿真 |l90g|isJ  
    Rlw9$/D!Z  
    R'EW7}&  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 sT<{SmBF  
    •单击Go！ =|y|P80w  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     o_ yRn16  
    B5Va%?Wg?H  
    f]}}yBte`  
    @;9()ad  
    场追迹仿真 "d?f:x3v^  
    v#=ayWgk  
    3.)_uo0;o  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ?~qC,N[  
    •单击Go！     L_*L`!vQA"  
    !b%,'fy)  
    11*"d#  
    u[t>Tg2R  
    场追迹结果（摄像机探测器） Tcs3>lJ}   
     P $h;SK  
    ChIoR:y>  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 z\[(g  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 hCLk#_  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 a R#Cot  
    #v qz{R~nM  
    fI[dhd6  
     $i&\\QNn  
    场追迹结果（电磁场探测器） sM9- 0A  
    CTU9~~Xk  
    'aPCb`^;w  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     --/-D5  
    h]C2 8=N  
    /$OIlu  
    文件信息 ^%zNa6BL  
    Fhi5LhWe+.  
     1OPfRDn.bk  
    S%V%!803!  
     Qrz*Lvle h  
    QQ：2987619807 8Xk Ik7  
     
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