切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 Zemax光学设计从基础到实践 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) ZEMAX光学系统设计实战
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 1349阅读
    • 0回复

    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    5786
    光币
    23082
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 ,=9e]pQ  
    7I6bZ;}d  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 P~)ndaQ  
    *|f&a  
    p<|I!n&9  
    ~ E) [!y  
    建模任务 P}%0YJ$6  
    T41&;?-  
    I$Q%i Z{  
    概观 ZwLD7j*)  
    e#YQA  
    1`tE Hu.  
    光线追迹仿真 uhuwQS=X  
    Ty"OJ  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 UC,43 z  
    H?M#7K~[  
    •点击Go！ o@`& h} $  
    •获得3D光线追迹结果。 r@xMb,!H  
    DRo@gYDn  
     >-Qg4%m  
    LF'M!C9|  
    光线追迹仿真 74c1i  
    M-!eL<  
    }mjJglK!N  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Phsdn`,  
    •单击Go！ SWjOJjn  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ~-,P1 u!  
    W^2Q"c#7F  
    +w-UK[p  
    ~RVx~hh  
    场追迹仿真 APT'2 -I_  
    Ns-cT'1-  
    ExDH@Lb  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 uf* sI  
    •单击Go！     GNXQD}L?b?  
    Gd)@PWK  
    wSp1ChS k  
    k;p:P ?s5Y  
    场追迹结果（摄像机探测器） >Au]S `  
     '#SacJ\L7  
    :\Z;FA@g(g  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 h:[PO6GdX  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 D-.XSIEMu  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 B.&ly/d  
    30Nya$$A=  
    5=g{%X  
     Ga-AhP  
    场追迹结果（电磁场探测器） x.r~e)x=  
    ,jyNV<dI  
    ,TD@s$2x  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     +MKr.k2  
    US+PI`  
    rUkiwqr~E  
    文件信息 i=%wZHc;  
    dL<okw  
     yzhr"5_  
    " *xQN "F  
     A%n l@`s,  
    QQ：2987619807 -OZRSjmY  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表