切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 Zemax光学设计从基础到实践 成像衍射光学元件设计及应用 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 1255阅读
    • 0回复

    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    5545
    光币
    21885
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 wk9qyv<  
    ; ElwF&"!X  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 IIh \ d.o  
    :P/0"  
    G2 {R5F !  
    bnzIDsw!Q  
    建模任务 !5^&?plC@  
    &@U)  
    Ne b")  
    概观 nBg  tK  
    2~B9 (|  
    &P:2`\'  
    光线追迹仿真 bdYx81  
    :k/Z|  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 g3*J3I-O  
    cOoF +hz0O  
    •点击Go！ Ox%.We 5  
    •获得3D光线追迹结果。 E``\Jre@  
    '7yVvd  
     Qz4n%|  
    vxZ :l  
    光线追迹仿真 "lnI@t{o  
    U UYx-x  
    /r?EY&9G  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 :8LK}TY7  
    •单击Go！ c2~oPUj  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     oR@1/lV  
    f+V^q4  
    L7"B`oa(p  
    .T*89cEu  
    场追迹仿真 `)n/J+g  
    IfzW%UL  
    ZOzwO6(_  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 VlFhfOR6t  
    •单击Go！     OhiY <  
    t2_pwd*B  
    XtftG7r9S  
    L a8D%N  
    场追迹结果（摄像机探测器） G_v^IM#B=  
     \F8 :6-  
    |y DaFv  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Jq8:33s   
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 2*pNIc  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 l|L ]==M  
    Sej(jJX1  
    qk_YFR?R  
     LA4,o@V`  
    场追迹结果（电磁场探测器） p"|0PlW  
    /L; c -^  
    9D{p^hd  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     5-! Zm]  
    nq 9{{oe  
    a"!r]=r  
    文件信息 ~ yu\vqN  
    Q7(I'  
     %ou@Y`  
    ppR; v  
     LB/1To  
    QQ：2987619807 4;)aGN{e  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表