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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 JD ~]aoH  
    EdCcnl?R6  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ]x@36Ok)A  
    yW;]J8 7*  
    iwfH~  
    Lw6}b B`}  
    建模任务 8Ib5  
    DuRC1@e  
    m,SWG[~  
    概观 {'o\#4 Wk  
    Vah.tOU  
    \O\veB8  
    光线追迹仿真 (X|lK.W y  
    qbo W<W<H1  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 3 Ol`i$  
    ~./M5P!\  
    •点击Go！ ~t^'4"K*  
    •获得3D光线追迹结果。 rk `]]  
    8'0KHn{#  
     `IK3e9QpcA  
    { pu .l4nk  
    光线追迹仿真 gP=@u.  
    ^oZD44$  
    _'P!>C!  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ~ym-Szo  
    •单击Go！ "0{t~?ol  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     \)BDl  
    y73@t$|  
    B3yp2tncj  
    BoXGoFn  
    场追迹仿真 Q".AmHn  
    Mh5 =]O+  
    #zKF/H|_R  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 oHx=Cg;  
    •单击Go！     ^4tz*i  
    nNcmL/(  
    _"sFLe{  
    G `JXi/#`  
    场追迹结果（摄像机探测器） k&3'[&$I*,  
     Sv03="&  
    M-NY&@Nj  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 9h'klaE(  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Z#|IMmT;*=  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 }aa ~@K<A  
    X" ;ly0Mb  
    T\o!^|8  
     qEB]Tj e[  
    场追迹结果（电磁场探测器） .{LJ  
    wQ/FJoB  
    /(skIvE|  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     Zk n1@a  
    UP |#WegO  
    oS_<;Fj  
    文件信息 ZYD3[" ~x  
    6"U)d7^  
     [)83X\CO  
    X8=s k  
     ^DS+O>  
    QQ：2987619807 $NhKqA`0  
     
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