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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 tD]&et  
    i6d$/ yP"  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 .Y|\7%(  
    k&/ )g3(N(  
    'j_H{kQy  
    {^W,e ^:  
    建模任务 [kOA+\v  
    DANSexW  
    |T_Pz& -  
    概观 &HK s >  
    ~TH5>``;gF  
    Qs9U&*L  
    光线追迹仿真 @MB _gt)7?  
    4w( vRe  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 !B lk=L+p  
    = Y-Ne6a  
    •点击Go！ 0f%:OU5Y  
    •获得3D光线追迹结果。 &a_kJ)J  
    @$P!#z  
     4nH91Z9=  
    A{I a21T7  
    光线追迹仿真 [ 5W#1 &  
    aNC,ccm  
    ocqB-C]  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 L"h@`3o|  
    •单击Go！ lK,=`xe  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     J,G9m4Z7  
    IZ0$=aB7  
    qW~ R-g]  
    I'9s=~VfY,  
    场追迹仿真 4)HWPX  
    g]<Z]R`  
    CQHp4_  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 O^Vy"8Ji}y  
    •单击Go！     (+LR u1z  
    '[ g)v  
    D}/=\J/  
    Q|B|#?E==  
    场追迹结果（摄像机探测器） Q 95  
     C cr+SR2  
    p/1}>F|i  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。  g1wI/  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 o9LD6$  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 |SP.S 0.y  
    NhoS7 y(  
    '}+X,Usm  
     ]Ec[")"kT  
    场追迹结果（电磁场探测器） {vT55i<mk  
    j]B $(pt  
    r.wIk0  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     W B*`zCM  
    8gtCY~m  
    U aj`  
    文件信息 Cre0e$ a  
    i9\\evJs  
     HCjn9  
    {?f^  
     {#*?S>DA  
    QQ：2987619807 *[xNp[4EU  
     
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