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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 [Grxw[(_:  
    6HZ`.o:f  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 { &"CH]r  
    {l>yi  
    N"" BCh"  
    ex::m&  
    建模任务 2>cGH7EBD  
    *]AdUEV?  
    ;LG#.~f  
    概观 JBi*P.79^  
    }\%Fi/6Z{  
    O!P H&;H  
    光线追迹仿真 ?98("T|y;  
    jBgP$g  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 r~/   
    QWD'!)Zb  
    •点击Go！ gu0j.XS^  
    •获得3D光线追迹结果。 =h0,?]z  
    n;@bLJ$W  
     ?\t#1"d  
    pimtiQqC  
    光线追迹仿真 :pGaFWkvO  
    kMb}1J0i"  
    fz\9 S  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 vr6MU<  
    •单击Go！  swK-/$#  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     S 5/R_5  
    g]4(g<:O  
    }% `.h"  
    *:Vq:IU[D  
    场追迹仿真 cki81bOT  
    7* yzEM  
    MRb-H1+Xf  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 (-ufBYO6  
    •单击Go！     .#rJ+.2  
    LcUh;=r}&  
    g;2?F[8Th  
    \#Pfj &*  
    场追迹结果（摄像机探测器） { OXFN;2  
     %kS(LlL+6  
    =p*]Az  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 :-/M?,Q"  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 g/P+ZXJ  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 y~q8pH1  
    n?- })  
    '}fzX2Q#  
     Jtr"NS?a]  
    场追迹结果（电磁场探测器） bn!HUM,  
    {u#;?u=|  
    t m7^yn:  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     SKkUU^\#R`  
    DNr@u/>vB  
    )}"wesNo".  
    文件信息 BW 4%l  
    VU&7P/\f%  
     @\f^0^G  
    ] lrWgm  
     4lKq{X5<  
    QQ：2987619807 0:9.;x9_  
     
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