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摘要 +\PLUOk |z}VP-L 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 <7ag=IgDy |P9)*~\5 Vn/FW?d7 \!>qtFT 建模任务 3v#F0s| iY sQ:3s 3dtL[aVwY 概观 5wvh
@Sc\ \)MzUOZn l0',B*og 光线追迹仿真 }.=wQ_ )T(1oK(g •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 K"Irg. E`wq`g`H< •点击Go! +H?
XqSC •获得3D光线追迹结果。 YB{'L +Wbw JkLpoe81
j{ri]?p rXGaav9 光线追迹仿真 FB~IO#E8W VF<VyWFC0` J6zU# •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 e]:(.Wb- 9 •单击Go! v)zxQuH]^ •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 q(#,X~0 UD2l!)rW $ O;a~/T `[_p,,}Ir 场追迹仿真 skt9mU W{}M${6& E|VTbEYG •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 =$kSn\L, •单击Go! Ob|tA W>u$x=<T
7<5=fYbr vcOw`oS 场追迹结果(摄像机探测器) j#VR>0oC]\ 9J}^{AA \&v)#w •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 W=K+kB •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 4)snt3k Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 |L
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C)2 $|19]3T@Z 场追迹结果(电磁场探测器) > mP([] A(JgAV1{ #6 $WuIG •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 RE;)#t?K Gfle"_4m8
pf&SIG 文件信息 $h1pL>^J ~#P` 7G
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