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摘要 Fg;V6s/>ts .Lbu[ 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 VPBlU 9Kf# jZ 8K$q6V%# WrP4*6;" 建模任务 v0v%+F#>@ Pv,Q*gh` ]n _OQ)VO 概观 jzt$ ?(rJ f}qR'ognUu 光线追迹仿真 K)=<hL T$)N2]FE •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 9[31EiT kB:6e7D|[ •点击Go! /a@gE^TM •获得3D光线追迹结果。 ) bRj'* D_VAtz
fR]%:'2k MOp06 光线追迹仿真 " b?1Yc- gK7bP'S8H _ljdo`j#N •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 2g?O+'JD •单击Go! *% 6NuZ •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 vOMmsU F q3Tp/M. j6@5"wx afE`GG- 场追迹仿真 [R-&5 G!x vQK*:IRKK /8](M5X]f •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 bvpP/LeY •单击Go! !LDuCz
- H!uB&qY hqr V {c )3 C~kmN7 场追迹结果(摄像机探测器) n\CQ-*;l (`nn\) sA!,)'6 •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 '(N -jk •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 H#zsk*=QD Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 ~_|OGp_a b d!|/Lk
`VJJ"v<L {Ftz4y)6 场追迹结果(电磁场探测器) 4^|;a0Qy] YS7R8| gt~hUwL •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ~k}>CNTr TttD}`\.
<0?h$hf4c 文件信息 /<J&ZoeJB MGoYL\
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