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摘要 kO4~N-& +t{FF!mL 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 %&(\dt&R1h 6I![5j t[,\TM^h}0 iO`f{?b 建模任务 <P-r)=^ N3RwcM9+; YaNVpLA 概观 -. {7;6:(k WfZ#:G9 J?$uNlI 光线追迹仿真 >UH=]$0N Fj4:_(%nG •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 tjt#VFq? *n5g";k| •点击Go! &pl;U\dc*a •获得3D光线追迹结果。 oGJI3Oh 8+F2
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| 'G$}]H XWV ~6" 光线追迹仿真 $=R\3:j o\[nGf C& !<ucwWY, •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
Y7HWf •单击Go! s]OXB {M •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 +.St"f/1 C%"@|01cO Gr?gHAT v<4zcMv 场追迹仿真 {S!~pn&^Y JG4I-\+H
#D8)rs.9 •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 0"Hf6xz •单击Go! L^}kwu# (ol 3vt isqW?$s cvt2P}ma# 场追迹结果(摄像机探测器) ;$]R#1i44 &bb*~W- V qf}(3K0 •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 M Cz3RZK •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 [gDvAtTZ5 Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 O^GTPYW EBm\rM8
4" @yGXUb TkykI 场追迹结果(电磁场探测器) ?(N(8)G1 ]up:pddIh 8dfx _kY`/ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 SBA;p7^" O;r8l+
(RF6K6~ 文件信息 2C>PxA6l 1'=brc YR
P`0aU3pl &E~7ty' DEtq]|80m QQ:2987619807 {^v50d
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