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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 +\PLUOk  
    | z}VP-L  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 <7ag=IgDy  
    |P9)*~\5  
    Vn/FW?d7  
    \!>qtFT  
    建模任务 3v#F0s|  
    iY sQ:3s  
    3dtL[aVwY  
    概观 5wvh @Sc\  
    \)MzUOZn  
    l0',B*og  
    光线追迹仿真 }.=wQ_  
    )T(1oK(g  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 K"Irg.  
    E`wq`g`H<  
    •点击Go! +H? XqSC  
    •获得3D光线追迹结果。 YB{'L +Wbw  
    JkLpoe81  
    j{ri]?p  
    rXGaav9  
    光线追迹仿真 FB~IO#E8W  
    VF<VyWFC0`  
    J6zU#  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 e]:(.Wb- 9  
    •单击Go! v)zxQuH]^  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    q(#,X~0  
    UD2 l!)rW  
    $O;a~/T  
    `[_p,,}Ir  
    场追迹仿真 sk t9mU  
    W{}M${6&  
    E|VTbE YG  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 =$kSn\L,  
    •单击Go!
    Ob|tA  
    W>u$x=<T  
    7<5=fYb r  
    vcOw`oS  
    场追迹结果(摄像机探测器) j#VR>0oC]\  
    9J}^{AA  
    \&v)#w  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 W=K+kB  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 4)snt3k  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。  |L  <  
    jyRz53  
    mP +H C)2  
    $|19]3T@Z  
    场追迹结果(电磁场探测器) > mP([]  
    A(JgAV1{  
    #6 $WuIG  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    RE;)#t?K  
    Gfle"_4m8  
    pf&SIG  
    文件信息 $h1pL>^J  
    ~ #P` 7G  
    &:=[\Ws R  
    xI5zP? _v  
    ^%33&<mB}  
    QQ:2987619807 pG$l   
     
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