切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 Zemax光学设计从基础到实践 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) ZEMAX光学系统设计实战
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 光学设计与光学元件 CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 1454阅读
    • 0回复

    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    6204
    光币
    25165
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 k;xIo(:  
    ;{f4E)t 7  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 U)iq  
    }>< v7  
    #jd&f,Tt  
    .p$tb2%r  
    建模任务 Xjs`iK=w  
    k5/W'*P  
    }?^5L7n  
    概观 VFLW @  
    RSK5 }2  
    /7jb&f   
    光线追迹仿真 ^M~Z_CQL2  
    FoB^iA6 e  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 8m"jd+  
    vj hh4$k  
    •点击Go！ &^1{x`Qo=  
    •获得3D光线追迹结果。 ~zph,bk  
    d_aHUmI^"  
     }\3jcnn  
    tiQeON-Q_  
    光线追迹仿真 =Cg1I\  
    ['jr+gIfQ  
    1yV+~)by3  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 -cP7`.a  
    •单击Go！ ^SC2k LI  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     TAp8x  
    AtYqD<hl:  
    p`/c&}  
    fF]w[lLDv  
    场追迹仿真 , Aw Z%  
    KuJNKuHa.  
    G;Py%8  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 z[+Sb;  
    •单击Go！     P B?92py&  
    0I['UL^!F  
    ?'RB'o~  
    gnN"6r1  
    场追迹结果（摄像机探测器） xZ(ryE%  
     )];Bo.QA  
    *~0U4kw+  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 FW)VyVFmk  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 p-XO4Pc 6  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Z~1uyr(  
    K7c[bhi_w  
    -OXC;y  
     M2pFXU?]  
    场追迹结果（电磁场探测器） 2KtK.2;7  
    PnZC I!Mw  
    W[<ZI>mf  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     ,#U[)}im  
    _"[Ls?tRX  
    $Ts;o  
    文件信息 yS1i$[JV  
    W5,&*mo  
     r1 [c+Hy  
    C`qE ,2.  
     u~7fK  
    QQ：2987619807 XNJ3.w:R  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表