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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 kXmnLxhS/  
    lm?1 K:+[  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 \Qh{uk[  
    :+9KNyA  
    aP%2CP~_P  
    fI5]ed eS  
    建模任务 XQW+6LEQ  
    Jzg>Y?jN R  
    :3z`+5Y*  
    概观 1kG{z;9  
    0'giAA  
    cH&-/|N  
    光线追迹仿真 0wx lsny?  
    pohA??t2:  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 SIBNU3;DL  
    n( |~z   
    •点击Go！ CLb~6LD  
    •获得3D光线追迹结果。 C6=P(%y  
    y|BRAk&n  
     ^ di[J^  
    _%M5 T  
    光线追迹仿真 d+1q[,-  
    y5d=r]_S:  
    E^:8Jehq  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 u7_IO  
    •单击Go！ \ 2$nFr?0  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     {&2a H> V/  
    lG\6z"K  
    QEe\1>1"&  
    {9tKq--@E9  
    场追迹仿真 HC4vet  
    y<Hka'(%  
    @l7~Zn  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 td:GZ %  
    •单击Go！     E4a`cGb  
    (vq0Gl  
    qUH02" z@9  
    ax]Pa*C}  
    场追迹结果（摄像机探测器） `D0>L '  
     j-e gsKR  
    xWwQm'I2}  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 (]JZ1s|  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 BO#XQ,  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 .?L&k|wX-  
    Uxla,CCp-  
    3ErW3Ac Ou  
     [Yo3=(7J  
    场追迹结果（电磁场探测器） =J2\"6BnzA  
    0y>]6 8D  
    i+x$Y)=  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     cQ= "3M)~r  
    g"Eg=CU  
    > 3<P^-9L  
    文件信息 CdxEY  
    >/*wlY!E  
     "|{3V:e>a  
    *Y4h26  
     svt%UE|_:$  
    QQ：2987619807 {o2pCH  
     
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