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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 *F`A S>  
    JSr$-C fH  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 = 1.9/hW  
    !.TLW  
    Wl- <HR!n  
    [p;E~-S  
    建模任务 X3%Ic`Lq#  
    ~xLJe`"JUx  
    hA1-){aw3q  
    概观 .@F]Pht  
    $?P22"/p  
    _O"mfXl6  
    光线追迹仿真 EYX$pz(x;  
    0#cy=*E  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 N<(.%<!  
    alq%H}FF  
    •点击Go! De&6 9  
    •获得3D光线追迹结果。 m3<+yz$!r  
    BV#78,8(  
    v <Kmq-b  
    Bi,;lR5  
    光线追迹仿真 ({WyDu&=  
    4m)OR  
    hvka{LD  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 Q[F}r`  
    •单击Go! U.!lTLjfLz  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    -Go 7"j  
    #~O b)q|  
    y: m_tv0~0  
    svf|\p>]H  
    场追迹仿真 ::FS/Y]Fg  
    R:Q0=PzDi#  
    GVHV =E  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 /,=@8k!t?  
    •单击Go!
    Rp7ntI:  
    V'*~L\;pU  
    7\FXz'hA  
    I`KQ|h0%  
    场追迹结果(摄像机探测器) . \   
    } :=Tm]S  
    OCZaQ33  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 YQJ==C1  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 h\v'9  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 %1}K""/  
    a<}#HfC;'  
    om?-WJI  
    s*U1  
    场追迹结果(电磁场探测器) >{\7&}gz  
    8#!i[UF dj  
    e@:sR  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    `\Hf]b  
    w2_bd7Wp<  
    \%^%wXfp  
    文件信息 ;22oY>w  
    J+d1&Tw&  
    ?T+q/lt4  
    L_=3<n E  
    OO[F E3F  
    QQ:2987619807 E4 m`  
     
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