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摘要 0: hv6Ge^ eU%49 A 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 `DgK$ QM C2v_],] -X$EE$: I]e+5 E0 建模任务 |> ]@w\] @g5y_G{SP j`RG Moq 概观 w($a'&d`0 1s=Q~*f~d Yr-SlO> 光线追迹仿真 a!: N
C /^nIOAeE •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 .4WJk>g \uPzj_kU6 •点击Go! 1a{3k#} •获得3D光线追迹结果。 Fk 3(( n= %hYgG;22 A3_p*n@ qD>^aEd@4 光线追迹仿真 zQY ,}a o$.#A]Flb PJN9[Y{^3 •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 /ie&uWy •单击Go! $]E+E.P •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 {j>a_]dTVX TxG@#" ^g} pK3A/ry< VrZfjpV 场追迹仿真 \~,\| 2'S&%UyP {ac$4#Bp[B •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 |@JTSz*Or •单击Go! G'/GDN^j a&8K5Z%0 "V]*ov&[ lgU!D |v 场追迹结果(摄像机探测器) ^w1+b;) l6HtZ( Ex
p?x •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 o1(;"5MM •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
VR>!Ch Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 uKk#V6t# n~yKq"^ %(eQ1ir + :gwmk9LZ 场追迹结果(电磁场探测器) :Pdh##k K.}jOm -@w,tbc$ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 `Uz.9_6 *Sj)9mp ]ouoRlb/ 文件信息 }?Y -I>
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X^eyrqv Ly2,*\7 QQ:2987619807 n?r8ZDJ'
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