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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 ; dHOH\,:  
    n YMf[kW  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 BHBT=,sI  
    hw.demD  
    MVU'GHv  
    %<*pM@  
    建模任务 iqKfMoy5  
    cW|Zgz8vv  
    g8qAJ4  
    概观 wNZS6JF.d  
    &\D<n; 3  
    7z0 uj  
    光线追迹仿真 `YU:kj<6  
    ]` Gz_e  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ?j$8Uy$$  
    UU~;B  
    •点击Go！ n)7$xYuH  
    •获得3D光线追迹结果。 R\=\6("  
    z8[|LF-dx  
     l{SPV8[i  
    %1d6j<7  
    光线追迹仿真 w I 7  
    2X |jq4  
    -#z'A  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 P*=3$-`  
    •单击Go！ GM56xZ!2T  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     r\- k/0  
     Jy[8,X  
    00x^zu?N  
    !_z>w6uR  
    场追迹仿真 {'bkU9+  
    b6M)qt9R  
    Q 6<Uui w  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 =@/^1.`  
    •单击Go！     JWjp<{Q; 1  
    BQmafpp`  
    DMpd(ws  
    BJ2W }R  
    场追迹结果（摄像机探测器） !/9Sb1_~  
     `D4'`Or-U  
    p%tg->#L  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ,colGth 54  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 6y!?xot  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 0s[3:bZ\Ia  
    >V=@[B(0  
    }n8;A;axi  
     dV*rnpN  
    场追迹结果（电磁场探测器） \(t>(4s_~  
    ,+evP=(cX  
    m|gd9m $,?  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     4^9_E &Fa  
    Eu~wbU"%  
    q)y8Bv|  
    文件信息 P&,cCR>  
    |VF"Cjw?  
     ``CADiM:S  
    3`8xh 9O  
     YQsc(6  
    QQ：2987619807 Y\S^DJy  
     
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