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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 7D%}( pX  
    x:O;Z~ |.  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ry%Fs&V*>  
    ;,yjkD[mWE  
    E}WO?xxv74  
    -O?}-6,_Z  
    建模任务 z3:tSjF  
    3r (i=ac0  
    b\O%gg\p%!  
    概观 M'4$z^@Z  
    06#40-   
    4/tp-dBip  
    光线追迹仿真 xi =\]  
    h#>%\Pvt;  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 Tp7slKc0p  
    BL^8gtdn  
    •点击Go！ Cg! ]x o  
    •获得3D光线追迹结果。 /{9"O y7E  
    n rpxZA  
     &m>sGCZ  
    VTt{ 0 ~  
    光线追迹仿真 +w]KK6  
    {yPiBu  
    , 9C~%c0Pw  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 i;XkH4E:)  
    •单击Go！ U<*8KiI  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     pGO)9?j_N  
    NdW2OUxw"  
    J~jR`2+r  
    UpU2H4  
    场追迹仿真 ]8qFxJ+2^  
    > v~?Vd(  
    }RvP*i  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 %;r0,lN|II  
    •单击Go！     9"H]zfW  
    dSkW[r9Z%l  
    c9eLNVM  
    h!L/ZeRaV  
    场追迹结果（摄像机探测器） ; =FSpZ@  
     B7fV_-p:G  
    A80r@)i  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 gJ8+HV  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 n8.W$&-ia  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 n!r<\4I  
    /Y>$w$S  
    >2[\WF*"X  
     uq>\pO&P  
    场追迹结果（电磁场探测器） <=D\Ckmb  
    <&+\X6w[  
    8~=<!(M)m/  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     v^=Po6S[{+  
    hw@ `Q@  
    ^rmcyy8;g  
    文件信息 KL8G2"Z  
    f+/AD  
     NT^m.o~4  
    3Vu_-.ID  
     c?;YufH'j  
    QQ：2987619807 6i6m*=h  
     
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