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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 7vq DZg  
    \-d '9b?  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 "5(W[$f*]v  
     feN!_ -  
    N-Z^G<[q.  
    KcnjF^k  
    建模任务 22'vm~2E  
    r},lu=em  
    + "zYn!0  
    概观 ]*GnmG:D*  
    L5&K}F]r^  
    d QDLI  
    光线追迹仿真 Kk>DYHZ6y  
    /]g>#J%b  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 lfRH`u  
    i=V-@|Z  
    •点击Go！ yeNvQG  
    •获得3D光线追迹结果。 :i}@Br+R7L  
    UT~4Cfb  
     FXxN>\76.  
    2;h+;G  
    光线追迹仿真 I<KCt2:X  
    hWm0$v 1p  
    tStJ2-5*t  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 /wlFD,+8  
    •单击Go！ d96fjj~  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ]h0Y8kpd  
    D>S8$]^Dm  
    G-ZhGbAI7  
    Eny!R@u7q  
    场追迹仿真 oo\IS\  
    d#4Wj0x  
    !x6IV25  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 yE<,Z%J[n  
    •单击Go！     0yKh p: ^  
    c{ 7<H  
    CxkMhd8qz  
    y{?Kao7Ij  
    场追迹结果（摄像机探测器） :Nkz,R?  
     UL[uh@4  
    :|Upx4]Ec  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Pm~,Ky&Hl  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 l -XnB   
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 [Zh2DNp  
    16L"^EYq  
    vWuyft*  
     JLml#Pu4  
    场追迹结果（电磁场探测器） Ls(&HOK[p  
    pRb<wt7v  
    ["<5?!bU  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     yX`J7O{=  
    fG3wc l~  
    *Q0lC1GQ  
    文件信息 s *K:IgJ/  
    .a5X*M]  
     {({ R:!c  
    p0   
     v [dAywW  
    QQ：2987619807 1+S g"?8  
     
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