-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-11-25
- 在线时间1891小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 *F`A S> JSr$-C
fH 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 =1.9/hW !.TLW Wl-<HR!n [p;E~-S 建模任务 X3%Ic`Lq# ~xLJe`"JUx hA1-){aw3q 概观 .@ F]Pht $?P22"/p _O"mfXl6 光线追迹仿真 EYX$pz(x; 0#cy=*E •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 N<(.%<! alq%H}FF •点击Go! De&6 9 •获得3D光线追迹结果。 m3<+yz$!r BV#78,8(
v<Kmq-b Bi,;lR5
光线追迹仿真 ({WyDu&= 4m)OR h vka{LD •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 Q[F}r` •单击Go! U.!lTLjfLz •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 -Go 7"j #~O b)q| y:m_tv0~0 svf|\p>]H 场追迹仿真 ::FS/Y]Fg R:Q0=PzDi# GVHV =E •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 /,=@8k!t? •单击Go! Rp7ntI: V'*~L\;pU 7\FXz'hA I`KQ|h0% 场追迹结果(摄像机探测器) .
\ } :=Tm]S OCZaQ33 •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 YQJ==C1 •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 h\v'9 Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 %1}K""/ a<}#HfC;'
om?-WJI s*U1 场追迹结果(电磁场探测器) >{\7&}gz 8#!i[UFdj e@:sR •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
`\Hf]b w2_bd7Wp<
\%^%wXfp 文件信息 ;22oY>w J+d1&Tw&
?T+q/lt4 L_=3<nE OO[F E3F QQ:2987619807 E4m`
|