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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 Fg;V6s/>ts  
    . Lbu[  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 VPBlU  
    9Kf# jZ  
    8K$q6V%#  
    WrP 4*6;"  
    建模任务 v0v%+F#>@  
    Pv,Q*gh`  
    ]n _OQ)VO  
    概观 jzt$  
    ?( rJ  
    f}qR'ognUu  
    光线追迹仿真 K)=<hL  
    T$)N2]FE  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 9[31EiT  
    kB:6e7D|[  
    •点击Go！ /a@gE^TM  
    •获得3D光线追迹结果。 ) bRj'*  
    D_VAtz  
     fR]%:'2k  
    MOp06  
    光线追迹仿真 " b?1Yc-  
    gK7bP'S8H  
    _ljdo`j#N  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 2g?O+'JD  
    •单击Go！ *%6NuZ  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     vOMmsU F  
    q3Tp /M.  
    j6@5"wx  
    afE`GG-  
    场追迹仿真 [R-&5 G!x  
    vQK*:IRKK  
    /8](M5X]f  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 bvpP/LeY  
    •单击Go！     !LDuCz -  
    H!uB&qY  
    hqr V {c  
    )3 C~kmN7  
    场追迹结果（摄像机探测器） n\CQ-*;l  
     (`nn\)  
    sA!,)'6  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 '(N -jk  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 H#zsk*=QD  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ~_|OGp_a  
    b d!|/Lk  
    `VJJ"v<L  
     {Ftz4y)6  
    场追迹结果（电磁场探测器） 4^|;a0Qy]  
    YS7R8|  
    gt~hUwL  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     ~k}>CNTr  
    TttD}`\.  
    <0?h$hf4c  
    文件信息 /<J&ZoeJB  
    MGoYL \  
     1#o>< ?  
    zzq7?]D  
     l,(Mm,3  
    QQ：2987619807 b ] W^_  
     
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