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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 c{x:'@%/s'  
    wNNg"}&P  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 mT;   
    lACS^(  
    4CS$%Cu\?w  
    w7\ \m9  
    建模任务 R[m+s=+  
    , 0?_? GO  
    V~Jt  
    概观 7x*C` Et<x  
    9tmnx')_  
    c s:E^  
    光线追迹仿真 wX!0KxR/Z  
    e{^lD.E  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ogV v 8Xb  
    muhu` k`C  
    •点击Go！ <^ratz!-  
    •获得3D光线追迹结果。 [EQTrr( D  
    (tiE%nF+  
     X8~?uroq  
    zOy_qozk  
    光线追迹仿真 "od 2i\  
    <" 0b 8 Z  
    tvUCd}  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 I-Am9\   
    •单击Go！ e Dpt1  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     $wl_  
    gTd r  
    3wPUP+)c7  
    c68,,rJO]i  
    场追迹仿真 i7&ay\+@  
    [LV>z  
    [?XP[h gd  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Ak3V< =gx  
    •单击Go！     C[><m2T  
    jm'^>p,9G  
    i nk !>Z  
    tK 6=F63e  
    场追迹结果（摄像机探测器） AMK(-=  
     Xs~IoU  
    I:;umyRH  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 on1B~?*D  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 tNYuuC%N  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 "cvhx/\1#  
    z0&Y_Up+5  
    &&zsUAkS  
     *0_Q0SeE,o  
    场追迹结果（电磁场探测器） O]oH}#5b  
    4MCj*ok<  
    y<l(F?_  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     ]UGk"s5A  
    N).'>  
    w=5<mw  
    文件信息 P]2V~I/X  
    5!Ovd O}g  
     h&rZR`g  
    'k[vcnSz\/  
     gN]\#s@[  
    QQ：2987619807 /*t H$\6*  
     
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