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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 Q22 GIr  
    j<e2d7oN  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 +jgSV.N  
    $<[79al#  
    }c:M^Ff  
    [()koU#w.  
    建模任务 j![\& z  
    z\4.Gm-  
    7 _[L o4_  
    概观 f* wx<  
    >/6 _ ^  
    ^xk'Z  
    光线追迹仿真 L-&\\{ X  
    ]hV*r@d  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 jSaU?ac  
    M869MDo  
    •点击Go！ akTk(  
    •获得3D光线追迹结果。 7a}k  
    F((4U"   
     #B w0,\  
    qZZK#,Qb  
    光线追迹仿真 ]eV8b*d6  
    NwfVL4Xg  
    a,o*=r  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 I]_5}[I  
    •单击Go！ 2B`JGFcdcB  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ,`sv1xwd  
    >8[Z.fX  
    3$ PV2"  
    HK% 7g  
    场追迹仿真 43 :X,\~)  
    !d T4  
    l}P=/#</T  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 _tycgq#  
    •单击Go！     Rk8P ax/JK  
    EiaW1Cs  
    6wg^FD_Q  
    bhs _9ivw  
    场追迹结果（摄像机探测器） J9 I:Q<;  
     wKY_Bo/d  
    H%{+QwzZ[j  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 DW3G  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 -ze J#B)C  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 %]7d`/  
    BL4-7  
    IvNT6]6 P  
     |&4/n6;P$0  
    场追迹结果（电磁场探测器） .eC1qWZJpd  
    fd9k?,zM  
    J,6yYIq  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     \^1E4C\":  
    Zgb!E]V[  
    =WJ NWt>  
    文件信息 >5 BJ3Hf  
    bQ5\ ]5M  
     4`=m u}Y2  
    wS3'?PRX  
     ,wPr"U+7  
    QQ：2987619807 <\S:'g"(  
     
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