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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 [@. jL0>  
    %dk$K!5D0  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 1TxhEXB  
    K` _E>k  
    T\e)Czz2-  
    i2ml[;*,N  
    建模任务 4qSS<SqY  
    :J4C'N  
    0.Ol@fO  
    概观 /wxxcq  
    x]d"|jmVZ  
    Ff#N|L'9_  
    光线追迹仿真 milK3+N  
    ,tR'0&=  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 _Fh0^O@  
    n,Mw# r?y  
    •点击Go！ (B/F6 X;o.  
    •获得3D光线追迹结果。 f?<M3P  
    +$mskj0s  
     L pi _uK  
    f+*2K^B  
    光线追迹仿真 2,e|,N"zN  
    2|NyAtPb5  
    \=G Xe.}4d  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 MdoWqpC  
    •单击Go！ (b 2^d  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     owY_cDzrH  
    LYq2A,wm$  
    "KT nX#<0  
    o(SJuZC/U  
    场追迹仿真 UCj#t!Mw  
    ?o DfI  
    -K'84 bZ  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 n_Hn k4  
    •单击Go！     3^-)gK  
    C<=p"pWw  
    <sFf'W_3{  
    ;o@`l$O   
    场追迹结果（摄像机探测器） /sC[5G%  
     1H[;7@o$e  
    | v'5*n9  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 \w_[tPz}  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 eD1MP<>h  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 z4fK{S  
    ?d#(ian  
    <fxjj  
     adE0oXQH"  
    场追迹结果（电磁场探测器） ,Y5 4(>>%  
    1:s~ ]F@  
    @dKf]&h%%  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     fU~y481 A  
    !9cPNIi  
    GQ)cUrXQz  
    文件信息 -Izg&u &  
    nMoF;AdKm  
     Fl>j5[kLZ  
    G}xBYc0b  
     Cv7RCjMw  
    QQ：2987619807 )3\rp$]1  
     
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