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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 _ QI\  
    FaSf7D`C  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 'RR~7h  
    Id'-&tYG  
    W ]1)zO  
    . B9iLI  
    建模任务 Jb@V}Ul$  
    X*XZb F"=  
    ]L $\ #  
    概观 |Nn)m  
    py!|\00}  
    &< `NT D  
    光线追迹仿真 Pb4X\9^  
    0B/,/KX  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 wLH>:yKUU  
    m|n%$$S&  
    •点击Go！ L|:`^M+^w  
    •获得3D光线追迹结果。  2DtM20<>  
    XGWSdPJLr  
     kQSy+q  
    mt{nm[D!Xp  
    光线追迹仿真 !8d{q)JZ  
    w^|*m/h|@u  
    ?k&Vy  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 vn!3l1\+J  
    •单击Go！ k8[n+^  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     F=e8IUr  
    BC#C9|n  
    +H-6eP  
    r&JgLC(   
    场追迹仿真 W)2p@j59A  
    p!7FpxZY  
    2g-j.TM  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 KNvZm;Q6  
    •单击Go！     .m,_N@,  
    8,4"uuI  
    /<=u\e'rE  
    }<v@01  
    场追迹结果（摄像机探测器） Ys!82M$g  
     uM IIYS  
    t ;;U}  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 v6bGjVK[  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 w !-gJmX>  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 8B K(4?gC  
    xw,IJ/E$1  
    yy^q2P  
     qpP=K $  
    场追迹结果（电磁场探测器） p Z|V 3  
    M#4p E_G  
    i(%W_d!  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     #uG%j  
    :841qCW  
    J s@hLP `  
    文件信息 UT~4x|b:O  
    ;;OAQ`  
     MDZ640-Y  
    A Ru2W1g  
     TCwFPlF|  
    QQ：2987619807 GX!G>  
     
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