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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 _w,0wn9N$  
    g4qdm{BL  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Ol5xyj  
    \ rWgA  
    U=#ylQ   
    wdDHRW0Y  
    建模任务 ^{+:w:g  
    *t*&Q /W  
    < 3+&DV-<N  
    概观 "}aM*(l+\  
    B]}V$*$ \?  
    imq(3?  
    光线追迹仿真 :\;uJ5  
    e(% Solkm?  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 YqCK#zT/  
    8t \>  
    •点击Go！ /+U)!$zm*  
    •获得3D光线追迹结果。 uiEA=*axp  
    ,ST.pu8N.  
     [MP :Eeg  
    )P+GklI{4  
    光线追迹仿真 0!\q  
    AFJY!ou~6  
    \ OINzfbr  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 (SVr>|Db  
    •单击Go！ ~"0X,APR5  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     O9&:(2'f  
    yC*BOJS  
    w:+#,,rwzV  
    ?bDae%>.d,  
    场追迹仿真 0\^2HjsJ  
    fzG1<Gem  
    8J U~Q  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 YEoT_>A$dB  
    •单击Go！     ;!sGfrs 0$  
    ~,-O  
    [mvHa;-w  
    l<%~w U  
    场追迹结果（摄像机探测器） tX}S[jdq  
     ,WK$jHG]  
    )Dpt<}}\  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 g}KZL-p4\m  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 xmx;tq  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 g$LwXfg  
    @ &yj7-]  
    oF^hq-xcP  
     )B4c;O4t  
    场追迹结果（电磁场探测器） rL"k-5>fd  
    vBnHG-5;P  
    Pk_{{Z(1o  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     3mz>Y*^?0  
    `:O.g9  
    ,^C;1ph  
    文件信息 ') y~d  
    7E)7sd  
     +N_%|!F-c  
    - Sgp,"a  
     X+@,vCC  
    QQ：2987619807 1 R9/AP  
     
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