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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 kAA>FI6  
    ^dm!)4W  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 @Xp~2@I=ls  
    . T JEUK  
    7q =G&e7  
    {eS|j=  
    建模任务 .;7> y7$*  
    a2 +~;{?g  
    !h[VUg_8  
    概观 9=X)ung9  
    eLD|A=X?  
    eYX5(`c[  
    光线追迹仿真 *f%>YxF  
    N_pUv   
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 Ev"|FTI/  
    {LHR!~d}5f  
    •点击Go! <^?1uzxH8A  
    •获得3D光线追迹结果。 \!]hU%Un  
    :Y,BdU  
    )0 W`  
    M=qb^~ l  
    光线追迹仿真 }~K`/kvs  
    \b=Pj!^gwb  
    WI> P-D  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 .iMN,+qP  
    •单击Go! $j}OB6^I  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    j^tW Iz  
    C)'q QvA  
    :r#)z4d5  
    7{@l%jx][  
    场追迹仿真 uj>WgU  
    1NQbl+w#I  
    Y6i _!z[V[  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 4(6b(]G'#  
    •单击Go!
    WY^W.1X  
    @Jm7^;9/  
    ZF7IL  
    2*"Fu:a"`I  
    场追迹结果(摄像机探测器) Yim<>. !  
    OU5*9_7.  
    tE6!+c<7  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 D8&`R  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 g_5QA)4x  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 H{J'# 9H  
    tCxF~L@  
    HK\~Qnq  
    4P^6oh0"  
    场追迹结果(电磁场探测器) FR2= las"z  
    {7TlN.(  
    vAY,E=&XvM  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    3 rLTF\  
    ['8!qr  
    su*Pk|6%  
    文件信息 `qJw|u>YpJ  
    @36u8pE  
    gs!(;N\j|  
    A_Frk'{qhB  
    "-@[R  
    QQ:2987619807 Z{&cuo.@<]  
     
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