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摘要 <4Cy U
j ,1e@Y~eZ 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 a^&3?3
= G3A} p&;,$KDA h'G8@j; 建模任务 ~w RozV SkA"MhX w2`j&]D6 概观 GpM_Qp Ehf{Kl zX/9^+p: 光线追迹仿真 ]dIr;x` 6T~xjAuJ3T •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 o>Z+=&BZ@a .](s\6' •点击Go! nyB~C7zR •获得3D光线追迹结果。 `{I-E5x l,3[hx
RpY#_\^hI Yt;.Z$i , 光线追迹仿真 -n~VMLd?@ yf6&'Y{ n-_-;TYH •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 Djf,#&j!3 •单击Go! [HENk34 •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 c8jq.y v Au/n|15->C )Hy|K1 D}Lx9cL 场追迹仿真 ZK]C!8\2| C zvi': {GiR-q{t •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 -.E<~(fad •单击Go! $Mp#tH28 ^T|~L<A3 qcfLA~y Io&F0~Z;;( 场追迹结果(摄像机探测器) r 6STc,%5 <&rvv4*H /P0%4aWu= •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 &u_f:Pog •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 Dl%NVi+n Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 gI^*O@Q4{b o3l_&?^
7>J8\= 6l>$N?a 场追迹结果(电磁场探测器) m>6,{g) ^1S(6'a# JQ8wL _C> •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 BS;_l"? eg-,;X#
:_Y@,CpIEg 文件信息 DO$jX
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