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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 @>)VQf8s1  
    _MBhwNBxZ  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 /jG?PZ=m  
    Q":_\inF  
    gV2vwe  
     ]n!V  
    建模任务 HwUaaK   
    3iCe5VF  
    H9mNnZ_k  
    概观 S6<o?X9,I  
    c/|{yp$Ga>  
    W,xdj!^t  
    光线追迹仿真 x+X@&S  
    2~kx3` Q  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 /Y #8.sr  
    Q@VA@N=w  
    •点击Go！ jHFjd'  
    •获得3D光线追迹结果。 ~}.C*;J  
    g3:@90Ba  
     AYAU  
    .xT?%xSi/  
    光线追迹仿真 I-]G{  
    hX.cdt_?  
    uY]';Ot G  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 \p4*Q}t  
    •单击Go！ *k{Llq  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     OrkcY39"~a  
    h4hAzFQ.s  
    aTvyz r1  
    )Te\6qM  
    场追迹仿真 <Wn~s=  
    N[_T3(  
    |! 9~  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 S7+>Mk  
    •单击Go！     :Awwt0  
    Wg|6{'a  
    T|~5dZL  
    /TMVPnvz.  
    场追迹结果（摄像机探测器） 3f`Uoh+  
     G*=HjLmZg  
    V IzIl\<aM  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 T<uX[BO-a  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ~VsN\!G  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 dn h qg3Y  
    )z7CT|h7S  
    @K"$M>n$Z  
     LphCx6f,X  
    场追迹结果（电磁场探测器） XRPJPwes]  
    JI@iT6.%IX  
    i+`8$uz  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     [J2evi?  
    ]xS%E r  
    [vu;B4^"  
    文件信息 CEj_{uf|  
    ;6 V~yB  
     upMs yLp(  
    }9ulHiR  
     !!.@F;]W  
    QQ：2987619807 \;XJ$~>  
     
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