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摘要 kAA>FI6 ^dm!)4W 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 @Xp~2@I=ls .TJEUK 7q=G&e7 {eS|j= 建模任务 .;7> y7$* a2 +~;{?g !h[VUg_8 概观 9=X)ung9 eLD|A=X? eYX5(`c[ 光线追迹仿真
*f%>YxF N_pUv •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 Ev"|FTI/ {LHR!~d}5f •点击Go! <^?1uzxH8A •获得3D光线追迹结果。 \!]hU%Un :Y,BdU
) 0 W` M=qb^~ l 光线追迹仿真 }~K`/kvs \b=Pj!^gwb WI> P-D •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 .iMN,+qP •单击Go! $j}OB6^I •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 j^tW
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QvA :r#)z4d5 7{@l%jx][ 场追迹仿真 uj>WgU 1NQbl+w#I Y6i _!z[V[ •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 4(6b(]G'# •单击Go! WY^W.1X @Jm7^;9/ ZF7IL 2*"Fu:a"`I 场追迹结果(摄像机探测器) Yim<>. ! OU5*9_7. tE6!+c<7 •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 D8&`R •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 g_5Q A)4x Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 H{J'#
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HK\~Qnq 4P^6oh0" 场追迹结果(电磁场探测器) FR2=
las"z {7 TlN.( vAY,E=&XvM •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 3rLTF\ ['8!qr
su*Pk|6% 文件信息 `qJw|u>YpJ @36u8pE
gs!(;N\j| A_Frk'{qhB "-@[R QQ:2987619807 Z{&cuo.@<]
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