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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 h6dPO"  
    1;<R#>&,*  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 <\?wAjc,  
    R$zH]  
    Fl(T\-Eu  
    E 7-@&=]v  
    建模任务 .s$z/Jv  
    fhB}9i^]tg  
    z3?o|A}/W  
    概观 0527Wj  
    4Qn$9D+?  
    j65<8svl  
    光线追迹仿真 36US5ef  
    \d::l{VB  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 J90v!p-  
    a22XDes=  
    •点击Go！ 3_A *$  
    •获得3D光线追迹结果。 ! VjFW5'{  
    f 2l{^E#h  
     +^;JS3p@\  
    $AHQmyg<  
    光线追迹仿真 *hcYGLx r  
    >M&3Y XC  
    P;4w*((} ~  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Jaz?Ys|S  
    •单击Go！ Y3Q9=u*5  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ut r:J  
    o.I6ulY8  
    s.8{5jVG  
    :%IoME   
    场追迹仿真 %D *OO{  
    X1~1&:V,<  
    _YRE (YZ/  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ;J7F J3n  
    •单击Go！     orb_"Qw  
    )p*}e8L  
    .9.2Be  
    y r,=.?C-  
    场追迹结果（摄像机探测器） Sfdu`MQR  
     R LD`O9#j  
    }V\N16f  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 }l=xiAF  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 "jw<V,,  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 R4-~jgzx  
    m)oJFF  
    7B?c{  
     %iw3oh&Fkm  
    场追迹结果（电磁场探测器） 7F'`CleU  
    #KO,~]k5|e  
    \QB;Ja _  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     0 iJue &  
    vhhC> 7  
    o6p98Dpg   
    文件信息 %;D.vKoh  
    `jOX6_z?I  
     }1rm  
    !kC* g  
     )5 R=Z<  
    QQ：2987619807 p'om-  
     
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