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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 0: hv6Ge^  
    eU%49 A  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 `DgK$QM  
    C2v_] ,]  
    -X$EE$:  
    I]e+5 E0  
    建模任务 |>]@w\]  
    @g5y_G{SP  
    j`RG Moq  
    概观 w($a'&d`0  
    1s=Q~*f~d  
    Yr-SlO>  
    光线追迹仿真 a!:N C  
    /^nIOAeE  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 .4 WJk>g  
    \uPzj_kU6  
    •点击Go! 1a{3k#}  
    •获得3D光线追迹结果。 Fk3(( n=  
    %hYgG;22  
    A3_p*n@  
    qD>^aEd@4  
    光线追迹仿真 zQY ,}a  
    o$.#A]Flb  
    PJN9[Y{^3  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 /ie&uW y  
    •单击Go! $]E+E.P  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    {j>a_]dTVX  
    TxG@#" ^g}  
    pK3A/ry<  
    VrZfjpV  
    场追迹仿真 \~,\|  
    2'S&%UyP  
    {ac$4#Bp[B  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 |@JTSz*Or  
    •单击Go!
    G'/G DN^j  
    a&8K5Z%0  
    "V]*ov&[  
    lgU!D |v  
    场追迹结果(摄像机探测器) ^w1+b;)  
    l6HtZ(  
    Ex p ?x  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 o1(;"5MM  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 VR>!Ch  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 uKk#V6t#  
    n~yKq"^  
    %(eQ1ir+  
    :gwmk9LZ  
    场追迹结果(电磁场探测器) :Pdh##k  
    K.}jOm  
    -@w,tbc$  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    `Uz.9_6  
    *Sj) 9mp  
    ]ouoRlb/  
    文件信息 }?Y -I> w  
    jJiuq#;T3  
    %;:![?M  
    X^eyrqv  
    Ly2,*\7  
    QQ:2987619807 n?r8ZDJ'  
     
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