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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 <4Cy U j  
    ,1e@Y~eZ  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 a^&3?3   
    = G3A}  
    p&;,$KDA  
    h'G8@j;  
    建模任务 ~wRozV  
    SkA"MhX  
    w2`j&]D6  
    概观 GpM_ Qp  
    Eh f{Kl  
    zX/9^+p:  
    光线追迹仿真 ]dIr;x`  
    6T~xjAuJ3T  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 o>Z+=&BZ@a  
    .](s\6'  
    •点击Go！ nyB~C7zR  
    •获得3D光线追迹结果。 `{I-E5 x  
    l,3[hx  
     RpY#_\^hI  
    Yt;.Z$i ,  
    光线追迹仿真 -n~VMLd?@  
    yf6&'Y{  
    n-_-;TYH  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Djf,#&j!3  
    •单击Go！ [HENk34  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     c8jq.y v  
    Au/n|15->C  
    )Hy|K1  
    D}Lx9cL  
    场追迹仿真 ZK]C!8\2|  
    C zvi':  
    {GiR-q{t  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 -.E<~(fad  
    •单击Go！     $Mp#tH28  
    ^T|~L<A3  
    qcfLA~y  
    Io&F0~Z;;(  
    场追迹结果（摄像机探测器） r 6STc,%5  
     <&rvv4*H  
    /P0%4aWu=  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 &u_f:Pog  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Dl%NVi+n  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 gI^*O@Q4{b  
    o3l_&?^  
    7>J8\=  
     6l>$N?a  
    场追迹结果（电磁场探测器） m>6,{g)  
    ^1S(6'a#  
    JQ8wL _C>  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     BS;_l"?  
    eg-,;X#  
    :_Y@,CpIEg  
    文件信息 DO$jX 4  
    LEkO#F(  
     i1 ?H*:]  
    ]J C}il_b  
     T?c:z?j_9  
    QQ：2987619807 nrMm](Y45  
     
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