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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 /!FWuRe^  
    5t:8.%<UK  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 WPuz]Ty  
    P @% .`8  
    8|1^|B(l  
    h+UnZfm  
    建模任务 "AueLl)  
    .q`{Dgc~  
    >O9 sk  
    概观 H6kf K5,  
    `\$8`Zb;  
    `|e!Kq?#Q  
    光线追迹仿真 KlxN~/gyik  
    `d]Z)*9  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 h#YD~!aJ  
    ~XM[>M\qB  
    •点击Go！ T8J4C=?/  
    •获得3D光线追迹结果。 FVWfDQ$&v  
    N0TeqOi4Y  
     [2Mbk~  
    4n( E;!s  
    光线追迹仿真 70W"G X&  
    GUp;AoQ  
    dJ3IUe  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ~9o6 W",  
    •单击Go！ &K%aw  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     %n?vJ#aX%  
    o=+Z.-q  
     .jg0a  
    >=,ua u7  
    场追迹仿真 Nud,\mXrY[  
    |w&~g9   
    xh9qg0d  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 fZryG  
    •单击Go！     3!9 Z=- tD  
    {ShgJ ;! Q  
    _kraMQ>  
    JNU/`JN9f  
    场追迹结果（摄像机探测器） r#876.JK  
     Fe=8O ^\  
    2!&pEqs  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 =yi OJyx  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Mhpdaos  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 }6m?d!m  
    @"87F{!  
    |Ur"za;%@  
     b[^{)$(  
    场追迹结果（电磁场探测器） ROAI9sW0  
    w<nv!e?  
    P_4DGW  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     *> 3Qd7  
    $~u.Wq  
    4iX-(ir,  
    文件信息 = 7/-i  
    0{rx.C7|  
     >IvBU M[Rt  
    [s6C ZcL  
     khX|" d360  
    QQ：2987619807 Fz"ff4Bx [  
     
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