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摘要 jXPf}{^ 4 :phq 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 *epK17i= /9b+I/xY" 1y3)ogL 8q]_> X 建模任务 fQU5' wGp o,rK8x l&|Tb8_' 概观 lLur.f rF$S QsX`IYk 光线追迹仿真 g'+2bQ QVF561Yz •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 .PD_Vv>C/> _BEDQb{"| •点击Go! Py`7)S •获得3D光线追迹结果。 o\<JG?P 6&"*{E
1@t8i?:h Bx/)Sl@ 光线追迹仿真 a8YFH$Xh hbe";( Xz?7x0)Z •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 U#x`u|L&6 •单击Go! PYwGGB- •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 "#:h#uRUb _b`/QSL z57q| n5 <B* 场追迹仿真 iu9+1+- gj7'43
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"@ •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 }tW1\@
= •单击Go! _VB;fH$ |['SiO$) bN&DotG Qe0?n 场追迹结果(摄像机探测器) Mr*CJgy eNK6=D| E9 w"?_A) •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Y>{%,d#s_ •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 b\^1P;!'W Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 8lyNg w1 ^?:
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.]0:`Y,; Uw?25+[b 场追迹结果(电磁场探测器) _PLZ_c:O
yjOZed;M 4QE")Ge •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ~<}?pDA}~ m2l0`l~T8
<O41M\, 文件信息 'JO}6
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R2qz>kyyB k!T-X2L= 4^*Z[6nt| QQ:2987619807 A9WOu*G1O
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