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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 kO4~N-&  
    +t{FF!mL  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 %&(\dt&R1h  
    6I![5j  
    t[,\TM^h}0  
    iO`f{?b  
    建模任务 <P- r)=^  
    N3RwcM9+;  
    YaNVpLA  
    概观 -.{7;6:(k  
    WfZ#:G9  
    J?$uNlI  
    光线追迹仿真 >UH=]$0N  
    Fj4:_(%nG  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 tjt#VFq?  
    *n5g";k|  
    •点击Go! &pl;U\dc*a  
    •获得3D光线追迹结果。 oGJI3Oh  
    8+F2 !IM  
    | 'G$}]H  
    XWV~6"  
    光线追迹仿真 $=R\3:j  
    o\[nGf C&  
    !<ucwWY,  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 Y7HWf  
    •单击Go! s]OXB {M  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    +.St"f/1  
    C%"@|01cO  
    Gr?gHAT  
    v<4zcMv  
    场追迹仿真 {S!~pn&^Y  
    JG4I-\+H  
    #D8)rs.9  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 0"Hf6xz  
    •单击Go!
    L^}kwu#  
    (ol 3vt  
    isqW?$s  
    cvt2P}ma#  
    场追迹结果(摄像机探测器) ;$]R#1i44  
    &bb*~W-  
    V qf}(3K0  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 M Cz3RZK  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 [gDvAtTZ5  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 O^GTPYW  
    EBm\rM8  
    4"@yGXUb  
    TkykI  
    场追迹结果(电磁场探测器) ?(N(8)G1  
    ]up:pddIh  
    8dfx _kY`/  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    SBA;p7^"  
    O;r8l+  
    (RF6K6~  
    文件信息 2C>PxA6l  
    1'=brc YR  
    P`0aU3pl  
    &E~7ty'  
    DE tq]|80m  
    QQ:2987619807 {^v50d  
     
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