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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 KA5v+~  
    _!#@@O0p/h  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 yHYsZ,GE  
    50h! X9  
    u$z`   
    3l]lwV  
    建模任务 SZ7:u895E  
    A.F%Ycq  
    '$Dn  
    概观 t mn tp  
    3=#<X-);  
    |o"?gB}Dh  
    光线追迹仿真 goNG' o %|  
    F-QzrquS  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 xh-o}8*n"  
    %X]jaX 7  
    •点击Go！ S)(.,x  
    •获得3D光线追迹结果。 AD> e?u  
    @ )F)S 7  
     299H$$WS,Z  
    Xfc-UP|}  
    光线追迹仿真 `?H]h"{7Q  
    2y\E[jA  
    umBICC]CU  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 J`Q>3] wL  
    •单击Go！ &N9 a<w8+  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     Y;eZ9|Ht9  
    ^S<Y>Nm]  
    u2 I*-K  
    BU)U/A8iS  
    场追迹仿真 D>r&}6<  
    7O2/z:$f  
    uh_RGM&  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 O^PKn_OJ  
    •单击Go！     "V7K SO  
    .8g)av+  
    OF>mF~  
    ?PxP% $hS  
    场追迹结果（摄像机探测器） .~db4d]  
     jwe*(k]z  
    *U-4Sy  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 h8j.(  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 mM~qBrwL  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Mexk~z A^  
    t,Lrfv])  
    :k]1Lm||  
     fm%t^)E  
    场追迹结果（电磁场探测器） LrfVh-}|:Y  
    FZ QP%]FX  
    )* :gqN  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     PQt")[  
    uCvj!  
    EP&,MYI%E  
    文件信息 KkyVSoD\  
    tFn)aa~L  
     HWAdhDZ  
    s+Pq&<nV-  
     +^ac'Y)A  
    QQ：2987619807 ,,.QfUj/&  
     
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