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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 @r?`:&m0  
    Q8x{V_Pot  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 4I*Mc%dD  
    ~Z2eQx jtM  
    P1wRt5  
    q?L(V+X  
    建模任务 {*U:Wm<  
    3\+p1f4  
    hBhkb ~Oky  
    概观 d mz3O(]$  
    }L!`K"^O&  
    JNaW> X$K  
    光线追迹仿真 "^z=r]<5  
    md"%S-a_dT  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 !j9i=YDb  
    }NCvaO  
    •点击Go！ c0&'rxi( B  
    •获得3D光线追迹结果。 7Ca\ (82  
    <&:&qn gg  
     ts<dUO  
    9/Dt:R3QU  
    光线追迹仿真 v{n}%akc  
    3 \r@f_p  
    gi'agB^  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 .4> s2  
    •单击Go！ &|}IBu:T  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     ]?(F'&  
    5Kj4!Ai  
    Ki/5xK=s  
    h(Ed%  
    场追迹仿真 k_<{j0z.  
    r)(BT:2m  
    \!Zh="hN  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 b',bi.FH  
    •单击Go！     vQ mackY  
    @z)tC@  
    ZT8J i?_n  
    1lyOp   
    场追迹结果（摄像机探测器） { $/Fk6qr  
     G.nftp(*}  
    / 7XdV  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 t* vg]Yc  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 J xm9@,  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 m}[~A@qD  
    xeM':hD.o  
    yI.H4Dl<  
     C2rj]t  
    场追迹结果（电磁场探测器） KM}4^Qc  
    ` .(S#!gw  
    h Yc{ 9$  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     .xkV#ol  
    BrH;(*H)8  
    CKt|c!3 7  
    文件信息 _:X|R#d  
    A?D"j7JD=L  
     7Sz'vyiz  
     zc/%1  
     e9@fQ  
    QQ：2987619807 `3y!XET  
     
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