如何分析部分
干涉成像系统 （光刻机系统）
y UpgoX( 6 }G eSu|m( 在光刻应用中，所使用的
光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模?
@Y1s$,=xB 在这里给大家分享一个案例， 希望可以帮到大家。
yu ;P +G
iof-7{+3_ 6I%5Q4Ll 这里是一步一步的如何在
ZEMAX 中操作：
https://sot.com.sg/coherent-imaging/ ZIQ
[bE7 #{?qNl8F*J 这里是案例的ZEMAX
文件： 备注： 我用的ZEMAX 是20年版本， 如果您版本过低，可能无法正常打开， 请谅解！
=3L;Z[^ 9 ]*AR,0N& 如果不能打开文件， 请告知我， 我转发给你。
? #fu.YE\ zG(\+4GE! 回帖是对我分享的一个鼓励， 谢谢回帖！
