如何分析部分
干涉成像系统 （光刻机系统）
Y{Yp N e D #R4 在光刻应用中，所使用的
光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模?
{6/Yu: ; 在这里给大家分享一个案例， 希望可以帮到大家。
+nLsiC{& \!]Zq#*kH ;|.~'' : 这里是一步一步的如何在
ZEMAX 中操作：
https://sot.com.sg/coherent-imaging/ `S&$y4|Vs Za5bx,^ 这里是案例的ZEMAX
文件： 备注： 我用的ZEMAX 是20年版本， 如果您版本过低，可能无法正常打开， 请谅解！
CH`_4UAX% xs'vd:l.Pp 如果不能打开文件， 请告知我， 我转发给你。
^")SU(` MO1t 0My c 回帖是对我分享的一个鼓励， 谢谢回帖！
