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[原创]如何分析部分干涉成像系统（光刻机成像系统） [复制链接]

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离线markborn

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只看楼主正序阅读楼主发表于: 2020-06-28

如何分析部分干涉成像系统（光刻机系统）

在光刻应用中，所使用的光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模?
在这里给大家分享一个案例，希望可以帮到大家。


这里是一步一步的如何在ZEMAX 中操作：https://sot.com.sg/coherent-imaging/

这里是案例的ZEMAX 文件：备注：我用的ZEMAX 是20年版本，如果您版本过低，可能无法正常打开，请谅解！

如果不能打开文件，请告知我，我转发给你。

回帖是对我分享的一个鼓励，谢谢回帖！

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共3条评分，光币+7

光学辉	光币 +1	优秀文章，支持！	2022-07-31
sxwpdpd	光币 +1	优秀资料，加分！	2020-08-03
天蓝色3230	光币 +5	-	2020-06-29

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离线ronehwa

助理工程师

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只看该作者 30楼发表于: 2024-08-21

let us learn photolithography design.

在线zizulj

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只看该作者 29楼发表于: 2024-01-17

啥东西

离线啊呦呦咿呀

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只看该作者 28楼发表于: 2024-01-16

学习并看看

离线liyujin1118

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只看该作者 27楼发表于: 2023-05-15

感谢分享

离线currichard

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只看该作者 26楼发表于: 2023-03-31

光刻新人学习学习

离线闫祥龙

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只看该作者 25楼发表于: 2023-02-09

学习学习

离线06benn

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只看该作者 24楼发表于: 2022-11-16

谢谢楼主

离线oxfocean

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只看该作者 23楼发表于: 2022-10-19

想了解一下

离线asdfr

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只看该作者 22楼发表于: 2022-07-31

感谢分享

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