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南大光电ArF光刻胶取得重大突破：可用于7nm工艺 不过EUV光刻胶也不是急需的，因为国内目前还没有EUV工艺量产，193nm的ArF光刻胶更加重要，目前国内有多家公司正在攻关中，这种光刻胶可以用于28nm到7nm工艺的先进工艺。 今天，南大光电在互动平台表示，公司的ArF光刻胶正在按计划进行客户测试，这意味着国内的ArF光刻胶技术取得了重要突破，从研发开始走向生产。 根据南大光电公司之前的 消息，公司于2017年开始研发“193nm 光刻胶项目”，已获得国家“02 专项”的相关项目立项，公司计划通过3年的建设、投产及实现销售，达到年产25吨 193nm（ArF干式和浸没式）光刻胶产品的生产规模，产品将满足集成电路行业需求标准。 （来源：雷锋网）
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最新评论
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luobin2434 2020-05-22 23:42感谢站长分享
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tassy 2020-05-23 00:19半导体卡脖子的技术之一
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bairuizheng 2020-05-23 00:24全面各种提升到顶尖最能不受限
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likaihit 2020-05-23 00:25半导体卡脖子的技术之一
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redplum 2020-05-23 00:27真的很厉害
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te67f42 2020-05-23 06:32支持国产，为国产助威。感谢站长提供的信息——南大光电Ar光刻胶。过了这么多年，竟然还是日本的科技比较先进耶！
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刘明欢聪慧 2020-05-23 07:35南大光电ArF光刻胶取得重大突破：可用于7nm工艺
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从业者007 2020-05-23 08:32真是在米国打压华为大背景下的振奋人心的消息！
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不懂想问 2020-05-23 08:45南大光电ArF光刻胶取得重大突破：可用于7nm工艺
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tomryo 2020-05-23 11:24南大光电ArF光刻胶取得重大突破：可用于7nm工艺
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