微纳米结构分析FIB介绍

微纳米结构分析FIB介绍： Wb*T  
电子光学 'T#<OR  
NICo非浸没式超高分辨率场发射扫描镜筒，配有: *NX*/(Q  
· 高稳定性肖特基场发射电子枪，用于提供稳定的高分辨率 分析电流 p~k`Z^xY$  
· 60 度双物镜透镜，支持倾斜较大的样品 k;AV;KWI'  
· 自动加热式光阑，可确保清洁和无接触式更换光阑孔 #I*ht0++  
· 连续电子束电流控制和优化的光阑角度 3XYIbXnk  
· 电子枪安装和维护简单 自动烘烤，自动启动，无需机械合轴 Nys'4kx7  
· 两级扫描偏转 o i,
g  
· 双物镜透镜，结合电磁透镜和静电透镜 D7n&9Z  
· 快速电子束闸* B7x"ef  
· 用户向导和镜筒预设 #o}{cXX#  
· 电子源寿命至少24个月 Z7k1fv:S^  
电子束分辨率 cfO^CC  
zui佳工作距离下 ,vHX>)M|  
· 30keV 下 STEM  0.7nm ~-o^eI4_  
· 1keV 下 1.4nm 15keV 下 1.2nm d-K5nRyI  
· 1keV下 电子束减速模式 0.99nm* hVQ+ J!qD  
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电子束参数 AS/\IHZ\  
· 电子束流范围（数显，连续可调）：1pA  400nA da
7x 1n$D  
· 加速及着陆电压：20V-30KV(连续可调) 7\|NYT4  
· 放大倍数范围：40x-1200x tpy:o(H  
· zui大水平视场宽度：7mm工作距离下为3.0mm，60mm工作 距离下为7.0mm，样品台到束交叉点85mm A16-  
· 导航蒙太奇功能可额外增大视场宽度 NnSI)*%'