聚焦离子束显微镜FIB/SEM/EDX技术指标

发布:探针台 2020-04-13 11:53 阅读:1543
聚焦离子束显微镜FIB/SEM/EDX FEI Scios 2 DualBeam技术指标 (qNco8QKu3  
一、技术指标 zNNzsT8na  
1、电子束电流范围:1 pA - 400 nA; luJ{Iq  
2、电子束电压:200eV-30 keV,具有减速模式 7yo|ie@S  
3、电子束分辨率:0.7 nm (30 keV)、1.4 nm(1 keV) .a ~s_E  
4、大束流Sidewinder离子镜筒; ;5&k/CB1  
5、离子束加速电压500V-30kV(分辨率:3.0 nm); (k7;  
6、离子束束流1.5pA-65nA,15孔光阑。 j:3A;r\  
OI)&vQ5k  
二、配置情况 h<PYE]?l  
1、GIS气体注入:Pt沉积 [{hLF9yPx  
2、ETD SE、T1(筒内低位)、T(高位)探头 =YS!soO  
3、Nav-camTM:样品室内光学导航相机 *O"%tp6  
4、AutoTEM4、Autoslice、Map for3D自动拼图、NanoBuilder纳米加工软件 =g{_^^n  
U)&H.^@r$  
三、适用样品 nEjo,   
半导体、金属、陶瓷材料微纳加工及观察分析,成分分析 O JZ!|J8?  
 9OrA9r  
四、检测内容 9$B)hrJo  
1、IC芯片电路修改 GM34-GH+  
2、Cross-Section 截面分析 4<=eK7;XR  
3、Probing Pad r< d?  
4、FIB微纳加工 >=Rd3dgDG  
5、材料鉴定 842Mydom  
6、EDX成分分析 !?tu! M<1?  
)W_ Y3M,  
五、设备简介 RW|UQY#  
FEI Scios 2 DualBeam系统在Scios系统的基础上进行了升级,更加适用于金属、复合材料和涂层,特点是适用磁性样品、借助漂移抑制对不导电的样品可以进行操作、Trinity检测套件可同步检测材料、形态和边缘对比对度,大大提高效率、软件可以实现三维数据立方体分析金属中夹杂物大小和分布、独有的工作流模式,可以设定程序,降低操作员的难度。在超大样品仓中集成了大尺寸的五轴电动样品台,XY轴具有110mm移动范围,Z方向具有85mm升降空间。
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