举例:设置三个
光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双
曲面。声明该
系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置
光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。
 	,3g]=f  RLE
 0KNH=;d}  ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE                          
 W0p#Y h:{_  WAVL .6562700 .5875600 .4861300
 }bj,&c
  APS     1
 }V93~>  GLOBAL
 FRs|!\S=  NOSEQUENTIAL
 "!w[U{  UNITS MM 
 c	+"O\j'  OBI  -5. 0.5  80.  14.  14.  1 3                                                       
 +J}k_'4&    0 AIR
 xKkVSEup    1 CAO      6.00000000       0.00000000       0.00000000
 YGZAtSf3z    1 CAI      0.26400000       0.00000000       0.00000000
 
HfZ (U5~    1 RAD      0.0020000000000   TH     100 AIR
 TZ`]#^kU    1 CC     -1.04500000
 &</@0    1 AIR
 o}	bj!h]N    2 RAO    200.00000000     100.00000000       0.00000000       0.00000000
 &?uzJx~    2 CV      0.0000000000000   TH      0.00000000 AIR
 ?45K%;.9Q    2 AIR
 -jklH/gF\%  END
 2={K-s20    D7n&9Z  RSOL 10 20 2 0 123                                                                         
 B 7x"ef   PLOT 
 e!L	sc3@                                                                                       l{%Op\  BLUE                                                                                       
 x u\/]f)  PUP 1 200
 iNaC ZC   b(.o|d /P  OBI INDEX 0 1                                                                             
 l[!C-Tq  TRACE P 0 0 200 
 !W6	    5p(t")  OBI INDEX 0 0
 q>Ar.5&M_  RED
 R`<{W(J;r  TRACE P 0 0 200 
 AS/\IHZ\   LRLhS<9  OBI INDEX 0 -1
 {f6A[ZO; J  GREEN
 n"Z,-./m  PUPIL 1 200
  nd*!`P  TRACE P 0 0 200                                                                         
 dBi3ZCAF  END 
 c^q	O@%s   _dRn0<#1(k   LI5cUCl
 _dRn0<#1(k   LI5cUCl  评估光线分布的方法:
 1 _:1/~R1  1.查看在最终表面上的足迹图
 Q Kuc21  在Edit Window中输入:
 O(WMTa'%   NVM2\fs  PUPIL 1 400
 pdXgr)Uv  RED
 =[CS2VQ'  OBI IND 0 0                                                                              
 $SD@D6`lL  PLOT 2 1 0 0                                                                            
 E&Zx]?~  TRACE P 0 0 400 
 \T#(rt\j  OBI IND 0 1
 !h~#L"z  BLUE 
 %lq7; emtp  TRACE P 0 0 400
 ;*$8iwBQ_  OBI IND 0 -1 
 ?28G6T]/?d  GREEN
 @#O|  TRACE P 0 0 400                                                                          
 d	.lu  END 
 OM&\Mo   vp}>#&   ]ge^J3az$u   1k70>RQ&69
 vp}>#&   ]ge^J3az$u   1k70>RQ&69  2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像
模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。
 
Dg2#Gv0B   -|iA!w#31  OBI INDEX 0 1
 G^eFS;  GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS
 i|! 9o:  OBI INDEX 0 0
 k=q%FlE  GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
 R~mMGz  OBI INDEX 0 -1
 RBp(dKxM$w  GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
 {bsr
9.k(    WaZ@  FOR RECTANGLE
 tS.b5$Q  SIZE 5 5
 J*4_|j;Z-E  VARY Y POSITION FROM -50 TO 50
 d=u%"36y  PLOT
 UBk
5O&  这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形
探测器从下到上对其进行检查。
 "u$]q1S   )<&CnK   
8 $*cfOC
 )<&CnK   
8 $*cfOC  3.使用另一个特性 
照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面
光束的均匀性。
 6"c!tJc7j  输入格式:
 'rx,f
   9g,L1	W*
 9g,L1	W*