举例:设置三个光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双曲面。声明该系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。 "M!]t,?S
RLE Ct<]('Hm(
ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE w!eY)p<
WAVL .6562700 .5875600 .4861300 z|$M,?r'
APS 1 m4r<=o
GLOBAL TFAd
NOSEQUENTIAL tgVMgu
UNITS MM ;xl0J*r
OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3 N*`qsv0
0 AIR (k^o[H F
1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000 N;q)[Dr
1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000 ;Zy[2M
1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR L+X:M/)
1 CC -1.04500000 Due@'
1 AIR F+SqJSa
2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000 A`:a
T{j
2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR
I !J'
2 AIR 0g`$Dap
END FPE%h=sw
w$DHMpW'
RSOL 10 20 2 0 123 mz|p=[lR|
PLOT KjNA PfL
4Jf9N'
BLUE X5tx(}j
PUP 1 200
'N3)>!Y:8
% aqP{mOO
OBI INDEX 0 1 6dncUfB
TRACE P 0 0 200 (2ZkfN
<2SWfH1>
OBI INDEX 0 0 %XBMi~
RED dSI<s^n
TRACE P 0 0 200 ictV7)
)`BKEaf
OBI INDEX 0 -1 }n( ?|
GREEN !$hi:3{U,
PUPIL 1 200 1{AK=H')
TRACE P 0 0 200 o/6VOX
END SU5O+;{`'
EeR} 34
\c}pzBFd
评估光线分布的方法: WDi2m"
1.查看在最终表面上的足迹图 PbnAY{J
在Edit Window中输入: U,K=(I7OBX
\^1S:z
PUPIL 1 400 fKW)h?.Kd
RED Sh2BU3
OBI IND 0 0 +[rQf<*
PLOT 2 1 0 0 b_X&>^4Dkl
TRACE P 0 0 400 *XOLuPL>6)
OBI IND 0 1 ^
-4~pDv^
BLUE 7$*X
TRACE P 0 0 400 EsS$th)d
OBI IND 0 -1 (6Ciqf8
GREEN nb.|^O?
TRACE P 0 0 400 n?778Wo}
END k<|}&<h
GC~nr-O
u].7+{
k1.%ZZMM
2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。 nV`U{}x
? G`6}NP
OBI INDEX 0 1 K)9Rw2-AJ
GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS UM/!dt}DnF
OBI INDEX 0 0 2EOx],(|
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS {- &`@V
OBI INDEX 0 -1 TlowEh8r
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS G
c\^Kg^#
I~;w Q
FOR RECTANGLE n@L@pgo%~
SIZE 5 5 %Zp|1J'"
VARY Y POSITION FROM -50 TO 50 ve+bR
PLOT %fnG v\uI
这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形探测器从下到上对其进行检查。 _, E/HAX
l5 ]
9Z2 1|5
3.使用另一个特性 照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面光束的均匀性。 >C19Kie72
输入格式: U.5R3z
%E5b}E#