举例:设置三个光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双曲面。声明该系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。 _AFQ >j
RLE OS-sk!
ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE ~C-,G"zw&G
WAVL .6562700 .5875600 .4861300 9'?se5\
APS 1 v,=v
GLOBAL !\FkG8
NOSEQUENTIAL }bH$O%
UNITS MM As~(7?]r
OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3 xl(@C*.sC1
0 AIR =pcF:D#+
1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000 G O{.9_2
1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000 ndink$
1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR !v|FT.
T`
1 CC -1.04500000 -&|:0#@P
1 AIR {o0qUX>[
2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000 CS 8jA\
2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR *)<B0SjT
2 AIR l.`u5D
END ZrO!L_/
*4S-z&,.c
RSOL 10 20 2 0 123 Fk"Ee&H)(
PLOT :Zt2'vcGpf
a2w T6jY
BLUE -#In;~
PUP 1 200 F(5hmr
?YQPlv:<o.
OBI INDEX 0 1 R\mR $\cS
TRACE P 0 0 200 ]5Qy
26 I
OBI INDEX 0 0 Aw5pd7qKL
RED R'}95S<
TRACE P 0 0 200 HDVW0QaMu
cc}Key@D
OBI INDEX 0 -1 q5x[~]?
GREEN 7 <9yH:1
PUPIL 1 200 l[Q:}y
TRACE P 0 0 200 +k\Uf*wh
END 4dawg8K`9
1PH:\0}
vxFTen{-F
评估光线分布的方法: 6E~g# (8
1.查看在最终表面上的足迹图 G7GZDi
在Edit Window中输入: )+P]Vf\jH
JL=U,Mr6
PUPIL 1 400 7F^#o-@=J
RED '3 33Ctxy
OBI IND 0 0 =<}<Ny
PLOT 2 1 0 0 gF?[rqz{
TRACE P 0 0 400 "_|oW n
OBI IND 0 1 @"-</x3o
BLUE 1Xu?(2;NF
TRACE P 0 0 400 m: n`g1
OBI IND 0 -1 h4|i%,f
GREEN : _e#
TRACE P 0 0 400 #Z+i~t{e(
END vhbDb)J
o+w;PP)+=
W%<LTWOc
b-ll
2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。 KWAb-yB
Kt@M)#
OBI INDEX 0 1 $rIoHxh. y
GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS [.se|]t7X
OBI INDEX 0 0 X cr
=
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS ,.iRnR
OBI INDEX 0 -1 %^sTU4D5
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS j/=iMq
**9x?s
FOR RECTANGLE pl@O
N"=[
SIZE 5 5 Q!-
0xlx
VARY Y POSITION FROM -50 TO 50 7C#`6:tI
PLOT `&\Q +W
这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形探测器从下到上对其进行检查。 valtev0<
JB!:JML
`E+Jnu,jC
3.使用另一个特性 照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面光束的均匀性。 =qN2Xg/
输入格式: zp\8_ U@
S$KFf=0