举例:设置三个
光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双
曲面。声明该
系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置
光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。
k80!!S=_> RLE
31n|ScXv ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE
;+4X<)y*> WAVL .6562700 .5875600 .4861300
wVY;)1? APS 1
OCYC
Dn GLOBAL
"RM vWuNt NOSEQUENTIAL
W.VyH|? UNITS MM
)0xEI OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3
=[G) 0 AIR
AlQ 1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000
N6*v!M+ 1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000
+Y|HO[ 1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR
Trwk9 + 1 CC -1.04500000
Rhil]|a/ 1 AIR
Mv^G%zg2 2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000
?UV^6 2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR
{;j@-=pV 2 AIR
sKuPV END
+jpC%o}C Dt8wd,B RSOL 10 20 2 0 123
9\[A%jp#K@ PLOT
x8wal[6 n*U+jc BLUE
7]6HXR @ PUP 1 200
g w`}eA$ 9dXtugp| OBI INDEX 0 1
=D6H?K-k! TRACE P 0 0 200
g&6O*vx j2"Y{6c OBI INDEX 0 0
9X PQ1LSx RED
hr] :bR TRACE P 0 0 200
0kB!EJ<OdG 9Ucn
6[W OBI INDEX 0 -1
Obm@2;^g6 GREEN
UCP4w@C PUPIL 1 200
Cq, hzi- TRACE P 0 0 200
CF k^(V" END
wc5OK0|
DG
$._ !.ot&EbE 评估光线分布的方法:
=w&<LJPJ 1.查看在最终表面上的足迹图
1@Zjv>jy[ 在Edit Window中输入:
M1f^Lx }uE8o"q
PUPIL 1 400
,lly=OhKb RED
(~>L \]! OBI IND 0 0
+=bGrn>h PLOT 2 1 0 0
=7c1l77z TRACE P 0 0 400
_,M:"3;Z OBI IND 0 1
iEf6oM BLUE
ZP&"[_ TRACE P 0 0 400
cn4CK.? OBI IND 0 -1
' 1aU0< GREEN
S6sw) TRACE P 0 0 400
U-#t&yjh# END
o(/(`/
Y+#e| x KR6*)?c` YJ`[$0mam 2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像
模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。
G/Xa`4"_ 43;@m}|7$ OBI INDEX 0 1
Y@S?0 GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS
|WB<yA1 OBI INDEX 0 0
.FnO GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
nJ|8#U7 OBI INDEX 0 -1
q(Y<cJ?X GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
w\'Zcw,d ^#R-_I FOR RECTANGLE
=Po!\[SBU SIZE 5 5
[Pdm1]":( VARY Y POSITION FROM -50 TO 50
_|ucC$* PLOT
In0kP" 这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形
探测器从下到上对其进行检查。
JqO#W1h~R|
w49Wl>M |Mp_qg?g 3.使用另一个特性
照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面
光束的均匀性。
<)zh2UI 输入格式:
h@72eav3+
X?b]5?K;r