举例:设置三个
光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双
曲面。声明该
系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置
光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。
U>bIQk"4 RLE
>9i>A: ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE
/0Qo( WAVL .6562700 .5875600 .4861300
*qAG0EM| APS 1
o"z;k3(i$7 GLOBAL
wq!9wk9 NOSEQUENTIAL
f8=qnY2j UNITS MM
W/ WP }QM OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3
VAUd^6Xdwx 0 AIR
xfC$u`e= 1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000
T5e#Ll/ 1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000
2G!z/OAj 1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR
2EN}"Du]mj 1 CC -1.04500000
`.3.n8V 1 AIR
,{msJyacmR 2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000
:oC;.u<*8 2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR
*zDDi(@vtK 2 AIR
|O'*CCrCL END
*n#
=3D "lC>_A
RSOL 10 20 2 0 123
-%P}LaC< PLOT
S?a4IK ^`aw5 +S BLUE
?p 4iXHE PUP 1 200
s'l|Ii .f;@OqU OBI INDEX 0 1
E4Ez)IaKyi TRACE P 0 0 200
+|8.ymvm Dd/]?4 OBI INDEX 0 0
< .e4 RED
xx7&y!_ TRACE P 0 0 200
%hZX XpuO vdB2T2F OBI INDEX 0 -1
(JnEso-V GREEN
}Y!s:w# PUPIL 1 200
Jg{K!P|i TRACE P 0 0 200
E]g6|,4~- END
@p^EXc*|
LikCIO _y>drvg 评估光线分布的方法:
F$1{w"& 1.查看在最终表面上的足迹图
!TY0;is 在Edit Window中输入:
S% Ky+0 1=sL[I 7< PUPIL 1 400
AFvv+
ss RED
ot!m=s OBI IND 0 0
z[R
dM#L PLOT 2 1 0 0
n@"<NKzh TRACE P 0 0 400
&2 *
OBI IND 0 1
COw!a\Jl BLUE
t]]Ig TRACE P 0 0 400
|JWYsqJ0U OBI IND 0 -1
wxj}k7_(`A GREEN
DrAIQ7Jd TRACE P 0 0 400
zw$\d1-+h END
KU0Ad);e
SAf)#HXa \dE{[^.5 kjdIk9 Y 2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像
模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。
w\N\J^5,Q B~qo^ppVU OBI INDEX 0 1
8f)pf$v` GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS
H_x}- OBI INDEX 0 0
r)Zk- !1 GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
/?XI,#j3kM OBI INDEX 0 -1
52Dgul GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
[P ;fv }0@@_Y]CC FOR RECTANGLE
u(f;4` SIZE 5 5
QXL .4r% VARY Y POSITION FROM -50 TO 50
P0hr=/h4 PLOT
n4 N6]W\5 这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形
探测器从下到上对其进行检查。
S>*i\OnI'
F9%+7Op^ ohJDu{V 3.使用另一个特性
照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面
光束的均匀性。
y x#ub-A8 输入格式:
$MNJsc^n
g=qaq