举例:设置三个
光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双
曲面。声明该
系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置
光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。
(`k0tC2 RLE
KFkKr>S: ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE
#|
`W ] WAVL .6562700 .5875600 .4861300
3YR6@*!f/ APS 1
=oV8!d%] GLOBAL
c1'OIK C NOSEQUENTIAL
h3h2 KqM' UNITS MM
j,8*Z~\5 OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3
'{@hBB+ D 0 AIR
#'mb9GWD3 1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000
7,d^?.~S 1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000
KCGs*kp> 1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR
sf2_x>U1 1 CC -1.04500000
r3mB"("Z' 1 AIR
qDxz`}Ly= 2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000
&%ej=O 2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR
#9,!IW]l 2 AIR
E%:!* 9 END
R)?K+cJ% yYkk0 3 RSOL 10 20 2 0 123
,]w-!I PLOT
MGCwT@P KwlN BLUE
DQDt*Uj, PUP 1 200
3/H^YM
@ J/pW*G-U| OBI INDEX 0 1
NDm@\<MIzB TRACE P 0 0 200
h6c8hp. ~Us1F=i_Q OBI INDEX 0 0
if9I7@ RED
dJ"3F(X TRACE P 0 0 200
X4>c(1e |{k;pfPV OBI INDEX 0 -1
l!ltgj GREEN
LDN'o1$qo PUPIL 1 200
e!URj\* TRACE P 0 0 200
L}ud+Wfox END
Q*+@"tk<
I1=YSi;A T
{a%:=` 评估光线分布的方法:
s03DL 1.查看在最终表面上的足迹图
@I2m4Q{O 在Edit Window中输入:
Xw!eB?A DZ?>9W{ PUPIL 1 400
;TD<\1HJT= RED
aSi:(w OBI IND 0 0
W78Z<Vm PLOT 2 1 0 0
:Qh5ZO&G0 TRACE P 0 0 400
ICo_O]
Ke OBI IND 0 1
7
a !b} BLUE
<1.].A@b* TRACE P 0 0 400
|tP1,[w"> OBI IND 0 -1
)zlksF GREEN
+?zyFb]Km TRACE P 0 0 400
Jxi>1 END
eXx6b~D
-q[T0^eS F IDNhu J)Dw` =O0n 2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像
模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。
?|Fu^eR%X ,Ej2]iO\7 OBI INDEX 0 1
8)&yjY GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS
lSC3m=4g OBI INDEX 0 0
2w)0>Y(_ GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
Mii-Q`.: OBI INDEX 0 -1
64z9Yr@ GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
JXUnhjB,B *Af]?-|^{# FOR RECTANGLE
Gy.<gyK9 SIZE 5 5
{H#1wu^]O$ VARY Y POSITION FROM -50 TO 50
Za}*6N=?* PLOT
f/H rO6~k% 这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形
探测器从下到上对其进行检查。
?t$sju(\
`sQ\j Nu .%+'Ts#ie 3.使用另一个特性
照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面
光束的均匀性。
PvBx<i}A 输入格式:
h']RP
ag]b]K