举例:设置三个
光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双
曲面。声明该
系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置
光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。
*CtOQ RLE
UfnjhHu ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE
Una7O] WAVL .6562700 .5875600 .4861300
c~a:i=y67 APS 1
MxO0# GLOBAL
5&\% NOSEQUENTIAL
8QN#PaY UNITS MM
as?~N/} OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3
$($26g 0 AIR
ErNL^Se1 1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000
se1\<YHDS 1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000
' s6SKjZS 1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR
ah\yw 1 CC -1.04500000
^%V^\DK 1 AIR
'% $)"g]/# 2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000
w{1DwCLKq 2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR
b]Xc5Dp{ 2 AIR
*uq;O*s END
t_PAXj G92Ya^` RSOL 10 20 2 0 123
6WEYg PLOT
2/K38t'- 6ZCSCBW BLUE
V~>
x\ PUP 1 200
A[F tPk{k "r Bb2. OBI INDEX 0 1
z+>FKAF TRACE P 0 0 200
k<098F M}]E,[ OBI INDEX 0 0
YM*{^BXp RED
)!:}R}q TRACE P 0 0 200
]YP J.[n D)ZGTq`( OBI INDEX 0 -1
',o ,o%n GREEN
8%qHy1 PUPIL 1 200
j`GL#J[wqQ TRACE P 0 0 200
G{,X_MZ% END
[YQVZBT|{
u/5^N^@^ XANPI| 评估光线分布的方法:
,,hW|CmN30 1.查看在最终表面上的足迹图
&>
Myf@ 在Edit Window中输入:
FOA y'76p iB =R PUPIL 1 400
&jh'B , RED
6tC0F= OBI IND 0 0
BM_hW8&G PLOT 2 1 0 0
C 'YL9r-G TRACE P 0 0 400
]chfa OBI IND 0 1
a9h K8e BLUE
aXAV`%b TRACE P 0 0 400
\J>a* OBI IND 0 -1
h JVy-] GREEN
<<,YgRl2 TRACE P 0 0 400
Oq-O|qJj END
i$GL]0
T2Q`Ax7 KiXRBFo \>b
: 2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像
模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。
\OV><|Lkh 8<gYB$* S OBI INDEX 0 1
u|v2J/_5Y GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS
$IZ02ZM$ OBI INDEX 0 0
K"%_q$[YQ GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
g%P6 f OBI INDEX 0 -1
T}%8Vlt] GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
\yIan<q $e
bx FOR RECTANGLE
e}
=tUdDf SIZE 5 5
MGt[zLF9 VARY Y POSITION FROM -50 TO 50
;}iV`)S PLOT
?C%mwW3pc 这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形
探测器从下到上对其进行检查。
C,2k W`[V
'<}N`PS#N &!|' EW 3.使用另一个特性
照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面
光束的均匀性。
FaNr}$Pe 输入格式:
381a(F[$e
l :e&w(1H