举例:设置三个光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双曲面。声明该系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。 %tu{`PN<
RLE 5G2u(hx
ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE 1k hwwoo
WAVL .6562700 .5875600 .4861300 q`\lvdl
APS 1 |l~ADEg
GLOBAL `SU;TN0
NOSEQUENTIAL ](W#Tj5-
UNITS MM BujWql
OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3 . XY'l
0 AIR )dvOg'it
1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000 4@VX%5uy
1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000 tF;aB*
1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR
bhgh
]{
1 CC -1.04500000 y"]> Rr
1 AIR n^A=ar.
2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000 Pgo5&SQb
2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR Ex Qld
2 AIR .p5*&i7
END 6suc0
Obd!
RSOL 10 20 2 0 123 @<AIPla
PLOT ?K]k(ZV_+Y
7X.1QSuE
BLUE LQS*/s0
PUP 1 200 Ylf 6-FbF
i<T`]g
OBI INDEX 0 1 xq]&XlA:ug
TRACE P 0 0 200 iUO5hdOM
^a]i&o[c
OBI INDEX 0 0 Tu"yoF
RED *R:nB)(6<
TRACE P 0 0 200 I/(`<s p
0q3:"X
OBI INDEX 0 -1 7z$+ *]9-
GREEN 7,jqA"9
PUPIL 1 200 :')<|(Zy
TRACE P 0 0 200 XYn$yR\dj
END
$SDx)
'!
="4jk=on
}Jc^p
评估光线分布的方法: B U)4g[4
1.查看在最终表面上的足迹图 c=K M[s.
在Edit Window中输入: :r6
bw
^=@%@mR/[C
PUPIL 1 400 .=NK^
RED c]O4l2nCL
OBI IND 0 0 }`eeIt I+
PLOT 2 1 0 0 ,p2
Di
TRACE P 0 0 400 %AJdtJ@0H
OBI IND 0 1 @!Pq"/
BLUE H@6
TRACE P 0 0 400 ~p8!Kb6
OBI IND 0 -1 /RMep8&
GREEN }{ P}P}
TRACE P 0 0 400 5yQgGd)
END vz _U
!nd*U}q
sI.Ezuw
|_A35"v
2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。 U@*z#T#"m
"44X'G8N
OBI INDEX 0 1 c2i^dNp_
GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS xo*a9H?@
OBI INDEX 0 0 n.T
[a
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS Io:xG6yG
OBI INDEX 0 -1 }X`K3sk2/z
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS sPhh#VCw{
@U9ov >E
FOR RECTANGLE #A|MNJ%m
SIZE 5 5 h;Bol
VARY Y POSITION FROM -50 TO 50 'tdjPdw
PLOT -W oZwqh
这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形探测器从下到上对其进行检查。 >97V2W
)QKZI))G0
>y az
3.使用另一个特性 照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面光束的均匀性。 /1^%32c
输入格式: +Oxl1fDf
Y`_6Ny="