举例:设置三个
光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双
曲面。声明该
系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置
光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。
GFd~..$ RLE
lk8g2H
, ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE
JJJlgr]#
WAVL .6562700 .5875600 .4861300
gIrVrAV# APS 1
Fhw:@@= GLOBAL
}}Ah-QU NOSEQUENTIAL
!%b.k6%>w UNITS MM
[OFg
(R- OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3
NQefrof 0 AIR
[OJ@{{U% 1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000
^)=c74;; 1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000
X;ef&n`U0 1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR
"-JJ6Bk 1 CC -1.04500000
.Lz\/ OS 1 AIR
PZ2$ [s0W 2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000
<]I[|4J 7 2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR
)2T?Z)"hO 2 AIR
bv$g$ END
Hb5^+.xur cQEK>aAd RSOL 10 20 2 0 123
~?&;nTwHe PLOT
rqk1 F~j| w :2@@)pr BLUE
tK)E*! PUP 1 200
TA; =mV1jGqX OBI INDEX 0 1
|__\Vn TRACE P 0 0 200
1c);![O ^44AE5TO OBI INDEX 0 0
hKv3;jcd RED
*=i|E7Irg TRACE P 0 0 200
($:s}_<>s m}w~ d / OBI INDEX 0 -1
J^[>F{8!n GREEN
C!xq p
PUPIL 1 200
hEAt4z0P TRACE P 0 0 200
Rb=T'x' END
g[fCvWm#d
J =o,: 3" g/ONr,l`- 评估光线分布的方法:
n1K"VjZk 1.查看在最终表面上的足迹图
X8l[B{| 在Edit Window中输入:
W 0^.Dx n[4F\I> PUPIL 1 400
-;=0dfC( RED
tcOgF: OBI IND 0 0
#W[/N|~wx PLOT 2 1 0 0
xC;b<~zN TRACE P 0 0 400
9`4mvK/@ OBI IND 0 1
b['Jr% "O BLUE
+=#sam*i TRACE P 0 0 400
1<a+91*=e OBI IND 0 -1
t4)~A5s GREEN
qPsf`nI7 TRACE P 0 0 400
r@L19d)J END
pk2OZ,14Mj
`Q?rQ3A} Cv{>|g# :-HVK^$% 2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像
模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。
(Qmpz ~oO>6 OBI INDEX 0 1
|x*~PXb GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS
-g8G47piX: OBI INDEX 0 0
+O
P8U]~ GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
b||
c^f
OBI INDEX 0 -1
'Ba Ba= GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS
e"HA.t[A
g[<K FVlG FOR RECTANGLE
]pi"M3f_ SIZE 5 5
F9(*MP| VARY Y POSITION FROM -50 TO 50
W0%cJ8~ PLOT
$ )q?z.U 这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形
探测器从下到上对其进行检查。
V+My]9ki
|fX
@o0H mX))*e4k 3.使用另一个特性
照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面
光束的均匀性。
3u +A/ 输入格式:
%>^CD_[eO
4PG]L`J{