举例:设置三个光源,每个光源包含在一个圆锥体中,该圆锥体被建模为一个半径非常短的双曲面。声明该系统为NOSEQUENTIAL,因此可以看到在圆锥体内发生多次反射。使用默认光瞳模式(PUP 1),设置光线数为200;使用三种不同颜色追迹三个光源的光线,追迹光线数为200,来绘制一个旋转实体图。 9vP;i= fr
RLE W+;=8S
ID NONSEQUENTIAL OBI EXAMPLE 3"m]A/6C}
WAVL .6562700 .5875600 .4861300 2Snb+,o2
APS 1 mH\zSk
GLOBAL Uk] jy>7;!
NOSEQUENTIAL x)=l4A\
UNITS MM [ne51F5_
OBI -5. 0.5 80. 14. 14. 1 3 FWJ**J
0 AIR 3v\P6
1 CAO 6.00000000 0.00000000 0.00000000 5H.~pc2y
1 CAI 0.26400000 0.00000000 0.00000000 w^Y/J4 I0
1 RAD 0.0020000000000 TH 100 AIR [hSJ)IZh
1 CC -1.04500000 h#Z["BG
1 AIR aC`>~uX##V
2 RAO 200.00000000 100.00000000 0.00000000 0.00000000 VIdKe&,
2 CV 0.0000000000000 TH 0.00000000 AIR i[9yu-
2 AIR jUM'f24
END Mq<ob+
|hxiARr4
RSOL 10 20 2 0 123 dJ
I }uQ
PLOT Y
f!O o
xjr4')h
BLUE !DOyOTR&3
PUP 1 200 _|["}M"?
vN^.MR+<
OBI INDEX 0 1 >I\B_q
TRACE P 0 0 200 }(8>&
2, )>F"R
OBI INDEX 0 0 m|W17LhW{
RED V3ozaVk;
TRACE P 0 0 200 '>t&fzD0
&PE%tm
OBI INDEX 0 -1 K7`6G[RMb
GREEN F8Ety^9>9
PUPIL 1 200 d~qQ_2M[G
TRACE P 0 0 200 F:q4cfL6
END sR1_L/.
]uox ^HC
vcdVck@
评估光线分布的方法: 0]bt}rh
1.查看在最终表面上的足迹图 qZ^
PC-
在Edit Window中输入: =(
|%%,3
D<69xT,
PUPIL 1 400 fYjmG[4
RED y/\b0&
OBI IND 0 0 +Mq\3
PLOT 2 1 0 0 '(@q"`n
TRACE P 0 0 400 K1hkOj;S
OBI IND 0 1 ns>$
BLUE 3`yO&upk
TRACE P 0 0 400 3h:~NL
OBI IND 0 -1 X3G593ts
GREEN S?b&4\:
TRACE P 0 0 400 2>9\o]ac4
END 3eE=>E4,
[tkx84M8
}y6@YfV${
V?S}%-a
2.查看光线密度随位置的变化。必须首先使用GMODEL或DMODEL创建图像模型,再使用FOR...PLOT程序进行图像分割。 zA9q`ePS
G^t)^iI"'
OBI INDEX 0 1 ^nNY|
*
GMODEL P 0 9000 1 0 0 AXIS (|<S%?}J
OBI INDEX 0 0 Zb=NcEPGy
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS Bza<.E=
OBI INDEX 0 -1 R 9`[C
GMODEL P 0 9000 1 0 ADD AXIS `{!A1xKZ
L@GICW~
FOR RECTANGLE ?YR;o4
SIZE 5 5 B-N//ef}
VARY Y POSITION FROM -50 TO 50 ((A@VcX
PLOT #aL.E(%
这里,为每个光源创建了一个光线图的复合几何模型。然后通过一个尺寸为5x5的矩形探测器从下到上对其进行检查。 y\^zxG*]'
"b`#RohCi
VQpt1cK*
3.使用另一个特性 照明模式(IPAT),它会绘制最终表面的照明图案,以便检查最终表面光束的均匀性。 ]|g2V
a~-
输入格式: jdG2u
p
'O)v@p "