切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 2123阅读
    • 0回复

    [原创]扩展DOE面型设计（曲面基底） [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线asdoptics
    工程师
     
    发帖
    311
    光币
    2493
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-04-04
    :vS/Lzk  
    SYNOPSYS提供了多种DOE设计面型：如简单DOE，扩展DOE面型，三层DOE设计，两层DOE面型设计等等，这里显示的曲面基底的DOE设计。 Gw6Od j  
    详细可以参见软件的用户手册USS面型25：Extended Simple DOE t"~X6o|R  
    案例如下： %k"hzjXAw  
    RLE bz,"TG[  
    IDUSS 25 TEST KB^GC5L>  
    OBB0 1 10 T gLr4Ex  
    UNIMM JvCy&xrE;  
    WAVL.5 23+JuXC6>  
    cF iTanu  
    1TH 1 GTB S 2>J;P C[;  
    BK7 D4@(_6^  
    2YMT 0 1x sJz^%V  
    U(~Nmo'  
    1USS 25 +,T}x+D  
    CWAV.5 kA2)T,s74  
    1XDD 1 5 $j!:ET'V  
    nc.P  
    3 Q2m 5&yy@s  
    END
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表