切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 Zemax光学设计从基础到实践 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) ZEMAX光学系统设计实战
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 1448阅读
    • 0回复

    [原创]扩展DOE面型设计（曲面基底） [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线asdoptics
    工程师
     
    发帖
    311
    光币
    2454
    光券
    0
    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2020-04-04
    *j=58d`n  
    SYNOPSYS提供了多种DOE设计面型：如简单DOE，扩展DOE面型，三层DOE设计，两层DOE面型设计等等，这里显示的曲面基底的DOE设计。 e,d}4 jy  
    详细可以参见软件的用户手册USS面型25：Extended Simple DOE rjj_]1?K  
    案例如下： HD3WsIim*  
    RLE 3Pp+>{2_?  
    IDUSS 25 TEST 'Ydr_Ses  
    OBB0 1 10 KK{_s=t%<  
    UNIMM CH q5KB98+  
    WAVL.5 RJKi98xwJ  
    7U-}Y  
    1TH 1 GTB S p'6XF{  
    BK7 6:AEg  
    2YMT 0 cc>b#&s  
    "zkQu  
    1USS 25 eI-SWwmv/u  
    CWAV.5 My Ky*wD  
    1XDD 1 5 ,*YmXR-"  
    vif)g6,  
    3 hwA&SS  
    END
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表