芯片焊接的失效机理

发布:探针台 2020-01-17 11:25 阅读:2490
目的:芯片与管座牢固粘结 cL31g_u  
要求:芯片与管座之间形成良好的欧姆接触并有良好的导电性。 m3Mo2};?  
方式:银浆烧结,合金(共晶)粘结,导电胶烧结,环氧树脂粘结,高温聚酰亚胺粘结。 Tr}z&efY  
=o N(1k^  
对于银浆烧结: v'R{lXE  
1,银浆问题 ?xftr(  
2,杂质问题 A 1b</2  
3,硅的氧化及镀镍,镀银的不良。 DuESLMhz  
4,银浆与基材结合力差引起的问题。 \rXmWzl{  
BMubN   
对于合金粘结: 8nt3S m  
1,金-铅系统 $;kFuJF  
2,锡-铅系统 Q5[x2 s_d  
&|/@;EA$8  
引线键合的失效机理: )?5027^  
+iS'$2)@  
引线键合的主要方法: T:v.]0l~  
   热压焊,超声焊,面键合。 ;kSRv=S  
引线:铝-铝超声焊,金-铝热压焊(包括楔形和球焊) Wo&WO e  
G.2\Sw  
工艺问题。金属互化物使金铝系统失效。 } tq  
热循环使引线疲劳。沾污造成引线腐蚀而开路。 y^PQgzm]  
内涂料开裂造成断丝。压焊应力过大造成失效。 h |Ofi  
外引线的失效。 12 8aJ  
cB$OkaG#  
开短路的可能原因: $w,?%i97  
-^1}J  
封装工艺方面 F52%og~N  
  表现为断丝,塌丝,碰丝,内引脚相碰,点脱,球脱,球飘等。占封装造成开短路的90%以上。 9((BOq  
'eyzH[l,(  
芯片表面水汽吸附。 fQW1&lFT  
钝化层不良。 |PGF g0li  
芯片氧化层不良。 mf~Joluc J  
内应力使芯片产生芯裂,金属化层断裂,或金丝脱落。 \a<7DTV  
电迁移。 `,lm:x+(0  
[ B{F(~O  
铝硅共溶。 [Lck55V+Q  
金属间化合物。 {Ad4H[]|]  
芯片焊接疲劳。 b 7XTOB_HO  
热不匹配。 / @v V^!#1  
外来异物。 X;e=d+pw  
氧化层台阶处金属膜断路。
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