我国科学家成功研制超平整石墨烯薄膜
近日,由南京大学物理学院高力波教授团队领衔,协同学院四个青年学者团队,以“质子辅助生长超平整石墨烯薄膜”为题,在《自然》杂志上发表了将质子辅助生长用于高质量石墨烯制备的研究成果。这项工作,不仅探索出了一种可控生长超平整石墨烯薄膜的方法,更为重要的是,该团队还发现了这种生长方法的内在机制,即质子辅助,这种方法有望推广到柔性电子学、高频晶体管等更多重要的研究领域。 据悉,该成果所涉及的化学气相沉积方法(CVD)生长石墨烯,是目前制备大面积、高品质单晶晶粒或者薄膜的最主要方法。然而,由于石墨烯与基质材料能够产生强耦合作用,使得石墨烯在生长过程中会形成褶皱。这一现象严重限制了大尺度均一薄膜的制备,阻碍着二维材料的进一步发展应用。 “CVD石墨烯中的褶皱是影响其物性的重要瓶颈。”高力波告诉记者,CVD石墨烯中的褶皱,来源于石墨烯与生长基体的热胀率差异,石墨烯生长于铜或者铂等生长基体,生长温度多在600度以上,生长完成后降至室温便引起石墨烯的褶皱。褶皱的存在,会影响石墨烯的优良特性,然而,究竟在多大程度上能够影响其性能,并没有完整的对比数据。“如何彻底地消除褶皱,并制备出超平整的石墨烯薄膜,逐渐成为其品质跨越式提升的重点和难点。”高力波说道。 研究团队尝试过多种消除褶皱的方法,但效果都不尽如人意,仅剩下减弱石墨烯与生长基体之间耦合作用的唯一途径。在总结大量实验的基础上,高力波团队发现,高比例的热氢气(H2),会在一定程度上,弱化石墨烯与生长基体之间的耦合作用。同时,研究人员通过理论模拟发现,处在石墨烯与铜基体之间的氢,在大浓度、高温的条件下,可以起到减弱二者耦合的作用。在热氢气的组分中,质子和电子可以自由穿梭于石墨烯的蜂窝状晶格。因此,研究人员推测,质子在穿透石墨烯后,有一定概率会再次与电子组合成氢。 |