摘要
Y !?'[t TxX =(7V 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
j,.\QwpU 3 r& K]hp-QK< l4>^79* * 建模任务
T#))_aC d9K8[Q5^3 `ePC$Ovn 概述
Nc;O)K!FH ;V
xRaj? •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
,%M[$S' •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
K:wI'N"N /ad9Q~nJ =l/6-j^ !sb r!Qt 光线追迹仿真
cCe~OlXQ AcC &Q:g •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
"8xAe0-4 •单击go!
i[o 2(d, •获得了3D光线追迹结果。
1~5DIU^ xu2KEwgb 23s;O)) iwotEl0*{ 光线追迹仿真
S#7YJ7
K"N 'X^auyL •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
aD^$v •单击go!
eTiTS*`u •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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G`8::S 9iA rBL" 场追迹仿真
M+)a6g e 1E+12{~m"i •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
'5e,@t%y •单击go!
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z@ g7 \= H@Dpht>[ eb62(:=N6 场追迹仿真(相机探测器)
,_2-Op RkF#NCnL; •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
YX\vk/[| •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
&Y]':gJ O tG\Uw8 '![oLy H iyg1 场追迹仿真(电磁场探测器)
L:z0cvn" •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
xa>| k>I D|]BFu)F eqbN_$> yvAO"43 场追迹仿真(电磁场探测器)
4&/CES v pI9TG •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
Gt w>R uDf<D.+5Ze ,X4e?$7g <W4F`6`x 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ([>ecS@eO -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ]lB zp D B`*,L\LZ* (来源:讯技光电)