摘要
K xh)'aal ,Sghi&Ky 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
vTU"c>] -V_e=Y<J/ r(%#@?& e>sr )M 建模任务
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T HuE( (J $JIPF 概述
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YM •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
kZPj{^c: •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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9bqfZ"6nXY >d#B149 光线追迹仿真
|~#!e}L( *N< 22w •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
/DZKz"N •单击go！
V@e0VV3yx% •获得了3D光线追迹结果。
)Ky 0q-W >SSF:hI"J SYa!IL-B /ExnW >wT 光线追迹仿真
dKZffDTZ O:p~L`o>> •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
YC*S;q •单击go！
'X@j •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
TX*s T T~`m'4"+c AP/tBC eM 6i=m1Yk 场追迹仿真
gLd3,$ Ei X(g<rz1J] •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
R"=G?d) •单击go！
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b aHwrF kn Il*wVNrZI 场追迹仿真（相机探测器）
wR>\5z )^ Gq+!%'][P •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
UAUo)VV i" •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
(fY (- zF\k*B GJ{]}fl 7NoB 场追迹仿真（电磁场探测器）
4`!(M]u= •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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jNrGsIY $ eX;"kO 场追迹仿真（电磁场探测器）
z`f1|Ok m:X;dcq'3 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer Yl>@(tu)| -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination b _cD
>A 3ef]3 （来源：讯技光电）
