摘要
hp V
/F T JS1,3< 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
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?9@Af{b t2 {eN{Zh5 " 建模任务
M`p TT5r -01 1U! 
SliQwm 5 概述
0lr4d Y R${4Q1 •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
JO{-
P •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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>@"3Q` qS }RFM5| 光线追迹仿真
rRrW ZfCr"aL •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
tSc >@Q_| •单击go！
^I~T$YjC ' •获得了3D光线追迹结果。
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=)1YYJTe9 ^ O Xr: P 光线追迹仿真
^npS==Y]!. Iki+5 •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
Sb9=$0%\ •单击go！
m<,G:?RM •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
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A.C278^O8 \g:qQ*. 场追迹仿真
w$[ D s `N WgETf^# •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
+6 M+hO] •单击go！
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] kPX2e h 场追迹仿真（相机探测器）
NRuG?^/}d V_A,d8=lt •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
6|>\&Y!Q •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
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rE{Xo:Cf cYWy\+ 场追迹仿真（电磁场探测器）
P2Qyz}!wo •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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&c<}++'h zhX`~){N6 场追迹仿真（电磁场探测器）
o=RqegL H, XLb. •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 0n<(*bfW -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination `l gjw= Q+!0)pG5# （来源：讯技光电）
