摘要
gl9pgY1ni (]}x[F9l 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
/G)KkBC V8nz-DL{ 6t_ 3%{ !k:zLjtp 建模任务
T^'*_*m %89"A'g {V%%^Zhwy 概述
8L7Y
A)u EFRZ% Y •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
0r0\b*r •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
4aalhy<j vNC$f(cQ
wsf Hd<Z_ r;cI}' 光线追迹仿真
rysP)e B_."?*|w •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
C,|nmlDN •单击go!
C`NBHRa> •获得了3D光线追迹结果。
W(&Go'9e" ;z.6'EYMG -YzQ2#K {WYu0J@ 光线追迹仿真
yD3bl%uZ tA!
M •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
{k_ PMl0G •单击go!
B_SZ?o •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
OX)#F'Sl} 7m|`tjQ1 L,C? gd@" Tn4W\?R 场追迹仿真
!paN`Fz\a ZL4l
(&" •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
6\,DnO •单击go!
,zAK3d&hj }zkL[qu; BKE\SWu CN\|_y 场追迹仿真(相机探测器)
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mf bGZhUEq •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
!dfS|BA] •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
Jh37pI xb4Pt`x)rS <Jwi~I=^ IvEMg2f} 场追迹仿真(电磁场探测器)
t{/:( Nu •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer AI&qU/} -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination #,@bxsB C1h#x'k (来源:讯技光电)