摘要
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gCOr L.HeBeO 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
nq M7Is 3v8LzS3@ gg/`{ !T`oHs 建模任务
1F@j?)( R /+$ : 3Z
b]@n 概述
[8iY0m_Qe )E}v~GW.+ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
+=3=% %?C •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
]q]xU, npdljLN xa~]t<2 W7S~~ 光线追迹仿真
T}#iXgyx 'FErk~}/4s •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
Q\$3l'W •单击go!
}Pcm'o_wT •获得了3D光线追迹结果。
rW{!8FhI .IeO+RDQ j6m;03<| \2\{c1df 光线追迹仿真
2*:q$ c n#(pT3&
•然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
(\AN0_ •单击go!
N,(! •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
p`"k=tZ{ 3Ua?^2l Tuln#<: R;< q<i_l 场追迹仿真
GcBqe=/B! s4|\cY`b- •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
l=~!'1@L} •单击go!
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mq 场追迹仿真(相机探测器)
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>z:= •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
:`bC3Mr •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
aO' #!k*R }p)K6!J0 "=h1gql' x?h/e; 场追迹仿真(电磁场探测器)
')m!48 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
t<H"J__& Pe,>ny^J1 TKDG+`TyZ *6Wiq5M>. 场追迹仿真(电磁场探测器)
{EgSjxfmw i^s Vy •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ":]Xr!e -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination @v-^j RT[p!xL (来源:讯技光电)