摘要
Z8tQ#Pu{ QPg M<ns 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
=@;uDu:Q B25@6 K.G}*uy O]RP ?'vO 建模任务
Ej>5PXp'2 {tMpI\>S B!H46w~ 概述
AB40WCu]* K5No6dsD •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
"P`V|g •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
'S\YNLqQ
<Hl.MS Bh?K_{e _x_om#~n 光线追迹仿真
}Wjb0V .^8 x>~ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
jdiFb~5R •单击go!
E#X1P #$pW •获得了3D光线追迹结果。
Q-fi(UP SDpaW6(_ 1?sR1du, z8FeL5.( 光线追迹仿真
8xzEbRNJ) j4Ppn •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
&PWz4hZ •单击go!
Q]Q]kj2 •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
I)I,{xT4 0G?0 Bo 26 un= +"rZ< i 场追迹仿真
UO$z_
p]w C5m6{Oo+- •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
#aUe7~ •单击go!
.w2X24Mmb fl>*>)6pm rld4uy}m n.P$7%G`2 场追迹仿真(相机探测器)
I_N(e|s\U [4B.;MS( •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
Wo&10S w •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
N)G.^9 }
<; y,4f v[WbQ5AND v+ dt1; 场追迹仿真(电磁场探测器)
bv,_7UOG •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
]^:l?F\h 8" l9W= tgEXX- { i3g;B?54 场追迹仿真(电磁场探测器)
ku q3QW< xo/[,rR •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
}XVz?6 8 St`,Tq) ~jMdM~} %tiFx:F+ 文件信息
$$8xdv# qYZ\<h^ 3{B`[$ cU7 c}?J< 更多阅读
S?*pCJ0 | W:JI -
Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer O{hGh{y -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination =;Gy"F1 dp 'V=w?G
5 (来源:讯技光电)