摘要
Z7hgA-t _/6!yyl 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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X.f>'0i 5qZ1FE 建模任务
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gHJ 0v' 概述
\eT5flC 1m:XR0 P •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
d%RC •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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BGD8w2 $Q96,rb}k; 光线追迹仿真
[z`31F ||hb~%JK6 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
El[)?+;D •单击go!
VEqS;~[ •获得了3D光线追迹结果。
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7=TF.TW)
k.vBj~xU 光线追迹仿真
}Qip&IN &,c``z •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
oX S1QT`B •单击go!
l_P-j96WD •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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hb zC#@q -@yh>8v 场追迹仿真
Pe3@d|-,MU 6r"eN%m •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
B$ajK`x&I •单击go!
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~]pE'\D7Ad CFzNwgv]z 场追迹仿真(相机探测器)
Rot@x r7Hc ~$:|VHl •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
TUV&vz{ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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NdtB1b !sDh4jQ` 场追迹仿真(电磁场探测器)
{QHVo# •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ]ndvt[4L -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination :=/85\P0SU ?WF/|/ (来源:讯技光电)