摘要
*9i{,I@ lHIM}~#;nd 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
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-!9G0h&i| FCn_^l)EA 建模任务
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i 3SHg\~Z 概述
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u3" 8sCv]|cn •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
ei{eTp4HpV •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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4'Zp-k?5` F }q c0 光线追迹仿真
I`p ;F!s "wHFN>5B •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
-PQv ?5 •单击go！
;({W#Wa •获得了3D光线追迹结果。
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*WT`o > /FJu)H..U 光线追迹仿真
V$?SR44>nH pHJ3nHLQ •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
\'bzt"f$j •单击go！
w1DV\Ap* •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
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xZv# Es%# *=c1d o%F 场追迹仿真
:08,JL{ nj53G67y •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
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2|Bg,e •单击go！
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[zM-^ 0_t`%l= 场追迹仿真（相机探测器）
%|i`kYsy :[!j?)%> •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
\K!VNB>h •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
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u-5{U-^_ {jX2} 场追迹仿真（电磁场探测器）
& 9 ?\b7 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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M •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Da&]y }d}Ke_Q0 更多阅读
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer RuVGG) -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination _8_R 1s b 7?hI （来源：讯技光电）
