摘要
3`9{T> Vbh6HqAHxJ 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
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% u?HF4S' Fb2%!0i 建模任务
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QzGV.Mt2 概述
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•案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
e X&Gw{U-f •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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"$p#&W69"J _Bn Tv$.P 光线追迹仿真
9-*NW0 YHxbDf dA •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
]pTvMom$6 •单击go！
Hr;h4J •获得了3D光线追迹结果。
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-_&MD/J .M|>u_<Qd 光线追迹仿真
{I%y;Aab8 bv?0.{Z •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
OKuD" •单击go！
{ } e^eJ •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
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E|Bd>G c $;\i 场追迹仿真
vfvlB[ T!q_/[i ~7 •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
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L'8_ •单击go！
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6DS43AQs -@%%*YI> 场追迹仿真（相机探测器）
y<r}"TAf - W|Ldu;# •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
f~& a- •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
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, j9 80 / 0TE@x qW 场追迹仿真（电磁场探测器）
yM$J52#d# •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer u* R7zY -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination }5S2p@W) +t\^ (SJ 6 （来源：讯技光电）
