摘要
S*h52li U&!TA(Yr 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
w_9^YO!! `+7F H fqNh\~kja 6EqA Y`y 建模任务
wj)LOA0 DeO-@4+qKd Y0LZbT3 概述
pu-HEv}]a| 1'kO{Ge*p: •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
W^(zP/ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
E
C?}iP ewDYu=`* A2_ut6&eb }0'=}BE 光线追迹仿真
`MtzA^X r B}e/MlX3M •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
VUb>{&F[ •单击go!
}LHYcNw^z •获得了3D光线追迹结果。
3Cf9'C w^yb`\$ X Xque- -IPo/?} 光线追迹仿真
wi(Y=?= ]a $6QS •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
r$7. •单击go!
ClG%zE&i •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
PmR].Ohzi v 6 ~9)\!j q+g,?;Yx +8Xjk\Hi 场追迹仿真
|z-f8$ *ap,r&]#F •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
*a9cBl'_ •单击go!
CM6% g f3 6h 0qtXn- ZU4=&K ^T=9j.e'ja 场追迹仿真(相机探测器)
3I)~;>meo bI):-2&s} •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
{u'szO}k •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
[xS7ae f56yI]*N=< c<lp<{; S%SYvA 场追迹仿真(电磁场探测器)
lriezI •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 7HkO:/ -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Z{8%Cln hf`y_H+\7 (来源:讯技光电)