摘要
"w9`cz9a~J X{`1:c'x 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
f\ 'T_ UoHd - EZ/^nG ;?zF6zvQ 建模任务
!3@{U@*Z] drI\iae{^ St+ "ih% 概述
$T?]+2,6; +mLD/gK` •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
"oe!M'aj`1 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
O:._W< Ev{MCu1!6 (n,N8k; @y5= J`@= 光线追迹仿真
_$5@uL{n"^ eIJ[0c b} •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
FfG%C>E6~ •单击go!
modC6d% •获得了3D光线追迹结果。
$it@>L8 e^8BV;+c r%|A$=[Q t!:)L+$3 光线追迹仿真
lH6fvz cJ2PI •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
(0R2T"/ •单击go!
+(&|u q^ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
l|q%%W0 BPewc9RxV `7\H41%\pp Z9VR]cf? 场追迹仿真
?A&%Cwj SO_>c+Dw •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
8#l+{`$z •单击go!
#1gO?N(<= N571s j8a[
( W-m"@<Z 场追迹仿真(相机探测器)
/NU103F yt +>}o;`hPe •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
n}OU Y •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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\= 场追迹仿真(电磁场探测器)
H%z/v|e6 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ) rpq+~b -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ^Xs]C|=W 5v|EAjB6o (来源:讯技光电)