摘要
/#j)GlNp: t ?05 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
58R.`5B zb s7G (yoF ?rziKT5OOC 建模任务
k"E|E";B 2InM(p7j~K fKO@Qx] 概述
,+X:#$ -s\R2_( •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
uX6p^KNm5 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
} ?MbU6" /#SH`ZK ?5F;4oR2g i-.AD4 光线追迹仿真
:w)9(5 ED);2*qP} •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
zjSHa'9* •单击go!
*?A!`JpJn •获得了3D光线追迹结果。
=CO'LyG nRT]oAi M !X^2 OGO\u# 光线追迹仿真
?Ss~!38 :ciD!Ly •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
i~)EUF •单击go!
1$^r@rP •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
uo(LZUjPbN 24wr=5p]Q \ 7IT[<Se .
g- HB' 场追迹仿真
@LSX@V
[.6bxK •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
AUES;2WL •单击go!
GL,[32~C jv6>7@<G (Ffa{Tt! 8~T=p:z' 场追迹仿真(相机探测器)
BkY#wJ' =(~Zm B\ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
EVE"F'Ww,_ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
C0/G1\ J*m7
d4^ SLp nVD:'1 s3'kzwX 场追迹仿真(电磁场探测器)
JIqg[Mao •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
`?f<hIJoz {,?Gj@$ O}j@+p%M Bwu?DK 场追迹仿真(电磁场探测器)
JY,oXA6O 0k4XVd+Nv •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer {xOzxLB; -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination K@/dQV%Z 4W<[& )7 (来源:讯技光电)