摘要
vKmV<*K fu $<*Sa2 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
zM2_z X6SWcJtSw GEUC<bL+ g!DJW 建模任务
M A 2*ByVK M#;"7Qg 概述
B'8/`0^n5 R-J^%4U`7 •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
G#nZ%qQ:I •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
CWw#0 H[D<G9: 0*yD
db`L0JB 光线追迹仿真
}YCpd )@ P:&X1MC •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
p;n"zr8U •单击go!
qvG@kuz8g5 •获得了3D光线追迹结果。
a(oa?OdJ N|\Q:<!2_w 5)iOG#8qJ v,^W& W. 光线追迹仿真
Bvsxn5z+: 7oV$TAAf •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
5L\&"[' •单击go!
K$/&C:,Q •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
BnUWg ^E TP{2q51yM O QGKH6q -+{<a!Nb 场追迹仿真
???` BF[| (NC]S •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
O_\%8*; •单击go!
?/|KM8 XR|U6bf] 7!U^?0?/ #g= 场追迹仿真(相机探测器)
`Vl9/IEk O+OUcMa, •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
a(uZ}yS$ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
#+#^cqjZ 0TWd.+ `br$kB yQ0:M/r;0 场追迹仿真(电磁场探测器)
sOVU>tb\' •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
S`8Iu[Ma "fu:hHq V:h7}T95 .tcdqL-' 场追迹仿真(电磁场探测器)
1]69S( %2y5a`b •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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\:l~{ )$ M2+_c 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 6n^@Ps -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination N "}N>xe2 A `{hKS (来源:讯技光电)