摘要
'/qy_7O AcuZ? LYzK 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
$Z)u04;&@ 0#TL$?=| eef&ZL6g u_NLgM7* 建模任务
lv/im/]v k F^4kCJ@ B0|W 概述
=cV|o] /v 9qrZ$$ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
} .045 Wuu •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
`,SL\\%u T5T%[Gv #%QHb,lhl %`k [xz 光线追迹仿真
N,lr~ 6) s 1wlO y •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
|HT7m5tu4 •单击go！
*;}xg{@ •获得了3D光线追迹结果。
Z:^#9D{ I H=$
w c +pG+ xI =5*Wu+S4r 光线追迹仿真
pnSKIn
^cw9Yjh6 •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
Hr e&a!U •单击go！
\azMF} mb •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
1_S]t[?I/ N9|J\;fzT ^z!=,M<+{ c!
kr
BS 场追迹仿真
eb`3'&zV&) ./;u hj •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
wi+Q lf •单击go！
Pl/Xh03E %J2A d glCpA$;VPu mW!n%f 场追迹仿真（相机探测器）
-V;Y 4,:c .9 e5@@VR •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
eik_w(xPT •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
,gZp/ yJ; Vx.c`/ zZPWE "u} 8y6dT 场追迹仿真（电磁场探测器）
|U 1 [R\X •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
bL* b>R[x x[};x;[ZE *w0|`[P+h nG3SDL#(k 场追迹仿真（电磁场探测器）
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer j?*n@' -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination % t,42jQ9 J?TC P% （来源：讯技光电）
