摘要
*K;)~@n
'6&o:t 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
9,`i[Dzp TEd5&Z M>p<1`t-& PDuBf&/e 建模任务
SM4`Hys;p $m2#oI'D n{sk 概述
4Zwbu e7xBi!I)~ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
|`#fX(= •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
$KGMAg/H j_N<aX &TQ~!ZMOR" 0h*Le 光线追迹仿真
Jl`^`Yv R2sG'<0B0 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
"}*D,[C5e •单击go!
b2UDP W •获得了3D光线追迹结果。
In96H`
\\KjiT' NOXP}M DMG~56cTO, 光线追迹仿真
'!7>*< Nyy&'\`! •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
_Ik?WA_; •单击go!
tSJ# •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
uo]xC+^ %(/E
` ^WO3, e>Z&0lV: 场追迹仿真
T3{~f $5JeN{B •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
i3N{Dt •单击go!
y&,|+h Gd%i?(U,R m.m6. Yjc U2S"=P 场追迹仿真(相机探测器)
x'x5tg =?6c&Z •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
Intuda7e1 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
%%s)D4sW h2Nt@ y%i9 b&gDd EyA
ny\" 场追迹仿真(电磁场探测器)
H@1'El\9 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
3&^hf^yg 8Re[]bE F%|P#CaB *zrGrk:l 场追迹仿真(电磁场探测器)
{S{ %KkAV h8`On/Ur_8 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer '/u|32 -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination AyO%,6p[ E,Rj;? (来源:讯技光电)