[分享]VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 @@xO+$6  
3E<aiGU  
高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 \3t,|%v  
sTKab :  
\yih 1Om>~  
\3%W_vU_  
建模任务 ZhGh{D[,  
tv 4s12&  
8`:M\*  
概述 YHETI~'j.  
lp:_H-sG  
•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ((-aC`  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 ]~?S~l%  
KH>Sc3p  
51&|t#8h  
9Tzc(yCY  
光线追迹仿真 W.yV/fu  
pGY [f@_x-  
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 MS{Hz,I,  
•单击go！ H,(F1+~d  
•获得了3D光线追迹结果。 6b%`^B\  
!?BW_vY  
kjx>  
@kwLBAK}@  
光线追迹仿真 bHO7*E  
fkW3~b  
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 Ezi' 2S
c  
•单击go！ ~J%R-{U9  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 i%xI9BO9  
+7Sf8tg\  
B1y<.1k  
'GrRuT<  
场追迹仿真 U^B"|lc:[  
'/Cg*o/  
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 `!zQ  
•单击go！ Bp&6x;MJf  
_mw13jcN]  
3|q2rA  
&K06}[J  
场追迹仿真（相机探测器） vkd *ER^  
Er`TryN|}  
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 W7%p^;ZQ$  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 .H Fc9^.*  
Pg7>ce  
k&OC&  
SxMxe,.|  
场追迹仿真（电磁场探测器） MO[c0n%  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 <H<!ht%q3  
)y6QAp  
 NI^{$QMj  
Z#CxQ D%\  
场追迹仿真（电磁场探测器） {":c@I  
M#`{>R|  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 TKK,Y{{  
]GcV0&|  
&xgZFSq  
}(m1ql  
文件信息 $?-7OXj<  
w(/7Jt$  
TS1pR"6l  
ol50d73B  
更多阅读 KrS  
I[@ts!YD  
-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer *K`x
;r  
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination wqcDAO(  
'CgV0&@  

收藏一下