摘要
PauF)p uYCWsw/ 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
8 DPn5E#M1 C9^C4
9i+.iuE%Bu ^T*'B-`C7X 建模任务
W9:(P /@Ec[4^=!.
$[V-M\q 概述
T!Nv 8c%_R23 •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
(O"-6`w[ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
d-`z1' dU&hM<.|
]XEUD1N;I 7mA:~- .u 光线追迹仿真
Kp>fOe'KW `y$@zT?j •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
J~|:Q.Rt` •单击go!
_~bG[lX ! •获得了3D光线追迹结果。
w5;d/r<q !OV+=Rwdx
nrKir Y3O/`-9i 光线追迹仿真
_K3;$2d|R sFw;P` •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
yq12"Rs •单击go!
(?1/\r •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
5#~E[dr p4vX3?&1W
]JHInt 4}NCdGD 场追迹仿真
7V-uQ)* &] O^d4/ •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
yOO@v6jO) •单击go!
"'~&D/7 7 )*q@
v9"03=h ,:8oVq>? 场追迹仿真(相机探测器)
;]>a7o B^Hhrz! •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
B/I1<%Yk •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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dy4~~~^A lX64IvG8+o 场追迹仿真(电磁场探测器)
<OTx79m •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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jD?*sd S3^(L 场追迹仿真(电磁场探测器)
*iJ>@vew MB+a?u0\ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer Bw>)gSB5$k -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination rC6@
] s#FX2r3=Fg (来源:讯技光电)