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    [分享]VirtualLab:分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2019-11-25
    摘要 *K;) ~@n  
    '6&o:t  
    数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 9,`i[Dzp  
    TEd 5&Z  
    M>p<1`t-&  
    PDuBf&/e  
    建模任务 SM4`Hys;p  
    $m2#oI 'D  
    n{sk  
    概述 4Zwbu  
    e7xBi!I)~  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 |`#fX(=  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 $KGMAg/H  
    j_N<aX  
    &TQ~!ZMOR"  
    0h*Le  
    光线追迹仿真 Jl`^`Yv  
    R2sG'<0B0  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 "}*D,[C5e  
    •单击go! b2UDPW  
    •获得了3D光线追迹结果。 In96H`  
    \\KjiT'  
    NOXP}M  
    DMG~56cTO,  
    光线追迹仿真 '!7>*<  
    Nyy&'\`!  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 _Ik?WA_;  
    •单击go! tSJ#  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 uo]xC+^  
    %(/E `  
    ^ WO3,  
    e>Z&0lV:  
    场追迹仿真 T3{~f  
    $5JeN{B  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 i3N{Dt  
    •单击go! y&,|+h  
    Gd%i?(U,R  
    m.m6.  
    Yjc U2S"=P  
    场追迹仿真(相机探测器) x'x5tg  
    =?6c&Z  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 Intuda7e1  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 %%s)D4sW  
    h2Nt@  
    y%i9 b&gDd  
    EyA ny\"  
    场追迹仿真(电磁场探测器) H@ 1'El\9  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 3&^hf^yg  
    8Re[]bE  
    F%|P#CaB  
    *zrGrk:l  
    场追迹仿真(电磁场探测器) {S{%KkAV  
    h8`On/Ur_8  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 rwLKY .J]  
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    更多阅读 _HHvL=  
    I2$DlEke  
    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer '/u|32  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination AyO%,6p[  
    E,Rj;?  
    (来源:讯技光电
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    只看该作者 1楼 发表于: 2019-11-26
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