摘要
rSk> drP=A~?&: 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
*b}HNX| Jy:Qlx` YeL#jtC BWa,f8 建模任务
X6X
$Pve QB uMJm |Q6.29 9 概述
$E~`\o%Ev &*,#5. •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
)3}9K
^jS •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
I\{ 1u 7
:x fPx ~{g [<Qi @7]yl&LZ 光线追迹仿真
5E;qM|Ns c
/HHy, •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
x b~yM%*c •单击go!
GL#u p •获得了3D光线追迹结果。
,X-bJA@( O)*+="Rg 9gDkTYkj 2B[X,rL.pX 光线追迹仿真
?m}s4a xd?f2=dd~h •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
_Xc8Yg }` •单击go!
p!7FpxZY •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
2g-j.TM Uw. `7b>B O7m(o:t x3 >}8j+t&T 场追迹仿真
rdP[<Y9 -`kW&I0 •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
9@(PWz=`? •单击go!
+ T1pJ 89P H?vdr:WlTN EzM
?Nft ZF9z~9 场追迹仿真(相机探测器)
XkE`U5. l'-Bu( •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
*SDs;kg •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
*xxx:*6rk; ?}tFN_X" df4A RP+ {9&;Q|D z 场追迹仿真(电磁场探测器)
x_N'TjS^{ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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NI76U 场追迹仿真(电磁场探测器)
|^"1{7) [I,Z2G,Jb •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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s^G.]%iU =vCY?I$P 'j8:vq^d w7.V6S$Ga 更多阅读
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer p J!
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Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination YW,tCtI0_ vAF
"n (来源:讯技光电)