摘要
&vJH$R JO;Uus{? 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
TN.rrop`#g OH88 n69 Qd-A.{[h "#] $r 建模任务
g ?k=^C <m m [S z}@7'_iJ 概述
`g,..Ns-r N$DkX)Z •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
J1vR5wbu •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
/B3i C#? Q@niNDaW2 B6"0OIDY" ~BF&rx5Q 光线追迹仿真
G3 m Z($y s S
Mh `4' •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
%RVZD#zr •单击go！
:+Z%; Dc •获得了3D光线追迹结果。
phK/ ZoeD:xnh[ C}X\ |J 4W])}C % 光线追迹仿真
!W\+#e z SKt r tm •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
!<oe=)Iz| •单击go！
v^iAD2 X/F •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
s.#`&Sd> j+!v}*I![ G)YcJv7 @c#(.= 场追迹仿真
\!(zrfP{( 43w }qY1 •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
,I9bNO,%JK •单击go！
9$Y=orpWxr 9!GM{ b LL2 KXrjqqXs 场追迹仿真（相机探测器）
D=$)n_F xoL\us`A •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
.X&9Q9T=# •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
NRuNKl.v }b}m3i1 hb-%_c"kq z{543~Og59 场追迹仿真（电磁场探测器）
_GPe<H •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
zqku e%^?- fJ\[*5eiS vI?, 47Hj+ @CoIaUVP 场追迹仿真（电磁场探测器）
V+\Wb[zDJ TvM~y \s •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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cK@wsA^4 54,er$$V xk5 ]^yDp h;Kx!5)y 更多阅读
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer !Cs_F&l"j -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination sA~]$A;DM! y5r4&~04 （来源：讯技光电）
