摘要
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4~"|. 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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30F!kP*E \7Cg,Xn 建模任务
O`W%Tr 'ks{D(`
&__DJ''+ 概述
0SV \{]2 [CN$ScK, •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
,M6ZZ* ,e •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
($!KzxF3 %mI~
=^za
kE)!<1yy2 sbsu(Sz+ 光线追迹仿真
.BZVX=x ?nFO:N< •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
t#~?{i@m •单击go!
#hxyOq, •获得了3D光线追迹结果。
H{`{)mS KL3<Iz]
r%=[},JQ Q~,YbZ-7 光线追迹仿真
<!'M} s VWf %v •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
Dy9\O77> •单击go!
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4{ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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(GU9p>2 eti`O 场追迹仿真
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%uny •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
Omyt2`q •单击go!
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Tj`5L6N;8 Je7RrCz 场追迹仿真(相机探测器)
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bklz •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
gA^q^>7 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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#Ob]]!y 8k!6b\Imz 场追迹仿真(电磁场探测器)
h'5Cp(G •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer :L$4*8@`+ -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination =!0I_L/ c@du2ICUc (来源:讯技光电)