[分享]VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 @c3xUK  
QU|_ r2LM  
高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 ut{T:kT  
7;"0:eX  

图片:1-191125164532947.png

}rTH<!j  
(jgk! 6  
建模任务 uepyH  
ff"wg\O4  

图片:1-1911251A00R22.png

5'~_d@M  
概述 0lfK} a  
kmI0V
[Y  
•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 7F
^d-  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 (yOkf-e2y  
<uH8Fivb  

图片:1-1911251A211D3.png

{meX2Z4  
0B NLTRv  
光线追迹仿真 NO"PO @&Wk  
wl Oeoi  
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 a|aVc'j  
•单击go！ ~4S$+*'8  
•获得了3D光线追迹结果。 K2x[ApS#  
-Mt
5< s  

图片:1-1911251A23G14.png

c?p^!zG  
woYD &Oml  
光线追迹仿真 U=on}W3V2  
aER|5!7(2\  
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 4`IM[DIG~  
•单击go！ qS!r<'F3dP  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 p5Q]/DhG  
Qw5nfg3T  

图片:1-1911251A311b4.png

@=Kq99=\U  
'=\}dav!  
场追迹仿真 `&$8/_`  
qtGJJ#^,  
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 ;SR ESW  
•单击go！ y}Ky<%A!P  
<#63tN9  

图片:1-1911251A335531.png

\INH[X#>  
v\0G`&^1  
场追迹仿真（相机探测器） QFyL2Xes/  
N0U/u'J!g  
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 l^B.
iB  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 *dzZOe>,  
{Z.6\G&q  

图片:1-1911251A41O04.png

|m19fg3u  
=lXj%V^8N  
场追迹仿真（电磁场探测器） fn#8=TIDf  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 B{-7  
TQ Vk;&A  

图片:1-1911251A519A0.png

73WSW/^F  
dn6B43w  
场追迹仿真（电磁场探测器） cpY{o^  
W+nu=iQ!  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 l{3B}_,  
J( }2Ua_  

图片:1-1911251A5594c.png

wN2+3LY{  
+Qs]8*^?;  
文件信息 1C[9}}  
2pS<;k`  

图片:1-1911251A6203V.png

x^f<G 6z  
;?6vKpj;  
更多阅读 WKf<% E$  
#F*|@  
-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer &{iC:zp  
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination \?:L>-&h8  
]w
Q!ZG?)  

收藏一下