摘要
m=7Z8@sX}, q%Fc?d9 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
EDkxRfY2/ EE<^q?[3^
D#?jddr- 8iDg2_l`G 建模任务
AHA4{Zu[ djxM/"xo
<P"4Mk7`s 概述
P4~=_Hh p>c` GDU •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
0D*uZ,oBEw •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
Qn*a#]p t=;84lA
az=(6PX k;?Oi?] 光线追迹仿真
dT9ekNQB 0B;cQSH!q •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
H"g$qSx •单击go!
q:9#Vcw •获得了3D光线追迹结果。
(^ Q:zU {#c**' 4
H%*<t} DrTo")T 光线追迹仿真
Q6|~ks+Y (Wm4JmX% •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
DG&[.dR+ •单击go!
Jf,)Y>EI •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
P=j89-e j+_pF<$f:
J} 03 5 f~3_Rv! 场追迹仿真
1YklPMx6 mu1Lg s$; •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
l-N4RCt h •单击go!
tv+H4/ 4ZZ/R?AiK
onuhNn_=> MR/8 场追迹仿真(相机探测器)
{Y%X aFj)s?$4]K •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
06&:X^ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
2A+I8/zRG \(C_t1
+P&;cCV`S3 3xJ_%AD\' 场追迹仿真(电磁场探测器)
j|u6TG •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
r#K;@wu2 5Y4i|R
"o*zZ;>^ U*Hw
t\ 场追迹仿真(电磁场探测器)
"SuBtoK <V3N!H_d •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
H nRd ;(kU:b|j
GYD` 88dq8T4 文件信息
\gh`PS-B {&'u1y R
0nF>E@ j^[ .Jt&6N 更多阅读
SOyE$GoOsx 3zO'=gwJ -
Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer $?l? -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination FZM9aA {I!sXj (来源:讯技光电)