摘要
/L{V3}[j Y]VLouzl 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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k@Qd:I;; L9{y1'') 建模任务
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jZr"d*Y 概述
L8,/ d0V*[{ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
+?)R}\\ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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d k/f_m >=1A a,_tc 光线追迹仿真
m`BE{% uA4xxY •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
qr4.s$VGs* •单击go!
(T!#7 •获得了3D光线追迹结果。
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?U+nR/H:6 (<2!^v0.M 光线追迹仿真
~jJF&*) qh|fq
b •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
J\Db8O-/x4 •单击go!
K;7ea47m N •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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&$bcB]C\3 KwNOB _ 场追迹仿真
>-,$ h0] bIT{ •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
.B?fG)'WsF •单击go!
O{x-9p CC)Mws+2
7jw5'`;)" @ 3rJ $6W 场追迹仿真(相机探测器)
f}EsS -HF1c •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
D@ %!|: •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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cx[[K. eus@;l* 场追迹仿真(电磁场探测器)
=)}Yw) •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer l,5isq
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Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination "pO**z$Z }zIWagC6 (来源:讯技光电)