摘要
86i =N_ A6d+RAx 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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})" : F 9Ah4N2nL-b 建模任务
C-Mop,w ?^hC|IR$
("{'],> 概述
xn-n{U" B\Uj •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
~Oq(JM
$M •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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uJ[dO} #q\C"N5ip 光线追迹仿真
-6?5|\ oyUf/Sl •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
M*x_1h5n •单击go!
nPKj%g3h •获得了3D光线追迹结果。
76
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wDsEx!\# `0L!F"W 光线追迹仿真
,QK>e;:Be n7S[ F3 •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
d+_qBp •单击go!
%l>^q`p •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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*_ "j"{ !Ed';yfz\( 场追迹仿真
LB>!%Vx s>kzt1,x •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
q|S }5 •单击go!
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k'm!| 6JJ%`Uojh 场追迹仿真(相机探测器)
}%%| '8 4YKb~1qkk •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
/@0wbA •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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5RqkAC LNe-]3wB 场追迹仿真(电磁场探测器)
,9=a(j" •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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hMdsR,Iq h T4fKc7P 更多阅读
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer Tf` ~=fg% -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 7GpSWM6 y;uk|#qnPS (来源:讯技光电)