摘要
>-CNHb DwXSlsN3v 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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0'` #I :&O6Y-/B 建模任务
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\!r,>P 概述
^JB5-EtL( ?NUDHUn_ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
a
,<u •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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0"c(n0L nrz2f7d$ 光线追迹仿真
sYyya:ykxT <%LN3T •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
-[5yp 2F-{ •单击go!
&8Oy *' •获得了3D光线追迹结果。
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<cR]-Yr~ zCpXF<_C 光线追迹仿真
?Ns aZ DI:"+KMq{ •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
/m*+N9) •单击go!
.RWKZB •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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$.g< dWDf(SS 场追迹仿真
7@9R^,M4: !XrnD# •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
DzK%$#{< •单击go!
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Bpl(s+ 4.i< `' 场追迹仿真(相机探测器)
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]d ch:0qgJ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
tCP;IU$ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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pksF|VS W*NK-F[ 场追迹仿真(电磁场探测器)
5R"(4a P •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer BjyGk+A -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Hwm]l`E] ~xaPq=AH (来源:讯技光电)