摘要
Jr!JHC9i f4b/NG| 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
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` m%?pf2%I# 0c]/ bs{} z}9(x.I 建模任务
{n.PF8A5X k[YS8g-Q "1* :JVG 概述
r~8 $1" EIAc@$4 •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
^4hO •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
O`\;e>!t tBWrL{xLe 9c'xHO` hJ? O],4J 光线追迹仿真
XS{Qnx_# ~2N"#b&J •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
a :`E0}C •单击go！
6=/F$| •获得了3D光线追迹结果。
e4_rC'= |O+H[;TB6 \fd v]f 1D7 `YKI9h 光线追迹仿真
/NFj(+&g+ _,0 •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
:#ik. D •单击go！
GPudaF{ •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
k FD; i IdYt\^@> 1#2 I ^*Q ?]N 场追迹仿真
(OL4Ex' ] 6l1jMm|=
X •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
Y(' #jU •单击go！
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I !hy-L_wL] MrFQ5:= 场追迹仿真（相机探测器）
}C?'BRX Tv=mg H=b •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
P>D)7 V9Hh •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
[yQt^!; 783,s_ TDjm2R~9FS ]p GL`ge5 场追迹仿真（电磁场探测器）
aFm_;\ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer my1@41
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Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination r Z$O?K I$G['` XX/ （来源：讯技光电）
