摘要
z$. 88^ c-6?2\]j@ 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
;h _A9AEi'. &n:.k}/P >KhOz[Zg 建模任务
`1fY)d^ZS g:8h|w) r[iflBP 概述
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}OX{k I,vJbvvl! •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
4!no~ $b •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
Iit;F ENs&RZ; @lr ztM )Y{L&A 光线追迹仿真
V {ddr:]4 FWgpnI\X|{ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
K1yzD6[eW •单击go!
+VOK%8,p •获得了3D光线追迹结果。
-k e's BpPy& )1`0PJoHE fJ!R6D 光线追迹仿真
}Oq5tC@$G r52gn(, •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
Pw"-S?`( •单击go!
Z,Dl` w •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
I:1C8*/ T}v4*O., f(y:G^V =MDysb&: 场追迹仿真
[?N~s:} ^o&. fQ* •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
;+hH •单击go!
M gi,$H H8}oIA"b )=_,O=z$K
HvJs1)Wo& 场追迹仿真(相机探测器)
_g"<UV*H F0Yd@Lk$_ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
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. •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
p}U ~+:v {8bSB.?R [2M'PT3 1f=gYzuO) 场追迹仿真(电磁场探测器)
}y gD3:vN7 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
3"~!nn0; bdE[;+58 4zFW-yy )|#sfHv7 场追迹仿真(电磁场探测器)
LG#t<5y~ P.9>z7l{ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
bq0zxg% V+9 MoT?8 iSs:oH3l 3eQ&F~S 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer d5:c^` -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination FXkM#}RgNm BR;D@R``} (来源:讯技光电)