摘要
60>.ul2 sW@krBxMv 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
h*i9m o aM3gRp51cj \wvg,j= 3L5r*fa 建模任务
e^1uVN <n"C, ` uCI Xb 概述
4,p;Km& Fr2N[\ >s •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
J @IS\9O •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
zbkMFD.{y TI|/u$SJ<Z Ah69
_>N`S SGL|C k 光线追迹仿真
#KlCZ~s ;]2s,za)qs •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
Ol_q{^ •单击go！
"/{RhY< •获得了3D光线追迹结果。
XRN+`J 2BXy<BM @ 4 '1m4Ugg )FN;+"IJ 光线追迹仿真
5&Ts7& . s"KJiQKGM •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
nAJdr*`a,5 •单击go！
7r # ymQ •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
!A3-0zN! K>:]Bx#F7 5 K%SL1N 6?tlU>A2s 场追迹仿真
d~J-|yyT bBcp9C)iY •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
Elj_,z •单击go！
x\e;+ubt} uP $ Cj g^ Yl TB qFX~[h8i+ 场追迹仿真（相机探测器）
K kW;-{c 9LnN $e •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
rf:XRJ <4 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
m0w;8uF2UV )m3Uar 8LkP)]4^sO wBj-m 场追迹仿真（电磁场探测器）
. jw}JJ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
6DIZ @ oi f>o,N{| #hfuH=&oh ^[ E' 1$D 场追迹仿真（电磁场探测器）
o Pci66 d$ACDX2 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
0-Y:v(| . fc=Patg f"u *D,/sS s'aip5P 文件信息
#t8{R~y"gv #eZ6)i< 9h90huyKF ]M>9ULQ 更多阅读
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5 -
Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer /I 5X"x -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination {#P `^g r[(xj n （来源：讯技光电）
