摘要
6%v9o?:~l b9.M'P\ 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
R?{+&r.X >L7s[vKn
'YL[s _P;D.>? 建模任务
(`P\nnb yYG<tUG;
3N7H7(IR 概述
+EETo): EYAaK^ & •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
fr@F7s5} •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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G-aR%]7$g $<}c[Nm 光线追迹仿真
{Mx(|)WkL Gz[yD
~6a •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
T{YZ`[ •单击go!
* QgKo$IF •获得了3D光线追迹结果。
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%`Re{%1; pfA6?tP` 光线追迹仿真
TCtZ2
<' qNp1<QO0 •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
9Em#Ela •单击go!
u;#]eUk9} •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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V~J5x >O &d# R'Z 场追迹仿真
()3\(d5e x%{]'z •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
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i_ •单击go!
bOS)vt*V c0!.ei
+6m.f,14q UM}u(;oo%) 场追迹仿真(相机探测器)
XYE|=Tr] %u -x9 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
G#M)5'Q]U •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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d[ N1zQW wT1s;2 % 场追迹仿真(电磁场探测器)
8`Ya7c> •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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e|~MJu+1 +n3I\7G> 场追迹仿真(电磁场探测器)
D:)Wr, 26 Bf_$BCyGW •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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En5oi %x)bZ=An 更多阅读
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer /@os*c|je -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination }Q7y tE boh?Xt-$ (来源:讯技光电)