摘要
%Ijj=wW jNC4_q& 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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cx0*X* s91JBP|B7 建模任务
N~xLu8, qZA).12qS
ze]h..,]K 概述
~Onoe $A[< Y(cGk#0 •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
D N*t~Z3[ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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I'0@viF"Nx =%BZ9,l 光线追迹仿真
E\4 +_L_j 6}oXP_0U •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
(#E.`e1#6 •单击go!
go<W( ,O •获得了3D光线追迹结果。
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yu/`h5&* Zc`BiLzrIG 光线追迹仿真
[ra_ 2R w:<W.7y?0 •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
k'5?M •单击go!
$+I;oHWI •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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%&Q$dzgb_ 81i655!Z 场追迹仿真
k4[|'Dk? ]h5Yg/sms •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
}-sdov<< •单击go!
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V:c;-)( E L9]QI 场追迹仿真(相机探测器)
#: [<iSk W!>.$4Q9 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
oT>(V]*5 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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wGP;Vbk b8LLr;oQw 场追迹仿真(电磁场探测器)
vTx2E6 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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+lMX{es\O A"rfZ` 场追迹仿真(电磁场探测器)
yLQ*"sw\ ?pB>0b~3- •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer !*%WuyCgr4 -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination PU^l. y3o25}" (来源:讯技光电)