摘要
3zu6#3^ r/HTkXs I 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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JgA{1@h w%8y5v5 建模任务
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([}08OW@ 概述
nO!&;E& "j8)l4} •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
9x|`XAB •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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8>Cf}TvErx +:4>4= 光线追迹仿真
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"J\vm _U-`/r o •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
vSC1n8 / •单击go!
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<3 •获得了3D光线追迹结果。
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8Znr1=1
elQjPvb 光线追迹仿真
"lLh#W1d Bv!{V)$ •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
oBo*<6 •单击go!
y_}vVHT, •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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r)>3YM5 "YY<T&n 场追迹仿真
Pd\4hy @j_o CDS •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
XsQ81j. •单击go!
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e15yDwvB -0#"<!N 场追迹仿真(相机探测器)
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?2K4 6?~9{0 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
0NGth(2 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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6j XDLI n:OXv}pv 场追迹仿真(电磁场探测器)
|1(x2x%}D^ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer P"^Yx8 L# -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination o#\L4P(J R9R~$@~G (来源:讯技光电)