摘要
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yif6 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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>|wKXz 8@E8!w&~ 建模任务
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tf4*R_6;1$ 概述
g[/^cJHQ >@^<S_KVh •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
>&bv\R/ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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E@:Q 'g% JW=uK$s O 光线追迹仿真
i-`,/e~XT nz^nptw •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
h~ $& •单击go!
AlO,o[0 •获得了3D光线追迹结果。
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Q~phGD3!~ Q/p(#/y#b 光线追迹仿真
yL.^ = l$F_"o?&S@ •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
My. dD'C •单击go!
DB#$~(o •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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Qh^R Ax zt?h^zf} 场追迹仿真
s}wO7Df=+ ! Q!&CG5l •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
?FN9rhAC •单击go!
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场追迹仿真(相机探测器)
3!aEClRtq +$PFHXB •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
z=qWJQ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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Rb#/qkk/ \7yJ\I 场追迹仿真(电磁场探测器)
q3+I<qsAz •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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B%fU' ?;^5ghY$ 场追迹仿真(电磁场探测器)
|CwG3&8 ijFV<P •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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;}D-:J-z_ JA<~xo[Q9 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer @V$I?iXV -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Zi/-~')E i
j/o;_ (来源:讯技光电)