摘要
" ,9QqgY+ =t,}I\_^c 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
gK8E|f-z xA?( n!{P /EW1 & iLd_{ 建模任务
y+R *<5qC< [^rMM1^,OB 0+H4sz%. 概述
'
];| j, :vK •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
Pl2ZA)[g •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
m+Um^:\jX 1MVz u7 luPj 'd? R]Iv?) Y 光线追迹仿真
P LHiQ: .=I:cniw\r •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
ONc-jU^ •单击go！
6qAs$[ •获得了3D光线追迹结果。
Ms
*
`w5n cN]e {| 3G r:.V9= kim q m 光线追迹仿真
JZc"4qf@OT p bRU" •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
xzI?'?duC •单击go！
,) u7P Ms •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
G; onJ > /8 $*{ay :3oLGiL K
|Z] 场追迹仿真
0P?\eoB@8 z8 n=\xL •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
cz{5-;$9Z •单击go！
[H-r0A h *|OP>N il403Ae0 pz
uR H1 [ 场追迹仿真（相机探测器）
q8Z,XfF^S \R}`S`fIw` •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
6/4?x)l3- •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
xllk hD4F f\/'Fy0 \os iY ^ 4fuK pLA 场追迹仿真（电磁场探测器）
[UW%(N •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
94H s.S) 9hNHcl. JGZxNUr^ - C 场追迹仿真（电磁场探测器）
SniKC qmC] >}?4; :.= •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
KeIk9T13O |o5F%1o q%rfKHMA50 [Y% H8} 文件信息
})Pq!u:3 D a@H^ 0} :wM':G GELx S! 更多阅读
Q r n^T %XU V[L} -
Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer v[}g+3a -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination uFXu9f+ (mvzGXNz4 （来源：讯技光电）
