摘要
gSwV:hm ]0."{^ksL 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
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uC;_?Bve BQ0?B*yqd 建模任务
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3W7^,ir 概述
$_"u2"p G`zNCx. •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
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^zheD •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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:|s8v2am D6Ad "|Z 光线追迹仿真
_li3cXE +r3)\L{ U •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
8TFQ%jv •单击go！
&# 2&V>pE •获得了3D光线追迹结果。
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gC hN2A%ds*(j 光线追迹仿真
}n==^2 %Xd* 2q4* •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
V O: 4wC"7 •单击go！
O6hzOyNX@ •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
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ps\- i\6CE| 
>} V?GK36 GM6, Lz H 场追迹仿真
1Z}5ykM3 o^@"eG$, •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
T '5{p •单击go！
b)I-do+ |/gt;H~:
cX- M9Cz 6j(/uF4!# 场追迹仿真（相机探测器）
W'@ |ob (L/>LZn| •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
^Gk`n •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
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(!nkv^] cj[b ^Wv: 场追迹仿真（电磁场探测器）
.H)H9cmf •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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q}P@}TE eq 6O6- 场追迹仿真（电磁场探测器）
U>PZ3 V9oBSP'kt •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ;@eP u -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination [{7#IZL y*iZ;Bv j （来源：讯技光电）
