摘要
w4P?2-kB S\b [Bq 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
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N]ud Zhkn ^ 0p y 建模任务
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m1H_kJ 概述
L|pMq !@J #N9^C@ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
W{:^P0l •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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F F X-k S `,a6su (? 光线追迹仿真
KtTv0[66 7.mY@ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
pW$ZcnU •单击go！
l\g>@b •获得了3D光线追迹结果。
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z#9Tg"8] .UX`@Q:Gp 光线追迹仿真
zG gPW S" hA@j •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
eA q/[( •单击go！
R r#Zcs!G •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
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E$l 4v>iA t 7GK\ B8: 场追迹仿真
Xb#!1h A h ; " 9. •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
"y~t Ag •单击go！
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]90BIJ]*c V'b$P2 ?^ 场追迹仿真（相机探测器）
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jP m8[XA!, •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
PU 8>.9x •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
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s uK r//_ %lsRj)n 场追迹仿真（电磁场探测器）
/ 3Y\s&y •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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F/%M`?m"ie p"@ [2hK 场追迹仿真（电磁场探测器）
Cb}I-GtO m3T=x = •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer UaCfXTG -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination B6k c9XG 6 2 :FlW> （来源：讯技光电）
