摘要
HZC"nb}r4 ZF9z~9 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
O|{d[ eX g0=z&2Q[_) 5h=} j .+3g*Dv{& 建模任务
Q:G4Z9Kt k W Ml |&+ o^ 概述
9k '7832u &tLgG4pd •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
d9f C<Tp •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
I(L,8n5 { M4gF8(M mP~QWx![N JxdDC^> 0 光线追迹仿真
~S"+S/z/k #4Rx]zW^% •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
kzQ+j8.,U •单击go！
en4k/w_ •获得了3D光线追迹结果。
y1eW pPJa 45@ I *` VK\X&Y3l *e Tq VG. 光线追迹仿真
+ZaSM~ ,Bi.1
%$ •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
jjB~ G^n •单击go！
[" k,QX •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
n`?aC|P2s gZ3u=uME ah4N|zJ>v 17%,7P9pg 场追迹仿真
Pe_W;q. z;,u}u}aI •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
`_Zg3_K.dS •单击go！
36&e.3/# q.^;!f1 Mlg0WrJ|2 .GP T!lDc 场追迹仿真（相机探测器）
Y|F9}hj( 5,lEx1{_ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
X Swl Tg •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
6EoMt@7g MC&` oX[ (&Kk7< #` ( ?1y4M 场追迹仿真（电磁场探测器）
~OYiq}g •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
JQ_sUYh~3 -e"H ^: %8 B}Cb&2c YlJ@XpKM 场追迹仿真（电磁场探测器）
CAig ]=2' Wa>} wA=v •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer a_^\=&?' -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination n:I,PS0H< z> 1Pz( （来源：讯技光电）
