摘要
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tBWa! 8oK*NB29 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
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0ft 81RK fd! bs*\X 建模任务
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lD)ZMaaS3 概述
K~$A2 b95 Gf_ Je •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
@{P<!x <Q •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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`fMdO 光线追迹仿真
\NU^Jc_k7 [U'I3x, •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
`yJ3"{uO •单击go！
2n+tc •获得了3D光线追迹结果。
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]dIcW9a " 'U+T:S 光线追迹仿真
(SGX|,5X7 o1lhVM`15 •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
znnnqR0us •单击go！
w_qX~ d/ •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
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iOY : a " b3-'/ & 场追迹仿真
y/i{6P2`,D 0RFBun{ •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
.JCd:'- •单击go！
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4 2$ pvw< .ni <' 场追迹仿真（相机探测器）
M` V<` M/?eDW/ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
8]h~jNku •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
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Y % 9$! ~(*2 :9*0 场追迹仿真（电磁场探测器）
Gb!R>WY •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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M h"X9-Ot U45kA\[bZ 场追迹仿真（电磁场探测器）
H46N!{<;@ U}T{r%9 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer -wa" &Q -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination @eJ6UML" } ChS cY （来源：讯技光电）
