摘要
0$l D )f0t"lk 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
Mzx y'UV 5fBW#6N/ -pR1xsG x3my8'h@ 建模任务
=lG5Kc{B UvOB`Vj .HG0%Vp 概述
l$Y7CIH `7|v •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
_,;c2 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
vf(\?Js, L+s,,k X Jy]d/ LE!3'^Zq 光线追迹仿真
8<uKzb(O: G?d28p',. •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
B;':Eaa@ •单击go!
R28h%KN •获得了3D光线追迹结果。
Rj%q)aw' Qp${/ 8<6;X7<- mY3x
(#I 光线追迹仿真
C;;dCsiV5 avk0pY(n •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
$3%EKi •单击go!
6kKIDEX •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
BaTE59W *B`wQhB% ?+b )=Z >+fet , 场追迹仿真
:\48=> 5o2;26c •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
KaHjL&! •单击go!
WrL&$dEJ?M #Gs] u BxO8oKe }S$]MY,* 场追迹仿真(相机探测器)
icHc!m? SUfl`\O •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
q?{wRBVVB •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
Qg9 N?e{z s&!g ) pl V]hu27K +=^10D 场追迹仿真(电磁场探测器)
X5527`?e •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
QkwBw^'_5 PSNrY e S!k cC-7 NS;,(v{*N 场追迹仿真(电磁场探测器)
4r5?C;g M"#xjP. •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
S=ebht= *K'(t Y|g8xkI}XB sC48o'8( 文件信息
; 7[5%xM 4E}/{1 }i./, !iA0u 更多阅读
(5re'Pl ,l#Ev{ -
Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer {?17Zth -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination B{lBUv(B `\P#TBM (来源:讯技光电)