摘要
P$z_A8} vW=L{8zu 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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T m<-ShRr*b rtj`FH??11 R^*baiXVI 建模任务
}<0N)dpT )e,O+w" ]h,rgO; 概述
D:_W;b) w]0@V}}u$o •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
VX$WL"A •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
'*b]$5*p $mn0I69 h<Aq|* Z]]Ur 光线追迹仿真
4D0jt$== ;2<5^hgk •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
IA@>'O •单击go!
tR|dnC4U •获得了3D光线追迹结果。
Ku75YFO,5 hGz_F/ 'k X8}bx !5o j~H 光线追迹仿真
@x}"aJgl
}~/b%^ •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
9D3{[ •单击go!
T+<.KvO- •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
`5IrV&a vQljxRtW ?;ok9Y T-en|. 场追迹仿真
N,Eap KG $^ws#}j •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
K*>%,mP$i •单击go!
I,{YxY[$7 XMrk2]_ 4E39]vb `x[Is$ 场追迹仿真(相机探测器)
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o5x ;Bs~E •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
>rCD5#DG •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
_=GjJ~2n 1!<t8,W4 r/j:A#6M]o =yf)Z^ 场追迹仿真(电磁场探测器)
dHc\M|HCC •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
v'W{+>. C^J<qq& Jka>Er heVkCM : 场追迹仿真(电磁场探测器)
y{%0[x*N<m nkW})LyB\ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer F]aoTy -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination xXe3E& +Nt4R:N (来源:讯技光电)