摘要
$CP_oEb CTh!|mG 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
~3r}6,% RM `zxFn
Yj#4{2A S3F8Chk5 建模任务
C)v*L#{% DVLF8]5
SU80i` 概述
jp|1S^b WIkr0k •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
=lG/A[66 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
c2fqueK|:W eR*y<K(d
|xX>AMZc)D dp~] Wx 光线追迹仿真
[)L) R` JVawWw0q •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
Ubf@"B •单击go!
p|,3X*-ynx •获得了3D光线追迹结果。
{-Q=Y DR 9:1[4o)~
Y}UVC|Ef jt,dr3|/n 光线追迹仿真
W1;u%>Uh NpN-''B\ •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
u>-pgu •单击go!
7,:$, bL •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
C<u<:4^H GiGXV @dq
3wf&,4`EX fOtzbYVC 场追迹仿真
q[Ed6FM$~ oasEG6OI8 •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
[8$K i$; •单击go!
O\&[|sGY{ b<1+q{0r
d@aPhzLu "B"Yfg[ 场追迹仿真(相机探测器)
8\])p sb9 T**v!Ls •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
`Eq~W@';Q0 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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;eQOBGX9 G}8Zkz@+ 场追迹仿真(电磁场探测器)
LzE$z, •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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5wgeA^HE2y '7;b+Vbl# 场追迹仿真(电磁场探测器)
guc[du >uR0Xs;V •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 9qcA+gz:| -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ?CU6RC n '2X6>6`w (来源:讯技光电)