摘要
e`b #,= wH!$TAZ:Yw 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
"G%</G8M izcaWt3 a @%x2d1FS Lfi6b %/z 建模任务
B VeMV4 UA*VqK)Y ws9IO ?|&G 概述
o/7u7BQl2 kd !?N •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
q 0F6MAXj •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
' m~=sC_uL hZHM5J~ u$^tRz9 u#EcR}=] 光线追迹仿真
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D YX-~?Pl •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
7Q&-ObW •单击go！
TyIjDG6tM •获得了3D光线追迹结果。
}~+,x# l90"1I A tgG*k $8z ^K"BQ~-w 光线追迹仿真
DNq(\@x[! 2%fIe •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
O%kUj&h^ •单击go！
]Ac}+? •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
~x8nC%qPvq AcuF0KWw/ f/O6~I&g :6lv X$ 场追迹仿真
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M9
! •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
J?3/L&seA •单击go！
wxvi)|) 9r]|P}yuS 8 -x-?7 \wA:58 -j 场追迹仿真（相机探测器）
ErNYiYLi] _|GbU1Hz •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
Oh$:qu7o0& •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
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#"lW,V ,J|,wNDU!K 场追迹仿真（电磁场探测器）
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^uf •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
HCN/|z1Xq o0 C &ol_ KCTX2eNN&h yV8J-YdsG 场追迹仿真（电磁场探测器）
RN(I}]] a _aPAn|. •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer &Pr\n&9A -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination _h!.gZB3 \A[l( aB （来源：讯技光电）
