摘要
adi^*7Q] ) I.C,y\ 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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% Sbf+;:D w;e42.\ 建模任务
S,Y\ox- vKX6@eg" Kx8> 概述
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•案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
J5i$D0K[ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
#YABbwH wD*z >v$ z}772hMB M1>2Q[h7 光线追迹仿真
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9FU F.N4Q'2Z •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
P~6QRm •单击go!
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•获得了3D光线追迹结果。
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v IzB 光线追迹仿真
Qp]-:b 0$saDmED •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
r~<I5MZY •单击go!
_^Ds[VAgA •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
Or({|S9d2 ;*~y4'{z =1:dKo8 ">-mZ'$#L 场追迹仿真
-Hx._I$l vt(A?$j|A •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
$qvk9 B0E •单击go!
Xp_3EQl X+R?>xq{=h Ao2m"ym K3CTxU( 场追迹仿真(相机探测器)
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Lx< •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
Ke5fe# •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
/:<.Cn>- rM{3]v{~ P7X': )P)Zds@F 场追迹仿真(电磁场探测器)
W-72&\7 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer zG[GyyAQ -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination dHAI4Yf4U &+K:pU?[$ (来源:讯技光电)