摘要
|~Op|gs ^q$m>|KI 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
;Ww s;.~ 3S97h n{|= hA0g'X2eC i3s,C;7[2 建模任务
Gd]!D~[1 Y9K$6lz Z|h&Zd1z 概述
\en}8r9cy :*`5|'G} •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
h ?Ni5 •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
wy1xZQ<5 :k"VR,riF O6[, K1, f.~-31 光线追迹仿真
?<l,a!V'6 !}TZmwf' •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
Ca?:x tt •单击go！
^Iz(V2 •获得了3D光线追迹结果。
E`DsRR < ZMI!Sl S5W *,? heAbxs 光线追迹仿真
<H,q( :pM <DM
/"^* •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
"|\G[xLOaW •单击go！
c5 ($*tTT •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
Rqk;!N wTL& m+xr %p R: .u| +a{P,fRl @ 场追迹仿真
POl[]ni=> FBR]) h'Z •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
p7\}X. L •单击go！
3miEF0x[ CflGj0oy8 BaLvlB \R6 D'Yt 场追迹仿真（相机探测器）
_aR_ [ ex - 0@ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
ncGg@$E •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
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?)W c']3N 场追迹仿真（电磁场探测器）
123 6W+ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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X/ {GTOHJ2 场追迹仿真（电磁场探测器）
4490l" (sXR@Ce$ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 3rF=u:r7 c -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination aSKLSl't` : J3_ g<@ （来源：讯技光电）
