[分享]VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 v#nYH?+~mJ  
wM_k D  
高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 +hV7o!WxC  
|f?tyQ  

图片:1-191125164532947.png

N1+%[Uh9)  
Da)9s %_4  
建模任务 *d?,i-Q.+  
OUS@)Tyh  

图片:1-1911251A00R22.png

GC~Tfrf=r  
概述 jrZM  
u ;f~  
•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 G8Ns?  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 .E
"hsGH9h  
AEe*A+  

图片:1-1911251A211D3.png

/mo
4Q?^  
+8v^J8q0  
光线追迹仿真 )&;?|X+p  
d^!)',`  
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 3?.3Z!H/  
•单击go！ =K-B I  
•获得了3D光线追迹结果。 ZG
H2  
al(t-3`<  

图片:1-1911251A23G14.png

q}U^H  
CAX|[  
光线追迹仿真 NoV)}fX$X8  
+F]X  
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
XjuAVNY  
•单击go！ - b:&ACY  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 J-au{eP^  
Y2"X;`<  

图片:1-1911251A311b4.png

v\'Eo*4  
wm=!tx\`k  
场追迹仿真 9EIHcUXe  
&CV%+  
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 [x kbzJ  
•单击go！ :{E;*v_!v  
 ?;ZTJ  

图片:1-1911251A335531.png

4'cdV0]  
_%?}e|epy  
场追迹仿真（相机探测器） Rs$k3
  
`$ql>k-6C  
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 <w}YD @(f  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 3<88j&9  
 {F+7> X  

图片:1-1911251A41O04.png

WV]Si2pOZ  
vSb$gl5H  
场追迹仿真（电磁场探测器） PmZ-H>  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 5Q;Fwtm  
f R$E*Jd  

图片:1-1911251A519A0.png

.J6Oiv.E  
n,!PyJ  
场追迹仿真（电磁场探测器） suC]  
mJ2>#j;5f  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 O(2)A>}  
&^=6W3RD  

图片:1-1911251A5594c.png

f"\G"2C  
s2FJ^4  
文件信息 \DI%/(?  
bS=aFl#  

图片:1-1911251A6203V.png

0,a\vs%@X  
Ikv@}^p 7  
更多阅读 }1=V`N(  
7s+3^'  
-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer u,mC`gz  
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination b_+dNoB  
2Dgulx5kGZ  

收藏一下