摘要
l4d2i;4BK &sQtS 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
Re
b^w, rT
~qoA\ ,*V{gpC7 [0}^w[ 建模任务
B9^@] NLC}XL d+fig{<b 概述
Os1(28rl }T+pd#> •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
\^3\_T&6 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
9oY%v7 |S:St HZm ,.fGZ4 gKS0!U 光线追迹仿真
M(S:&GOU mi3 yiR •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
nK6{_Y> •单击go!
d7tH~9GX8 •获得了3D光线追迹结果。
-$4PY, f?_H02j`/E Zl.}J,0F r>`65o 光线追迹仿真
qMz0R\4 V5RfxWtm: •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
6P!M+PO •单击go!
(Y!@,rKd •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
#G^?4Za Ssr
P vh+IhGi }}l04kN_ 场追迹仿真
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S>"yAoe t8 #&bUX •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
#IyxH$ •单击go!
rRL:]%POT &B7X LO[ HkEfBQmh {cKKTDN 场追迹仿真(相机探测器)
!5Kv9P79 4 ?,N;Q •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
hIC$4lR~ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
RpR;1ktF> ' Ky5|4 ~(%nnG6x =ex71qj) 场追迹仿真(电磁场探测器)
p^A9iieHp= •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
'ac %]}`- X61]N^y /N7j5v( ">lu8F 场追迹仿真(电磁场探测器)
}^^X-_XT f 6Bx>lh •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer )}1J.>5 -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination M;,Q8z% U|={LU (来源:讯技光电)