摘要
{cC9
}w L;>tuJY1 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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S+_}=25 hE+6z%A8 建模任务
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#;>J<> 概述
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X}W •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
Lab{?!E>U •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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cKdy)T%; {WT"\Xj>B? 光线追迹仿真
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S •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
hP,SvN#!2 •单击go!
% ;09J •获得了3D光线追迹结果。
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H>a3\M +u:8#!X$RD 光线追迹仿真
>J|I rN8 ZQiJC •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
!G Z2|~f9 •单击go!
kfM}j •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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bvk+i?{H p;U[cGHC 场追迹仿真
,b KA]#(2 C<eeAWP3v •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
0q>f x •单击go!
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!634 8nU: ?20y6c < 场追迹仿真(相机探测器)
[p_R?2uT X_!Sm •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
HkGzyDt •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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9Or3X/:o KSc&6UVz^ 场追迹仿真(电磁场探测器)
{M$mrmG •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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AW!|xA6'`: +g@@|&B 场追迹仿真(电磁场探测器)
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer r9yUye} -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination GKZn|<Y|{c I,l%6oPa (来源:讯技光电)