摘要
i%GjtYjS S)p{4`p% 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
?"$W=*P\o WIb\ +! {6!Mf+ Xq \7 nlwFAO 建模任务
Ka1
F7b h
` d(?1 !u.{<51b 概述
f#pT6
&THM]3: •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
ps[TiW{q; •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
B!K{y> |. mDC{c ? > G92k76G 5YUn{qtD 光线追迹仿真
f&bY=$iff j01.`G7Q •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
[-f0s;F1% •单击go！
'm# -)R! •获得了3D光线追迹结果。
> | KfO> %@ '9< i8o *YZ' Uy? 12])``9 光线追迹仿真
sTU]ntoQqR [& k[k) •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
y4$UPLm •单击go！
A0# K@ •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
H6 ( ~6Bp5 '\ H {Y[ ?u` ?_us lb2m Wsg" 场追迹仿真
g-U'{I5F Pk T&zSQA •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
L;I .6<K. •单击go！
G1
%c<1Y #dE #w#=r ,Ej2]iO\7 8 )&y jY 场追迹仿真（相机探测器）
lSC3m=4g 2w)0>Y(_ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
"\Jq2vM •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
.!RBh LH_g 8s-RNA>7^ z[b, :G B++.tQ=X. 场追迹仿真（电磁场探测器）
z{bM W^F •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
Za}*6N=?* f/H rO6~k% ?t$sju(\ HWT0oh] 场追迹仿真（电磁场探测器）
aDb@u3X@ ePa:_ ?( •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer A9qCaq{ -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 4*&x% ~* Z2 )f$ c （来源：讯技光电）
