摘要
Gm \)1b ~%eE%5!k 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
Ts3!mjn [_(uz,' _wX(OB ~)[pL(4 建模任务
QDVSFGwr y7+n*|H :(.:bf 概述
_MuzD&^qE UEt78eN •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
-B!
a
O65^ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
B&<5VjZ\ 9_.pLLx TTbJ9O<43 |T/s>OW 光线追迹仿真
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5e1oxSU •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
[*I7^h% •单击go!
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Y:bB •获得了3D光线追迹结果。
#<U@SMv -o~n06p ZX.,<vumSy %++S;#)~ 光线追迹仿真
!0UfX{. mwN"Cu4t •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
=<)/lz] H •单击go!
\2#K { •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
G#@#j]8 Vpzjh,r-j q[}re2 u,}>I%21 场追迹仿真
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+ m=v.<+> •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
dM19;R@4 •单击go!
f)gV2f0t mA_EvzXk\ <<Y]P+uU 1vCp<D9< 场追迹仿真(相机探测器)
RBg2iG$8| ~m0=YAlk? •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
S4_ZG>\VT •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
*f{4_ts k.Gt}\6zP Y5B!*+h rg#/kd<?[V 场追迹仿真(电磁场探测器)
;~WoJlEK3 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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~/ B<h4ZK% DYC2bs> X7:Dw]t 场追迹仿真(电磁场探测器)
,I+O;B:0 T nyLVIP •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer +|K,\
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Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination E5c)\
D }g%&}`%' (来源:讯技光电)