[分享]VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 o|pT;1a"  
y3u+_KY-  
高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 K0pac6]  
wN-i?Ek0;  

图片:1-191125164532947.png

FCj{AD  
3riw1
r;Q  
建模任务 z&8un%Jt  
Q^Ql
\  

图片:1-1911251A00R22.png

J8a*s`ik  
概述 IeX^4rc(  
oEz%={f  
•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 0JuD^  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 oB1>x^  
penlG36Q  

图片:1-1911251A211D3.png

,|?CU r9Y  
Flxvhl)L  
光线追迹仿真 3voT^o  
t>)45<PEw  
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 BI?@1q}:  
•单击go！ y&[y=0!  
•获得了3D光线追迹结果。 t+r:"bb  
~I}9;XT  

图片:1-1911251A23G14.png

 _?voU  
F1%vtk;2?  
光线追迹仿真 uQb!=]  
H5cV5E0  
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 Z=5qX2fy1*  
•单击go！ FXdD4X)  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 :p&!RI(l  
%#L]]-%  

图片:1-1911251A311b4.png

gd/H``x|Y  
/2M.~3gQ  
场追迹仿真 %h"z0@+  
5v\!]?(O;  
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。  ,B<l  
•单击go！ <AlZ]
~Yct  
k^ 
F@X  

图片:1-1911251A335531.png

m9}AG Rj  
AGP("U'u  
场追迹仿真（相机探测器） ^I6^g  
22P$ ~ch  
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 W,@ If}  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 RE$`YCs5  
;{[>&4  

图片:1-1911251A41O04.png

e,_-Je  
Fk;oE'"D  
场追迹仿真（电磁场探测器） DD9?V}Yx  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Syp"L;H8Em  
RyB~Lm`ZK%  

图片:1-1911251A519A0.png

^[-el=oKn0  
P|2E2=G  
场追迹仿真（电磁场探测器） 39F Of  
l%z<(L5  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 \o-&f:
 
-F"QEL#  

图片:1-1911251A5594c.png

9~rUkHD  
w=h1pwY  
文件信息 (}r|yE  
0Z<I%<8bK  

图片:1-1911251A6203V.png

|wEN
`#.;b  
@4(k(  
更多阅读 U'UQ|%5f  
I2$T"K:eo  
-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer Sw`RBN[ yo  
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination [+*$\  
. #Z+Z  

收藏一下