摘要
n$B=Vt, _Su$oOy(Ea 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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'I\bz;VT f*LDrAf9 建模任务
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mp>,TOi~s7 概述
6# ,2 dI{)^ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
$x#Y\dpS •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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N
wHAoO#`wn5 $yLsuqB} 光线追迹仿真
[*]&U6\j Nz\=M|@(# •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
o-yZ$+V •单击go!
;| )&aTdH •获得了3D光线追迹结果。
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J> ENr\+{{%
}p]8'($ r`HtN{6r 光线追迹仿真
IBo)fE\O OZB(4{vnyC •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
7GB>m}7 •单击go!
U#G0 •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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v#8{pr {OXKXRCa 场追迹仿真
9l+'V0?` QcU&G* •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
PsjSL8] •单击go!
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5k)/SAU0 h2QoBGL5 场追迹仿真(相机探测器)
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;8H;U` •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
|$f.Qs~? •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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C{l.a. :*4b,P 场追迹仿真(电磁场探测器)
*I:^g •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 1U[Q)(P -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination wK>a&`< C^oj/}^ (来源:讯技光电)