摘要
lFY8^#@ yLOLv6g~e 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
}l!_m.#e s2=X>,kz? nn%xN\~< z5vI0 N$ 建模任务
!PIdw~YC $Xc<K_Z ye2Oh7 概述
PzDgl6C KZfRiCZ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
jloyJ@ck •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
{o%R~{6 )6+W6: L]<4{8H. 7'uc;5: 光线追迹仿真
t&]Mt 7 rNyK*Wjt •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
CHI( \DXNs •单击go！
0 %+k>(@ R •获得了3D光线追迹结果。
,m ]q+7E !;Nh7vG D / UGN+ h
cXqg 光线追迹仿真
[Cp{i<C -;"l 5oX •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
),, vu •单击go！
`,d 7_#9' •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
$8r:&Iw 3k^jR1 ?9TogW>W 64fG,b 场追迹仿真
-m /4\D K^ \9R •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
sc60:IxgI •单击go！
D m#k-y "QS7?=> *F tO3 ;; % U2$T}/@ 场追迹仿真（相机探测器）
'%N)(S`O7P d*L'`BBsp •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
CI{x/ e^( •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
y k2j&}M :TI1tJS~* 8F1!9W 7 mM.&c5U 场追迹仿真（电磁场探测器）
=w-H ) •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
>q A&;M q =6 Y2Q vNGvEJ`qn 5Y^ YKV{ 场追迹仿真（电磁场探测器）
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer fp0Va!T(V -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination pG&.Ye]j hM}2++ V （来源：讯技光电）
