摘要
lihIPMU
|nCVM\+5T 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
fB80&G9 V&*|%,q {J1iheuS} yky%+@2q 建模任务
e2e!"kEF G9^xv IRGcE&m 概述
:8K}e]!c1 y8_$YA/g •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
t"zi'9$t •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
{dXTj 7 AsD$M*It 5(gWK{R)* z&cM8w: 光线追迹仿真
6Df*wi!jI k".kbwcaF •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
<UF0Xc&X' •单击go!
Xp] jF^5 •获得了3D光线追迹结果。
nY7gST QChncIqc Esu{c9, ta6>St7. 光线追迹仿真
jST4O"DjM eTFep^[ •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
O6/:J#X% •单击go!
s`ZP2"`f •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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76N w3ATsIw U?an\rv GeDI\- 场追迹仿真
C{,^4Eh3r m}u)C&2> •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
k 3H0$1 •单击go!
Jz=|-F(Sy F^$;hMh% .uVd' }zks@7kf 场追迹仿真(相机探测器)
_Dd>e=v U(0FL6sPC •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
$|xSM2 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
7Q]c=i cg 5D.Sg;\ JO`r)_ gROK4'j6y 场追迹仿真(电磁场探测器)
e'>q( B •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Z? )=sbrCl,C/ ' Ut4=@) YGC%j 场追迹仿真(电磁场探测器)
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,| gyD ;kn\CP •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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0Dna+V/jI $,2T~1tE 5?F5xiW t"Ci1"U 更多阅读
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer %0} ^M1 -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination );%H;X+x hO&b\#@~ (来源:讯技光电)