摘要
eTemRNz \:9dt8(-U 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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a7s+l= Gf(hN|X. 建模任务
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56t9h/y 概述
Md(AqaA .|iMKRq •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
ggtGecKm •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
v=e`e68U~ M3ihtY
~=91Kxf 6&_"dg" 光线追迹仿真
v7&oHOk! ".A+'pJ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
L)W1bW} •单击go!
'QW/TJ=7r •获得了3D光线追迹结果。
IV*@}~BJ (T:OZmEO.
`!WtKqr%B .'N:]G@! 光线追迹仿真
@zo}#.g s\i:;`l:=5 •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
|^9+c2 •单击go!
l?Vm/YXb •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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w/_n$hX 场追迹仿真
h!.#r*vV gq9IJ •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
hbl%<ItI49 •单击go!
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!-%fCg(B ETU.v*HT] 场追迹仿真(相机探测器)
x?s5vxAKf k\->uSU9 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
4Ufx,] •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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D [O~'\Q 场追迹仿真(电磁场探测器)
:sO^b*e / •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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E.~; OS|uZ<"Rq3 场追迹仿真(电磁场探测器)
'lmZ{a6 1$S;#9PQ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer \1`L-lz -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Y)D~@|D, F\pw0^K;N (来源:讯技光电)