摘要
C_=! ( @`8 )6iY9[@tN 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
{S(?E_id5b :\L{S ej>8$^y CE-ySIa 建模任务
*qYcb}
] /J`8Gk59 UvRa7[<y%% 概述
{M U >5\ Ji4c8*&Jpc •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
g e:UliHJ •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
T[B@7$Dp* -X5rGp++ /]2-I_WB mZ3i#a4 光线追迹仿真
lBh|+K N bwUsE U 0 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
7$WO@yOsh •单击go！
\ }>1$kH; •获得了3D光线追迹结果。
&K2[>5
mG Q*Per;%J 23@e?A=C 2< )63[YO 光线追迹仿真
=K .' x =\`g<0 •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
]h~=lItTRZ •单击go！
]78I •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
G*2bYsnhX E8J `7sa ) Yz`
6 .5|AX6p+^ 场追迹仿真
e5maZ (.;F lidzs<W-fW •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
o Q I3Yz •单击go！
7g}4gX's ,Y=r]
fk ?~uTbNR }legh:/*?O 场追迹仿真（相机探测器）
55MsF}p x+l.04a@ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
KL,=Z&.<= •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
`DIIJ<;g [5,aBf) X |lOxRU f~ &}@U#w]l 场追迹仿真（电磁场探测器）
i%+cPQ^o •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
CdlE"Ye o $oW-U SdBv?` u|g cOcF VPQ 场追迹仿真（电磁场探测器）
; 0O3b dX{|-;6vm •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ,@jRe&6 -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination >J^bs &j >(S4h}^I （来源：讯技光电）
