摘要
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高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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t|[? 建模任务
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zfU{Kd 概述
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K-4PI+qQ\ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
dH!*!r> •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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g u" w:0E(z 光线追迹仿真
@dKTx#gZ 'DR!9De •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
c)J%`i$ •单击go!
P0@,fd< •获得了3D光线追迹结果。
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];m_4 L0,'mS 光线追迹仿真
?< +WG/(d !0+JbZ<%r| •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
[JiH\+XLPs •单击go!
qGo.WZ$ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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,(mR+a8 场追迹仿真
_>+Ld6.T6 T)/eeZ$ •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
C+$#y2"z#n •单击go!
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N8jIMb'< #mdc [. 场追迹仿真(相机探测器)
+7Gwg x5Bk/e' •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
K-v#.e4 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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Lbgi7|& ah "o~Cbj 场追迹仿真(电磁场探测器)
VA%J\T|G2\ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer \z$= K -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination )%TmAaj9d F59 TZI (来源:讯技光电)