摘要
FI$XSG BKay*!'PX 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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@MOCug4 J'e]x[Y 建模任务
V#L'7">VP JGis" e
5rloK" 概述
|NJ}F@t/5 P\AqpQv •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
|4fF T ` •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
~>g+2]Bn>$ V&%C\ns4
$Asr`Q1i
WI&lj<* 光线追迹仿真
xzr<k Sp LTXz$Z] •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
w#9_eq|3 •单击go!
^s-25 6iI •获得了3D光线追迹结果。
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<^c3} mlB~V3M'G 光线追迹仿真
~x#vZ=]8 OhFW*v •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
y3JMbl[S0 •单击go!
64umul •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
A[)C:q, 4x=(Zw_X
?:uNN .T8K-<R 场追迹仿真
ykmv'a$-4 :G=FiC •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
#K|9^4jt •单击go!
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Ur3m[07H 9:8|)a(1 场追迹仿真(相机探测器)
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q.W>4 k •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
q7_+}"i •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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"HK/u(z) PVYyE3`UB 场追迹仿真(电磁场探测器)
5k$vlC#[H •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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r4Q|5kT*i L'E^c,-x~ 场追迹仿真(电磁场探测器)
f<=Fe:1. U>Gg0`> •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer #g9ZX16} -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination <]d
LX}C) :]II-$/8 (来源:讯技光电)