摘要
h;4y=UU q>D4ma^ 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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0,"n-5Im p ?Ij-uo"o 建模任务
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]|((b/L3 概述
@Le ^- v4 vJ'yz#tl9 •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
-Z/6;2Q •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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Gct&}]3pm \U<F\i 光线追迹仿真
j"D0nG, \ eyQo>( •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
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B" •单击go!
~q#[5l(r8 •获得了3D光线追迹结果。
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lo>-}xd ]'1N_m]? 光线追迹仿真
[6RV'7`Abj +lDGr/ •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
!7,K9/" •单击go!
8Jib|#! •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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{%+3D,$) 1=o(sIeA 场追迹仿真
2U+z~ v @I^:I •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
F|n$0vQ* •单击go!
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b3 %& P7BJ?x 场追迹仿真(相机探测器)
U7f&N r/s&ee •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
&:cTo(C' •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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|qudJucV •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer I}Gl*@K&O -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Nno={i1jk *}WqYqOow (来源:讯技光电)