[分享]VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 DvHcT]l>5  
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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 \~d|MP}"F:  
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建模任务 >J^bs &j  
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概述 V|KYkEl r1  
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•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 <uDEDb1|l  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 N ncur]  
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H|k!5W^  
光线追迹仿真 ]4-lrI1#  
,S E5W2a]  
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 =fG c?PQ  
•单击go！ 0"7xCx  
•获得了3D光线追迹结果。 #XR<}OYcL  
e}yoy+9  

图片:1-1911251A23G14.png

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光线追迹仿真 |ybW  
md:$OC3  
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 U.is:&]E  
•单击go！ ]C_g:|q  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 @-nCK Yj  
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图片:1-1911251A311b4.png

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场追迹仿真 ^IGutZov  
&S}%)g%Iv9  
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 gQ4Q h;  
•单击go！ U<{8nMB  
Qg;A (\z  

图片:1-1911251A335531.png

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< .&t'W  
场追迹仿真（相机探测器） qOYCQ  
~L(=-B`Ow  
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 nlJ~Q_E(  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 oV
utHt  
?;@xAj  

图片:1-1911251A41O04.png

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>y)(M(o  
场追迹仿真（电磁场探测器） HSGM&!5mW  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ~6m-2-14q  
T.O^40y  

图片:1-1911251A519A0.png

@r4ZN6Wn  
7sKN`  
场追迹仿真（电磁场探测器） Kk+IUs  
q(<#7spz  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Q<W9<&VZe  

图片:1-1911251A5594c.png

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文件信息 &EKP93  
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