摘要
4nkE IZ iOqk*EL_r\ 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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Ip?]K*sq !gP0ndRJ= 建模任务
Zb''mf\ NY.k.
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~Fdx 概述
h`5)2n+ P I*\^,ow •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
M>l^%` •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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o6}n8U}bk uDuF#3
+" 光线追迹仿真
V"RpH, A^Cj1:, •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
+MUwP(U=w •单击go!
>V;,#5F_ •获得了3D光线追迹结果。
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GsV4ZZ <@,$hso7: 光线追迹仿真
Hs0pW5oZ E9 Y\X •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
1n%8j*bJq •单击go!
y,m2(V •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
9dKul,c ,&]MOe4@>
j9y3hQ+q $L}aQlA1JM 场追迹仿真
JlZ0n; <{ru|-9 •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
F^kwdS •单击go!
svhrf;3: (f1M'w/OD
fA^Em)cs2 ~&VN_;j_ 场追迹仿真(相机探测器)
``QHG&$/ uV]ULm#,i •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
(ku5WWJ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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M##';x0 ~+n,1]W_ 场追迹仿真(电磁场探测器)
RtV.d\ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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xJ(:m<z yTAvF\s$( 场追迹仿真(电磁场探测器)
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer kU*{4G|6 -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination g`,AaWlF oRY!\ADR (来源:讯技光电)