摘要
s"#N; Gr\jjf` 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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I HVU VD&wO'U 建模任务
)/DN>rU m-4#s `lE&:) 概述
: 8>zo X@[5nyILf •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
\^,Jh|T •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
y "+'4:_ kJ"rRsK iJhieNn f=V`Nn<=A 光线追迹仿真
~l:Cj*6x8 U/{t" e •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
1lIs
jBo g •单击go!
yNfj-wM •获得了3D光线追迹结果。
!VIxEu^ke @1'OuX^ l=9D!64 |)To 0Z 光线追迹仿真
p/_W*0/i H+I,c1sF •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
Eh;Ia6} •单击go!
A4(L47^ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
Ht+ro Y <-N eusx% :tO?+1 !bLCha\ 场追迹仿真
j%3$ytf|p 5!9y nIC+> •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
|0Fo{ •单击go!
<H]PP6_g: ha|2u(4 pW8?EGO@ s[{8:Px 场追迹仿真(相机探测器)
{(-923|, Y<POdbg •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
gmu.8 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
b/\O;o}] FEhBhv|m o7+<sL 1f^oW[w& 场追迹仿真(电磁场探测器)
zx"EAF{ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
*{5}m(5F +e>G V61 =3hJti9[ ?~.9:93 场追迹仿真(电磁场探测器)
1c"s+k]9 Bz,D4E$ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination .w\4Th# y'f-4E< (来源:讯技光电)