摘要
l%z< (L5 ZR v"h/~ 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
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Z}A%=Z\/3 7?gFy- 建模任务
|wEN`#.;b @4(k( 
|sZ! 概述
Uawpfgc} dm "n% •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
0n ~ Zz •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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H
xV#WoYKj y|&}.~U[ 光线追迹仿真
X7U uwIIP J?JeU/:+ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
'evj,zFhW •单击go！
@=]~\[e\ •获得了3D光线追迹结果。
bb42v7? UmnE@H"t$\ 
U`Jy!x2m g>d;|sK 光线追迹仿真
2-zT$`[]J /<CSVJ_r •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
GBFw+v/|4 •单击go！
) yY6rI;: •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
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Glq85S kY,U8a3! 场追迹仿真
TvNY:m6.% p2J|Hl| •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
#zrTY9m7 •单击go！
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/:<IIqO. o]{uc, 场追迹仿真（相机探测器）
E| YdcS h=kQ$`j6 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
sG~<M"znV •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
6*l^1; U T&T/C@z'R 
Ov-b:l H 2eeQ@]Wj[Z 场追迹仿真（电磁场探测器）
G5dO 3lwq •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
Hv]7e| d0hhMx6$ 
~ `>e5OgOJ wpA`(+J 场追迹仿真（电磁场探测器）
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer nI*/Mhx -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination wn
Y$fT9 j4 FeSGa （来源：讯技光电）
