摘要
TSVlZy~Xo )nrYxxN 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
j1=su~ 35 L\ T[MDjhv'
I]BhkJ 建模任务
JF=T_SH^U H-mQ{K^ 4vV\vXT * 概述
\["I.gQ #/HZ[Vw •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
uvJ&qd8M •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
4BeHj~~ UhJ!7Ws$ _7~q| _-2ntO<E 光线追迹仿真
7spZe" @!^Y_q •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
+ WT?p] •单击go!
u=Xpu,q •获得了3D光线追迹结果。
ZrB(!L~7 f?>
?jf ')/w+|F 2*a9mi 光线追迹仿真
We vd6)\ .&I!2F •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
#^(Yw|/K •单击go!
>pe!T
aBN •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
W }v
,6Oe 'p@m`)Z
,<Wt8'e R7O<>kt 场追迹仿真
|~&cTDd &WOm[]Q4 •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
Pq@-`sw •单击go!
?bg
/%o &3 Ki 7P]i|Q{ uGHM ]"!) 场追迹仿真(相机探测器)
yXqC v*c"SI=@M= •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
7|jy:F,w% •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
oTx>oM, ?@kz`BY $4qM\3x0, B I=57 场追迹仿真(电磁场探测器)
fRq+pUxU •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
s_^N=3Si
o{QV'dgu u:tcL-;U
P1Eg%Y6 场追迹仿真(电磁场探测器)
EBiLe;=X v`G}sgn •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
y&bZai8WlE
V<?0(esgR ]7oo`KcQ| %9J:TH9E) 文件信息
}EP}D?Mmu DtJ3`Jd ?%#no{9 K\zb+ 更多阅读
~*]7f%L- [:qJ1^U U -
Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer IO]tO[P# -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 0)7v_|z #p]V? (来源:讯技光电)