摘要
Z<@dM2b)
ZBl!7_[_ 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
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o-r00H| qB8R4wCf 建模任务
xdkC>o4> DRuG5| {I: 
e|S_B*1*0 概述
qttJ*zu X>4qL'b:z •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
TIYo&? Z) •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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6Us*z KgW ?$Jj^/luD 光线追迹仿真
$hq'9}ASOL b [os0D95 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
rs+
["h •单击go！
~"}o^#@DwJ •获得了3D光线追迹结果。
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Dwuao`~Xm HGl.dO 7NU 光线追迹仿真
"z9 p(|oZ br4?_, •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
/+ Q3JS( •单击go！
4"~l^yK •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
VL 2+"< G%5ZG$as 
K0C3s E2u9>m4_J 场追迹仿真
}(/\ vTn*1 bK#S xV •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
()o[(Hx+ph •单击go！
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uN+]q qCf / lDei} 场追迹仿真（相机探测器）
fe8}2#<o i.Z iLDs\7 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
y ]D[JX[ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
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iph}!3f (Qf . S{ ; 场追迹仿真（电磁场探测器）
I#PhzG C@ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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iOJ5KXrAO W*r1Sy 场追迹仿真（电磁场探测器）
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 3@42u G> -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination }inV)QQ IxaF *4JG （来源：讯技光电）
