摘要
U2D2?# byTTLs,}d 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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p1B 建模任务
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Lm{qFu 概述
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:ENdF `nC •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
B3V; •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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,p\:Z3{ZH [,)G\ 光线追迹仿真
n+XLZf# \_w>I_=F •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
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Lw1~ •单击go!
BHZCM^ •获得了3D光线追迹结果。
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+'VSD`BR Glw_<ag[ 光线追迹仿真
!|#W,9 JE<w7:R& •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
zvgy$]y'\ •单击go!
0lm7'H*~ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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3Hd~mfO\ -/'_XR@1 场追迹仿真
~Bi>T15e G8t9Lx •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
wJ%;\06 •单击go!
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z*FCd6X {gkzo3 场追迹仿真(相机探测器)
Nm7YH@x*o fFYfb4o •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
BtA_1RO •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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SM !Soz??~o/ 场追迹仿真(电磁场探测器)
6|G&d>G$_ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 1.tAl6] -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ?Xl;>}zj abD@0zr (来源:讯技光电)