摘要
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数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
N2;T\xx, |]DZc/ u<]-%ha$ Vu*yEF} 建模任务
E O52 E| "k)( , xA`Q4"[I 概述
=mn)].Wg b DeHU$ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
?>1AT ==wI •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
b~Y$!fc r'7;: ES;7_ .q oR [,?qu@f 光线追迹仿真
.YYiUA-i9n =xSFKu* •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
?NGM<nK;7 •单击go！
]N*q3 y|) •获得了3D光线追迹结果。
V.XHjHT \'q-Xr'}M lV?rC z T8Gx oNm 光线追迹仿真
SJ6lI66OX );kO2 7dg •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
1U;je,) •单击go！
hvtg_w6 K •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
7Wmk"gp e-ljwCD GLB7h 9> Y 1rU 场追迹仿真
mv/'H^"[_ -w1U /o. •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
pZ/x,b#. •单击go！
\;&j;"c,W E
b-?wzh ]c tUl #j [uT& sZxmg 场追迹仿真（相机探测器）
'\(Us^Ug y"#o9"&>& •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
lE78 Yl ] •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
2o] V q )-xx$0mL- }N]|zCE j k:Da+w_'1 场追迹仿真（电磁场探测器）
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&9 U •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
T\:Vu{| .2q 7X{4= WogJ~N,d53 KqG:o+V= 场追迹仿真（电磁场探测器）
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer jAB~XaT , -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 12U1DEd>- = Bcwd7+ （来源：讯技光电）
