摘要
zF;}b3oIo [4kx59J3b 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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S#jH2fRo }n6BI}n 建模任务
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9Lk.\. 概述
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NI?$ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
PHfGl •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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GK95=?f~8; F5:*;E;$ 光线追迹仿真
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g^M 4E4o=Z|K •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
jV:U% •单击go!
xVfJ]Y •获得了3D光线追迹结果。
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q5lRc=.b[ 5tP0dQYd 光线追迹仿真
xw%?R=&L rM [Ps=5 •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
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h •单击go!
\5s!lv*& •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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DbPw)aCj jt3s;U* 场追迹仿真
SwC,=S En5Bsz! •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
L2{to f •单击go!
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bn<&Xe )KXLL;] 场追迹仿真(相机探测器)
>GT0x jXZKR(L •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
7dPA>5"XD •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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He#+zE; zXcSE" 场追迹仿真(电磁场探测器)
((.PPOdJV •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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l*nSgUg Oo7n_h1 场追迹仿真(电磁场探测器)
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer %#7M~RB[ -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination '7Te{^<FQ$ dR$P-V\y`% (来源:讯技光电)