摘要
z,}1K! =A9>Ej/ 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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1 m,aJ(8G \bqNjlu |M`B 建模任务
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FyJI@PZdI- uDK`;o'F 概述
-r]s #$ n_AW0i. •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
2GXAq~h@ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
Wt()DG|[ AvRZf-Geg &5Ea6j AUcq\Ys 光线追迹仿真
7xB#) o53 JM -Tp!C> •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
7!hL(k[ •单击go!
c)#b*k,lw< •获得了3D光线追迹结果。
M:6H%6eT yfiRMN"2 kI]i,v#F 0aSN8 光线追迹仿真
f'\I52;FB }fZT$'*; •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
a2vUZhkR •单击go!
HB {w: •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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_' HGfYL')Z k^z)Vu|f. 场追迹仿真
idvEE6I@ ].pz •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
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4?W •单击go!
/],:sS7 hz<kR@k} dwv xV$Nt Otj=vGr0 场追迹仿真(相机探测器)
f?#:@ zcL /$\yAOA'y •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
6S])IA&VJ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
.Di+G-#aEs {3yzC <d#9d.< YNn,{Xi 场追迹仿真(电磁场探测器)
y^Oj4Y: •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
+Nv&Qu% eg~$WB;1 8II-'%S6q DGO_fR5L 场追迹仿真(电磁场探测器)
g}{Rk>k ,(N&% •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer h\Op|#gIT -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination KNC!T@O|{# ~)tIO<$U (来源:讯技光电)