摘要
tBEZ4 W>67 oXw} K((| 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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\(UEjlo 2w`k h= 建模任务
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I"awvUP]a[ 概述
I#(D.\P h%e}4U@X •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
a<+Qw' •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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I}oxwc PAF2= 光线追迹仿真
oQJK}9QR #;. tVo I •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
f(q^R •单击go!
:nki6Rkowt •获得了3D光线追迹结果。
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U$&O ?_9cFo59: 光线追迹仿真
}N;c r1:S8RT;H5 •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
Zf;1U98oC •单击go!
]>h2h ?2te •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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n y6-_mA] 2%g)0[1 场追迹仿真
C:/ca) /$zYSP)YT •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
b{H&%Jx) •单击go!
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*C W2h^ShG 场追迹仿真(相机探测器)
DmAMr=p HKO00p7 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
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d`n/ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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SZJ~ktXC-V 7V?]Qif~ 场追迹仿真(电磁场探测器)
Ni IX^&N1 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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F;yq/e#Q OI B~W •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ch,<4E/c[R -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Lu}oC2 a
#?%I# (来源:讯技光电)