摘要
EC`=nGF 2kkqPBc_
高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
K'f `}y9 ] rS:# LK 4r tNvf5` _L%
=Q ulu 建模任务
{ g7~e {2 12 o6KVV^x r~YxtBZH+ 概述
X0 ^~`g o XFo •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
SSn{,H8/j •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
ncdj/C ZE:!>VXa87 nw, XA0M3 sL4j@Lt 光线追迹仿真
_@@.VmZL l>*L
Am5 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
M97MIku~9 •单击go！
"L&84^lmf •获得了3D光线追迹结果。
Y|nC_7&Bv tRVz4fk[G `DS7J\c$ ngOGo = 光线追迹仿真
P^^WViVX RMs+pN<5 •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
7-VP)|L#G •单击go！
N1yx|g: •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
NnRX 0] 5kLz8n^z@@ :YCB23368" -8 Q}*Z 场追迹仿真
k"F \4M trz &]v=: •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
jK\AVjn •单击go！
vw6DHN)k qGdoRrp0Ov #c$z&J7e 61Wh %8- 场追迹仿真（相机探测器）
x4XCR,- #CRd@k ? •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
^4Tf6Fw# •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
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r4 0y`r.)G 场追迹仿真（电磁场探测器）
R1~wzy •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
B &e'n< 3QDz9KwCAw Ya;y@44 Z '~Ie~ 场追迹仿真（电磁场探测器）
G=PX'dS q0{ _w •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer m4?a'z" -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 5'/f f= O=}d:yZb! （来源：讯技光电）
