摘要
Ika(ip#]= WN9K*Tt~o& 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
K-,8~8[ ?n V& :~eY pipqXe 6U[bAp 建模任务
9 , >u, \K%A}gnHe 0PT\/imgN 概述
>Qold7
M 5$Da\?Fpn •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
0z r Zrl •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
.wJv_ Y=tx
kN 4pC.mRu
0 _|}
GhdY E 光线追迹仿真
< (<IRCR #azD& 6` •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
Kfk/pYMDq •单击go！
fFNwmH-jv •获得了3D光线追迹结果。
iES?}K/q A vr2MaY{h Z0Df~ @ < P#]U"?A 光线追迹仿真
`2.2; Vk '/ v@q]! •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
a^QyYX}\qR •单击go！
?R8wm E[ w •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
J-)9>~[E< TaTs-]4 0VBbSn}Z< yx&'W_Q@ 场追迹仿真
P8=!/L2? | A% Jx __ •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
A0`#n|(Ad! •单击go！
Z+]Uw /`vn/X^?^ )%D>U -
}2AXP2q 场追迹仿真（相机探测器）
6im !v<1Qx +`s%-}-r •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
lx"#S '^~ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
ZQ'bB5I YNV4' >4@/x{{ 4 g}'/ 场追迹仿真（电磁场探测器）
E0-<-w3' •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
i |IG sfw lv^ w] =q>p }Rx`uRx\ 场追迹仿真（电磁场探测器）
8O_0x)X /Xo8 kC •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
M9s cZu j Od5I:p]N 0}d^UG D H(WRm1i"G 文件信息
D<:J6W7] ` 7mRUDz TEY n^/n~ jt? . g' 更多阅读
i9 Tq h r#;GVJR6 -
Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer |A 0)-sVZ -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination rjLPX p !
_\a （来源：讯技光电）
