摘要
*b 7
^s,? qo&SJDG 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
uJAB)ti2I khO<Z^wi[
w|U@jr*H] ":#A>L? l 建模任务
f@V{}&ZWp |GLn
9vw7S
& /FA> 概述
Ml_:Q]kl^ Yhv`IV-s •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
0aq-drl5\ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
mm9S#Ya TlZlE^EE<
4dD@lG~ q~A|R 光线追迹仿真
0z2R`=) u+i/CE#w •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
w `9GygS •单击go!
*~aI>7H •获得了3D光线追迹结果。
zYl+BM-j,6 ,;-cz-,
oeqJ?1=! C
@[9 LB 光线追迹仿真
<k8rSxn{ @X / =. •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
fJN9+l •单击go!
7Bb@9M?i •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
x+j/v5 mjJlXA
T)?@E/VaS oGjYCVc 场追迹仿真
|r*1.V( hFF&(t2{^ •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
4xC6#:8 •单击go!
Fu=VY{U4 7JK 'vT
^K@GK mgl'
d 场追迹仿真(相机探测器)
FH@e:-*= kys-~&@+ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
oFA$X Y •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
:<|fZa4!" J'oz P^N
y"n~ET}e7 #B{F{,vlu, 场追迹仿真(电磁场探测器)
p{_O*bo
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
H "/e% +\@\,{Ujy
pc(9(. | A}+r;Y8[h 场追迹仿真(电磁场探测器)
]5MRp7 )FiU1E •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
Z-=7QK.\{ yOm6HA``hT
60gn`s,, R}YryzV5 文件信息
zL=I-f Vq Jrrk$0H^~
1;sAt;/W8
j7%%/%$o[ 更多阅读
IBHG1<3 t z>X'L -
Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 'Z%aBCM -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination r/w@Dh]{_ X%qR6mMfT7 (来源:讯技光电)