摘要
S+bpWA j1O_Az|3 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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建模任务
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w5`EJp8MC 概述
\p#_D|s/Ep MW|R)gt •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
Z '~Ie~ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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n;LjKE >e!Y 63` 光线追迹仿真
j8W<iy \Vx_$E •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
Hm'aD2k •单击go!
W>(w&k]%B •获得了3D光线追迹结果。
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8'M:uI
NA+7ey6 y I} > 光线追迹仿真
3z% W5[E) U+,RP$r@ •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
(qzBy \\p •单击go!
-tA_"q'^ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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dP?QPky{9 _R}yZ=di 场追迹仿真
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I 9V|)3GF •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
$r)NL •单击go!
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t==\D?Rt 5zz">-Q ! 场追迹仿真(相机探测器)
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[^ U |Uc|6 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
aSMoee@! •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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<R?S #gVWLm< 场追迹仿真(电磁场探测器)
7^C&2k5G •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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h53Z"a 场追迹仿真(电磁场探测器)
n`V? n K>TEt5 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer "]|7%] -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination SgssNv N 1ydL (来源:讯技光电)