摘要
S=_u3OH0 DK74s 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
?6CLUu|7n x/DV> Nfn +]eG=.
u N4vcd=uG# 建模任务
e,JBz~CK*w ij$NTY=u @Chl>s 概述
,)1C"' Ddr.6`VJ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
zR<{z •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
.dU91> ~Ov ~JT`q:l-q gw)4P tb! Cw,a)XB 光线追迹仿真
4
neZw'm 93]63NY •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
q`1tUd 4G •单击go!
K=N&kda •获得了3D光线追迹结果。
@D;K&:~|N h-96 2(LG t`8Jz~G` 7Mh'x:p 光线追迹仿真
v#?DWeaFS_ 6Cy Byj& •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
sE?%;uBb •单击go!
1Vy8eI`4 •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
KR( apO @} r*KF- =MqEbQn{C3 @&m [w'tn 场追迹仿真
tx5bmF;b) 0eA<nK •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
~rV $.:%va •单击go!
`,V&@}&"n xRWfZ3E# ;5/Se"Nd :zU4K=kR 场追迹仿真(相机探测器)
%$&eC K6->{!8]k •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
C1;uAw?\ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
u.2X" k M/:n NOTG|\{ f/sz/KC]~ 场追迹仿真(电磁场探测器)
dEDhdF#f •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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场追迹仿真(电磁场探测器)
rPB Ju0D" lz`\Q6rZ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Xn"#Zy_ iX?j "=! efyEzL Tcy9oYh!Pn 更多阅读
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer :tV"uWZFU -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ]4O!q}@Cd !"hlG^*9 (来源:讯技光电)