摘要
wfjc/u9W6R D)brPMS:o 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
)*5G">) )p [,aqQ6S 1[*{(e P(>(K{v 建模任务
1'4J[S\cM "W#t;;9Wz ((rv]f{ 概述
NA.1QQ;e w~@-9<^K]v •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
PjIeZ&p •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
Ce'pis pU!o7>p !4rPv\ ]p~IYNl2%j 光线追迹仿真
i\H+X S
}>n1F_ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
hGf-q?7 •单击go!
E&B{5/rv •获得了3D光线追迹结果。
|7^^*UzSK: dS`Bk6Y .]|Zf!>}s 7rHS^8'H& 光线追迹仿真
V5D`eX9 5=KF!? •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
Y1dVM]l •单击go!
7);:ZpDv%L •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
#'hLb c
{I"R8 y)F!c29 )uLr?$qe 场追迹仿真
&&L"&Rc :ZxLJK9x1 •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
eu'1H@vX( •单击go!
]Fb0Az )h^NR3N G*\h\@ XV'fW~j\ 场追迹仿真(相机探测器)
=ex'22 FXo2Y]K3`L •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
JLb6C52 •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
Ih1|LR/c 0W>9'Rw +ySY>`1k~ Napf"Av 场追迹仿真(电磁场探测器)
Ak~4|w- •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
2:$ k s%;<O:x8o I"xWw/Ec Y(GN4@`S 场追迹仿真(电磁场探测器)
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer !v!N>f4S$ -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination nR8]@c C 1a9w(X (来源:讯技光电)