摘要
.IgRY\?Q "UG
K8x 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
xzm@
v( OX\$ nQ\o
Q =#I9- l+[czb~ 建模任务
_'!kuE,*1 -:<lkq&/
$i#?v 概述
8md*wEjk Y/fJQ6DY •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
+&5'uAe •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
booRrTS bcH_V|5}
19t{|w< Vn, ><g 光线追迹仿真
P`(Mk6gE X(Qu{HhI •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
eKG2*CV •单击go!
7 ^$; •获得了3D光线追迹结果。
TTZe$>f QR0(,e$Dl
r2\c'9uH 8 lT{1ro 光线追迹仿真
o6a0'vU>< "& 25D •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
lG:kAtx4 •单击go!
.c+9P<VmC} •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
Ak@Dyi?p Kz?#C
A m"(+>W21 S,jZ3^ 场追迹仿真
n V&cC t;NV $!! •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
ny*i+4Mb •单击go!
vScjq5"p
-c*\o3)
5,)vJ,fs "_1)CDqP 场追迹仿真(相机探测器)
C! 9} i=S~(gp •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
W7sn+g\ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
uLR<FpM B?bW1
'b&yrBFD m Y,|J\w@ 场追迹仿真(电磁场探测器)
%aRT>_6" •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
!l@zT}i?? jgv`>o%<W
x;s0j"`Jb % Zjdl 场追迹仿真(电磁场探测器)
?)D^~/
A O`[aU%4b •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
EgjR^A1W2 nh+l78
^teq[l$; 3SttHu0X 文件信息
h^UKT`9vt I:98 $ r$
OHv! GL$De,V 更多阅读
b aV>N[F& Fh$slow4! -
Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer KngTc(^_D -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 3?I;ovsM >$WQxbwM( (来源:讯技光电)