摘要
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# w~& 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
^-Kf']h U })8N5C+KU rt~d6|6 Pz |>"' 建模任务
/dQl)tL QIvVcfM^ O{G?;H$ 概述
1&evG-#<: 6x[}g •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
j9 4=hJVKi •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
C>j@,G4 a /l)qB# i&66Fi1
}mq6]ZrK 光线追迹仿真
cr?Q[8%t1 L M bn •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
ex 9g?*Q •单击go！
X0H!/SlS •获得了3D光线追迹结果。
2 %@4] E=CsIK #Z`q+@@ ]A ,+vy,<e& 光线追迹仿真
m=A(NKZ
m}aB?+i •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
kmsb hYM) •单击go！
A gg<tM{yB •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
aS{n8P6vW &<5zqsNJ\a )=Z>#iH1 +]A:M6P:{v 场追迹仿真
n E& @Q otl0J Ht*+ •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
6?mibvK •单击go！
'4Ixqb+ '}JhzKNj j4qR(p(vC J^nBdofP 场追迹仿真（相机探测器）
fk[ -mZ zyc"]IzOU •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
^aMg/.j •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
f c%x S7& 4(~L#}:r! DiScFx |rE EXwo,?I 场追迹仿真（电磁场探测器）
T`.O'! •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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+Da=L 场追迹仿真（电磁场探测器）
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer f ue(UMF~ -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination AGO+p(6d=g N/'b$m5=
S （来源：讯技光电）
