[分享]VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 7n {uxE#U)  
$:SHZe  
高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 (J5E]NV  
Hcuvu[)T"  
/z`
LB  
YS%HZFY, "  
建模任务   "Qm  
G,%R`Xns  
8h}o5B  
概述 1%t9ic  
EC|t4u3  
•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 (m25ZhW  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 ,{=#
  
b<NI6z8\  
k#&d`?X  
pvD\E  
光线追迹仿真 d A[I  
"I}3*s9Q-  
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 i_Ab0vye  
•单击go！ >
d&B:  
•获得了3D光线追迹结果。 8 YsDE_  
;i@,TU  
ilHZx2k  
txw:m*(%  
光线追迹仿真 LW 8LD|@  
FQ26(.  
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 -xPv]j$  
•单击go！ +"'cSAK  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 +QGZ2_vW  
uPQ:}zL
2  
F$F,I,$ "  
sFuB[ JJ}  
场追迹仿真 >$j?2,Za(V  
3o5aB1  
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 9{]U6A*K0w  
•单击go！ Q,S~+bD(z  
ozy~`$;c  
:q/%uca9  
<k+dJ=f  
场追迹仿真（相机探测器） jhOQ)QE|  
>|'u:`A  
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 f.-b.nNf  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 UJ* D  
p"\
Z@c  
F[RQ6PW  
F<39eDNpz  
场追迹仿真（电磁场探测器） b"DaLwKkz  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 :c)N"EJlI2  
XEl-5-M"  
LVP2jTz  
uxLT*,  
场追迹仿真（电磁场探测器） *")Req  
gqJSz}'  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ?Dm={S6  
K[r<-6TS  
P'MfuTtT&  
0N>NX?r  
文件信息 H3CG'?{ _  
j
whc;y  
9K,PT.c  
/enlkZx=8  
更多阅读 BQTZt'p  
3Z/_}5%"  
-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer RC?gozBFJ  
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ZEa31[@B[  
.Nt;J,U  

收藏一下