摘要
}wkaQQh nh. b/\o 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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w23 fB[\("+ +QupM gL,"ef+nM 建模任务
x?>!UqgkY 3#<'[TF00t BGA%"b 概述
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Lt •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
X o_] v •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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!Pe1o-O y$v@wb5 光线追迹仿真
P[1m0!,B As p8qHS •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
G/%Ubi6% •单击go!
IPkA7VhFF •获得了3D光线追迹结果。
S^)WYF5 n1JC?+ dd19z% haik 光线追迹仿真
E.U0qK], zdT ->% •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
uJm #{[ •单击go!
"?`JA7~g •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
lxCX-a`@p bA0uGLc \/X{n*Hw? kkHTbn=! 场追迹仿真
wFn@\3%l` o9~h%& •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
Qlf
9]ug) •单击go!
=05iW mC%%)F'Zf lJ("6aT? f>?^uSpWH 场追迹仿真(相机探测器)
%h3L CF,8f$:2 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
s&Z35IM8| •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
P7cge K:Mujx: }ty"fI3&iY - a 场追迹仿真(电磁场探测器)
[U%.Gi •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
.Kg|f~InO P} +2>EU W{L b1eK(F 场追迹仿真(电磁场探测器)
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer Fl8w7LcF7 -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination mOwWg E`A<]dAoK (来源:讯技光电)