[分享]VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 /Iu._2  
~f2zMTI|  
高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 S,,3h0$X  
l<$c.GgFd  

图片:1-191125164532947.png

2JYt.HN  
[\&Mo]"0  
建模任务 ; (+r)r_  
$|YIr7?R  

图片:1-1911251A00R22.png

W+~ w  
概述 ^9UF Pij"  
*<
!W k\  
•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 VPTT*a`  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 )Oz( <vxw  
(r.{v@h,dV  

图片:1-1911251A211D3.png

>1tGQ c
g  
O.E  
光线追迹仿真 zY|]bP[NEH  
K`FgU7g{  
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 k[
Iwxl;/  
•单击go！ v[6BESu  
•获得了3D光线追迹结果。 |pp@  
&hba{!`y  

图片:1-1911251A23G14.png

= sIR[V'(  
j78xMGKO  
光线追迹仿真 v-)e
T  
9kP!O_  
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 C<fNIc~.  
•单击go！ }FMl4 _}u  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 vd /_`l.D  
('uYA&9  

图片:1-1911251A311b4.png

*4qsM,t  
uPV,-rm[F_  
场追迹仿真 %i%Xi+{3  
.tN)H1.:B  
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 B:z-?u#B  
•单击go！ 0mj=\j  
gqD`1/  

图片:1-1911251A335531.png

%TG$5')0  
7"xd'\c@  
场追迹仿真（相机探测器） Ai->,<Ig]  
Mn~A;=%qF  
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 9$Mi/eLG2N  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 45j+n.9=  
jD^L<  

图片:1-1911251A41O04.png

y=vH8D]%X  
YC=BP5^  
场追迹仿真（电磁场探测器） ;*W]]4fy  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 qW7"qw=   
4&ea*w  

图片:1-1911251A519A0.png

B@zJ\Ir[  
f/;\/Q[Z7  
场追迹仿真（电磁场探测器） I I>2\d|   
R

|+R4'  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 i8B%|[nm  
2J4|7UwJ  

图片:1-1911251A5594c.png

}7=a,1T  
GYO\l.%V5y  
文件信息 `8dE8:#Y  
N^ D/}n  

图片:1-1911251A6203V.png

2hJ{+E.m  
HnP;1Gi  
更多阅读 {yb\p9q{Yo  
NNl/'ge<\  
-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer zK-hNDFL{  
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Etu>z+P!  
^Nsl5  

收藏一下