摘要
So)KI_M ohc/.5Kl 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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XC$+ `? $@u^Jt, ? 建模任务
j quSR= VH7iH|eW DX%8.@ 概述
WfTdD.Xx +3o)L?:g •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
!7ZfT?& •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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];b!*Z t7!>5e)C} ktw!T{ 光线追迹仿真
#a'x)$2;R| >Rki[SNb-b •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
j3rv2W\ •单击go!
:S+U}Sm[ •获得了3D光线追迹结果。
,I2reG z[lRb]:i[ 5>1Y="B }d~FTre 光线追迹仿真
L
yA(. Za:BJ: •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
Z'EO •单击go!
)(ZPSg$/F •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
Pu%>j'A $MJDB ^pQ;0[9Y0 0ZID
@^ 场追迹仿真
2GD mZl tFST.yT>zg •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
/<?X-IDz.{ •单击go!
H`6Jq?\ 8F\Msx (fGJP*YO ^$Eiz. 场追迹仿真(相机探测器)
PM@s}( _@~kYz •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
kG;\i •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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X$+7} ux79"5qb ,?~UpsUx 场追迹仿真(电磁场探测器)
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^*;c# •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 9@z|2z2\G -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination g@6X|W5,J R
EH&kcn (来源:讯技光电)