摘要
"_0sW3rG 3!op'X! 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
z2i Wr T@xaa\bzg eRm*+l|? =F% <W7 建模任务
OIs! ,G| g;~$xXn 2WS Wfh 概述
Mtaky=l8~I ,(B/R8ZF~ •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
V]Kk = •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
|JiN;
O+K /Yj; '\3 ! {F\ \D/ XnKf<|j6k 光线追迹仿真
uHuL9Q^ &,QBJx<# •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
qzWn l[3 •单击go！
\I7&F82e •获得了3D光线追迹结果。
79uAsI2-Y ZEB,Q ~ Jq:Wt+a &hE k m 光线追迹仿真
Tdxc%'l mUfANlQ: •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
nTE\EZ+=2 •单击go！
v2ab84
C* •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
je74As[ ^YB3$: @$U 8w ]'U * Na 8w'Q 场追迹仿真
q3D, hG_ # ';b>J •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
Hv*+HUc(: •单击go！
&r!jjT ?s] ?2>p m' eM&1Ba 82YZN5S3]3 场追迹仿真（相机探测器）
L;U?s2&Y =&mdxKoT0 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
0K N'\KE •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
c^~R %Bx .X"\ Mg +hIMfhF ahR-^^'$ 场追迹仿真（电磁场探测器）
1`9'.w +r •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
loD:4e1 Y+C6+I<3 N p? / r} yW;]J8 7* 场追迹仿真（电磁场探测器）
} DjbVYH >L^ 2Z* •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer fn.}LeeS> -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 6~Y`<#X5J @}tk/7-E （来源：讯技光电）
