[分享]VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 Jd#g"a>zZ  
:+Ti^FF`w  
高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 %Y!31oC#  
~Y;_vU  

图片:1-191125164532947.png

bDK%vx!_  
S 2vjjS  
建模任务 bz$)@gLc  
Y6<"_  

图片:1-1911251A00R22.png

l@C3
9VP  
概述 (b!`klQ  
vhsHyb  
•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 cvSr><(  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 KlOL5"3  
j!m42  

图片:1-1911251A211D3.png

+2Xq+P  
HYqDaRn  
光线追迹仿真 Ek#?B6s  
{jVEstP  
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ?mM6[\DFoT  
•单击go！  3"B$M  
•获得了3D光线追迹结果。 XQW9/AzNf  
xi3  

图片:1-1911251A23G14.png

>2kjd  
_pZ
2^OO@  
光线追迹仿真 U`*L`PM  
bSbUf%LKt  
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 7l+>WB_]  
•单击go！ Fh[Gq  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 ZV,1IaO  
4<c#3]  

图片:1-1911251A311b4.png

'UW]~  
y*6-
?@  
场追迹仿真 Pgdv)i3  
-`d9dJ dB  
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 Fqr}zR)  
•单击go！ ItLP&S=  
y&F0IJ|`@M  

图片:1-1911251A335531.png

B`I9  
vJ`'x  
场追迹仿真（相机探测器） A]x'!qa@=  
!/]vt?v#^  
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 RCCI}ovU  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 3d_PY,=1  
HW,2x}[  

图片:1-1911251A41O04.png

uW@o,S0:  
<Oyxzs  
场追迹仿真（电磁场探测器） 9bE/7v  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 8r|5l~`8  
Z{#;my*X|  

图片:1-1911251A519A0.png

P. V #  
+WGL`RP  
场追迹仿真（电磁场探测器） sPKyg  
C{"uz_Gh  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 @-g'BvS  
%b)~K|NEFf  

图片:1-1911251A5594c.png

VlLc[eVV  
0nX.%2p#Je  
文件信息 c"<bq}L7S  
"?[7oI}c&  

图片:1-1911251A6203V.png

$ 2/T]  
P#8]m(  
更多阅读 `;'fCO!  
A&dNCB  
-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer q1d'L*  
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination \K,piCVViN  
bM%c*_$F7  

收藏一下