[分享]VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要  o{-PT'  
a*SJHBB  
高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 k9^P#l@p  
!]kn=7  

图片:1-191125164532947.png

PI?-gc?[  
d
Dpe$N  
建模任务 0*g psS  
/_}v|E0  

图片:1-1911251A00R22.png

m7M*)N8  
概述 =z=Guv
cn`  
d+&V^qLJ  
•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 #ml
lVQ  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 4
uNcp0  
hJd#Gc~*M  

图片:1-1911251A211D3.png

xY!]eLZ)&  
U Ciq'^,  
光线追迹仿真 Rb9Z{Clq>  
m%Ef]({I  
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 .7)A8R7Wt  
•单击go！ !/jx4w~R  
•获得了3D光线追迹结果。 ,YkQJ$  
*\joaw  

图片:1-1911251A23G14.png

vxqMo9T  
<M$hj6.tn  
光线追迹仿真 (j-(fS
 
|fw+{f  
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 ! prU!5-  
•单击go！ 1/&j'B  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 a#raUF7e  
aB'<#X$x  

图片:1-1911251A311b4.png

!o.g2  
<c\aZ9+V  
场追迹仿真 Hy `r}+  
t: [[5];E  
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 7PisX!c,h  
•单击go！ (yXVp2k  
2<988F  

图片:1-1911251A335531.png

Vm6^'1CY  
rBny*!n  
场追迹仿真（相机探测器） ho(Y?'^t3  
N@A#e/8  
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 J@Orrz2q#  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 [{zekF~)@  
<=7p~ i5  

图片:1-1911251A41O04.png

#); 6+v  
&pmJ:WO,h  
场追迹仿真（电磁场探测器） *=sU+x&X  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 u{3KV6MS  
/S;?M\  

图片:1-1911251A519A0.png

d9^=
#ot
 
G
B !3Z  
场追迹仿真（电磁场探测器） buhxC5i%  
7P\sn<  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 {==Q6BG*  
b#y}VY)?  

图片:1-1911251A5594c.png

';lO[B  
5o72X k  
文件信息 []Fy[G.)H  
snK9']WXo  

图片:1-1911251A6203V.png

K^>qn,]H'  
'rF TtT  
更多阅读 -#i%4[v  

keWgbj  
-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ,2cw9?<  
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination /0\pPc*kA{  
Fj&vWj`*  

收藏一下