[分享]VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 4u- mE  
r==d^  
高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 Vea2 oQq  
4zyN>f|  

图片:1-191125164532947.png

[qbZp1s|(  
OSreS5bg  
建模任务 j5\z7  
""$vaqt  

图片:1-1911251A00R22.png

N~H!6N W  
概述 'u@,,FFz[K  
#&0G$~  
•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 Qw>~]d,Z  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 )Y4;@pEU  
0V;9v  

图片:1-1911251A211D3.png

CjR!dh1w_  
O2xbHn4  
光线追迹仿真 |wbX
u:  
qzon);#7w  
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 "x1?T+j4  
•单击go！ |"]#jx*8KC  
•获得了3D光线追迹结果。 ^mH:8_=(.  
qwhDv+o  

图片:1-1911251A23G14.png

jVlXB6[-  
d1
jg3{pwA  
光线追迹仿真 {
CH5`&  
GVT| fE  
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 @LSfP  
•单击go！ kz0pX-@b  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 /,d]`N!  
pk8`suZ  

图片:1-1911251A311b4.png

h\T}$jgfWm  
D :)HKD.  
场追迹仿真 =W*Ro+wWb  
OYyF*F&S[  
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 r\A|fiL  
•单击go！ Gq=tR`.  
-e\OF3Td  

图片:1-1911251A335531.png

ke<l@wO  
V=gu'~  
场追迹仿真（相机探测器） lLur.f  
(I/ZI'Ydy  
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 Xv+!)j<  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 %0p9\I  
x.9[c m-!  

图片:1-1911251A41O04.png

v4qpE!W27~  
lSfPOx;*  
场追迹仿真（电磁场探测器） ww
NkJ+  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 `z^50Vh|  
c8N pk<  

图片:1-1911251A519A0.png

~tLvD[n[  
J8B0H1  
场追迹仿真（电磁场探测器） Sc ijf 9  
d(j g "@  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 wE-y4V e  
@X2zIFm  

图片:1-1911251A5594c.png

ujn7DB
E"  
%(S!/(LWW  
文件信息 \maj5VlJ  
g,G{%dGsk  

图片:1-1911251A6203V.png

z%]3`_I  
7:zoF],s  
更多阅读 =eR#]d  
7H4\AG\>  
-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ]M 2n%9  
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination lmIphOUoIw  
>_#A*B|  

收藏一下