摘要
C"}]PW fl9J 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
0.Nik^~ 0Ioa;Xg On ! F&{I S1$& 建模任务
*O-si%@] @6DV?VL | w^nCsv 概述
8>^O]5Wo`X Ps MCs|* •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
;(Qm<JAa •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
5@Lz4 ` oY%NDTVN ` Axn
F_%&,"$ 光线追迹仿真
F U~:9EEx zw X 1&rN •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
*$ 7c||J7 •单击go！
I%G6V
a@ •获得了3D光线追迹结果。
au 1(.( |a {*r . j.rJfbE|X Zz04Pz1 光线追迹仿真
aq,? )![? JXf •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
0~X Z •单击go！
*X lnEHv •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
n.xW"omN g)k::k)<e -i?- Xj#% 6ax|EMw 场追迹仿真
9a9{OJa6M )b AcU •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
|P]>[}mD •单击go！
p[%FH? f~? MNJ2 Dos`lh
h=~ TgTv 场追迹仿真（相机探测器）
h{cJ S9e} Lm }:` •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
ZjXpMx, •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
)W/ mt[; }A`4 ae= LY^pmak Ol'Ct'_k," 场追迹仿真（电磁场探测器）
LN?W~^gsR •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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#_1( 场追迹仿真（电磁场探测器）
#}W^d^-5t5 *1KrI9i •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ~% QVjzMC -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination I7hE(2!$ [s4lS Gh （来源：讯技光电）
