摘要
N mA6L+ L .s$|% 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
Q_)$Ha{>H, +QEP:#qZw 4 ; 2 7O-fc1OTv 建模任务
yN hRh>l b ~*CJ8Ad 3UX6 Y]E3 概述
)A$xt)}P!{ x
}@P •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
I8/tD|3 •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
W)<t7q+ (h|E@gRa []$L"?]0uk TT oW>RP# 光线追迹仿真
8shx7" sDB,+1"Y$ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
R2A#2{+H •单击go！
aL&nD1f=!- •获得了3D光线追迹结果。
C~IE_E&Q` !;U oZ~ t,u ;"%go 7]_zWx,r 光线追迹仿真
RF= $SMTk _fccZf(yC. •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
h=4 GSU •单击go！
CK#i 6!~r •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
c,:nWf uO)vGzt3^x $)eS Gslz N 9s+Tm 场追迹仿真
0DFVB%JdI [V_+/[AA) •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
} ,@ex •单击go！
0YC|;`J "d`u#YmR x !6< 7s n1x"B>3 场追迹仿真（相机探测器）
y'!"GrbZ >Q=Q%~ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
~ e&O?X •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
\EXa 9X2 k=cDPu - yJ="dEn>i" xf{ZwS%X 场追迹仿真（电磁场探测器）
kA> e*6 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
,M~> t7+ v o4U% ((&5F!+\- 6a<zZO`Z6+ 场追迹仿真（电磁场探测器）
&;sW4jnt hV +=hX<h •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer JL>frS3M -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination &F:.O VzX [k0/ZfFwV （来源：讯技光电）
