[分享]VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 ke!?BZx  
B[qzUD*P_n  
高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 .7^c@i[  
M|VyV(f  

图片:1-191125164532947.png

*$#W]bO  
sZ'nYo  
建模任务 a a<8,;  
t1]K<>g  

图片:1-1911251A00R22.png

k3~}7]O)  
概述 @<,X0S  
'-wj9OU  
•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 5b5x!do  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 +20G>y=+  
~cWAl,(B<F  

图片:1-1911251A211D3.png

 ;i4Q|  
GeI-\F7b  
光线追迹仿真 5sdn[Tt##  
/{Is0+)  
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 S&e0u%8mc  
•单击go！ {vs uPY  
•获得了3D光线追迹结果。 \-L&5x"x  
.GbX]?dN  

图片:1-1911251A23G14.png

?xA:@:l/  
XWDL5K  
光线追迹仿真 "_P;2N6  
Cmu@4j&  
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 ih)zG  
•单击go！ [<7@{;r  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 z__EYh  
N%kt3vmQ_  

图片:1-1911251A311b4.png

; a/X<  
9K.V
b1&  
场追迹仿真 :1^LsLr5  
5
]~'_V  
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 uyO/55;HO  
•单击go！ B{/R: Hm  
FO+Zue.RS  

图片:1-1911251A335531.png

i1UiNJh86  
!NIhx109q  
场追迹仿真（相机探测器） s kvGU(G}  
>q#rw  
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 @#<D ^"  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 -^K"ZP1  
q6@Lp^f  

图片:1-1911251A41O04.png

0\H\lKcK  
u$h 4lIl  
场追迹仿真（电磁场探测器） r~E=4oB7  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 5:\},n+VE  
rr+|Zt Y  

图片:1-1911251A519A0.png

I*o
()  
\jh'9\  
场追迹仿真（电磁场探测器） &[_g6OL  
 R(!s  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Ld\R:{M"  
[\'%?BH(^  

图片:1-1911251A5594c.png

lyIl-!|
 
f}aL-N~  
文件信息 %
u?>#  
3Ko/{f  

图片:1-1911251A6203V.png

|_LU~7./  
WgR).Yx  
更多阅读 T{Gj+7bQ~  
|^0XYBxQ  
-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 5k!g%sZ  
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination xRJ\E }/7  
J{'>uD.@  

收藏一下