摘要
p:<gFZb <Mn7`i 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
0S:!Gv+ 199hQxib:
f93rY< 0tm_}L$g=b 建模任务
Be>c)90bO_ *CY6
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FHNuMdFn 概述
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E hW!@$Ph •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
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( •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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=PKt09b^ wdcryejCkr 光线追迹仿真
N 1f~K.e\ oF b mz* •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
?^48Zq6wM •单击go!
.)^3t~ •获得了3D光线追迹结果。
G<u.+V O{ %A&Ui
o eJC z^!A/a[[! 光线追迹仿真
?V5Pt s ? W2I1HEy •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
IJ_'w[k •单击go!
%YvSHh;c •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
9u7n/o&8v6 RZ)vU'@kx
3
!> L? xH`j7qK. 场追迹仿真
bV )PT`-, }OP%p/eY •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
0'%+X| •单击go!
g"Q}h ,LW(mdIe(
)0n29 ))CXjwLj; 场追迹仿真(相机探测器)
Qor{1_h)+9 N1+4bR •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
iUxDEt[t* •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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*3F /Ft5 fVA=<: 场追迹仿真(电磁场探测器)
9o_ g_q •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 9*-pden
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Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination !!-}ttFA QLF,/" (来源:讯技光电)