摘要
4+;$7 "fJ /u%h8!"R 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
DQ#H,\ ^< YevyN\,}V! 
}A=y=+4 j <*!i$(gn 建模任务
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z4#(Ze@u~_ 概述
Kv'n:z7Md OLGB t •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
6lwta`2 •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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7?8wyk|x 9^"b*&>P 光线追迹仿真
#`TgZKDg2 $
,SF@BhO •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
o%{'UG •单击go！
M igd(uw' •获得了3D光线追迹结果。
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zya5Jb:Sg `\`> 0hlu 光线追迹仿真
?[<Tx-L ?\KM5^eX •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
7(M(7}EKA •单击go！
fj7|D'c •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
P g9hW Oa;X + 
Z=B_Ty E:zF/$tG 场追迹仿真
D(p\0 V `RU[8@ 2% •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
\^( 0B8|w •单击go！
g4`Kp; }&' WW+l' 6. 
ES~^M840f NK|? y 场追迹仿真（相机探测器）
alh >"9~! aQ^umrj@?9 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
-9RDr\&`( •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
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/@AEJ][$ xtPLR/Z 场追迹仿真（电磁场探测器）
+_XmlX A3Z •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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(feTk72XX &g2 Eptx # •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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^[%%r3"$C eC5 $#,HiC 更多阅读
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer $/6;9d^ -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination QwhRNnE= l5l>d62 （来源：讯技光电）
