摘要
Jd#g"a>zZ :+Ti^FF`w 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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bDK%vx!_ S 2vjjS 建模任务
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l@C39VP 概述
(b!`klQ vhsHyb •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
cvSr><( •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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+2Xq+P HYqDaRn 光线追迹仿真
Ek#?B6s {jVEstP •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
?mM6[\DFoT •单击go!
3" B$M •获得了3D光线追迹结果。
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>2kjd _pZ2^OO@ 光线追迹仿真
U`*L` PM bSbUf%LKt •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
7l+>WB_] •单击go!
Fh[Gq •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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'UW]~ y*6-?@ 场追迹仿真
Pgdv)i3 -`d9dJ dB •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
Fqr}zR) •单击go!
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B`I9 vJ `'x 场追迹仿真(相机探测器)
A]x'!qa@= !/]vt?v#^ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
RCCI}ovU •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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场追迹仿真(电磁场探测器)
9bE/7v •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer q1d'L* -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination \K,piCVViN bM%c*_$F7 (来源:讯技光电)