摘要
~(-df> b\Mb6s 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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Vif)e4{Pn U1=]iG<% 建模任务
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303x|y 概述
B42qiV2/k +(m*??TAV •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
?/YT,W<c;& •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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ZJ%iiY >/9Qgyc0 光线追迹仿真
mc|8t0+1` om1D} irKT •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
~kOXMLRg •单击go!
|5(un/-C •获得了3D光线追迹结果。
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p&lT! 5P!A `C)|}qcC 光线追迹仿真
feT.d +Fd E.4 X, •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
]DK.4\^ •单击go!
^o[(F<q •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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wT&P].5n RX,c 4; 场追迹仿真
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hOr4C4 •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
BUU ) Sz •单击go!
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S!g0J}.z uE&2M>2 场追迹仿真(相机探测器)
RsnFjfb' Vee;& •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
`m\l#r2C •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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otJHcGv @iaz_; 场追迹仿真(电磁场探测器)
}EJ'tio] •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer =d1R9O -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination i`vgD<} AGgL`sP (来源:讯技光电)