摘要
1aE/_ A 5 X+Z 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
pJz8e&wyLM I[UA' ~f 8i lbX)O fhmr*E'J 建模任务
}dUC^04 Z?.*.<"Sj 6iG<"{/U5 概述
M 9#QS`G |S{P`)z%f •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
bJ m0 •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
3 ms/v:\ _6!/}Fm 0*?XQV@ lrhAO"/1
光线追迹仿真
j>xVy]v= | )6&\WNL-x •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
gKN_~{{OD •单击go！
A#X.c= •获得了3D光线追迹结果。
dV{Hn {( EcoUpiL%2 aT#{t {gkA o%%x'uC 光线追迹仿真
49oW 'j 'w[d ^L •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
/K) b0 QX •单击go！
<IyLLQ+v •结果得到点图（二维光线追迹结果）。
^-GX&ODa x{>Y$ t] q7&yb.<KD. O'-Zn]@.] 场追迹仿真
S7ehk*` sBtG}Mo ) •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
Y@H,Lk •单击go！
N!B Oq`#da CQ.4,S}6' 0DB<hpC:5 IS 2Ij 场追迹仿真（相机探测器）
;b?+:L -\' .JA_ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
X/- KkC •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
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h#} HwW[M[qA 场追迹仿真（电磁场探测器）
on;sq8 ; •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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z]l-?>Zbg @@/'b ' •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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dl xUo)_P\_ 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer B`Or# G3ph -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ^dUfTG9{ 9S H<d)^ （来源：讯技光电）
