[分享]VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 gPQ2i])"Q  
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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 WH/
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建模任务 3MNo&0M9  
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概述 %89f<F\V  
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•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 oPo<F5M]d%  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 r,L#JR w#-  
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光线追迹仿真 0Evmq3,9  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 eaYQyMv@  
•单击go！ [0Z r z+q  
•获得了3D光线追迹结果。 .!l#z|/x  
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光线追迹仿真 ;]KGRT  
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•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 t?QR27cs$  
•单击go！ $X9-0-  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 xzz[!yJjG  
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场追迹仿真 mxGa\{D#y  
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•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 2|qE|3&{'  
•单击go！ Y3mATw 3Wh  
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场追迹仿真（相机探测器） a4 O
 
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•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 UpN:F  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 ^7.864  
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场追迹仿真（电磁场探测器） 4u"V52  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 c03A_2%  
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场追迹仿真（电磁场探测器） L/"u,~[  
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•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 D""d-oI[  
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文件信息 S5-}u)XnH  
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer vAy`8Q  
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination \(cu<{=rU  
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