摘要
"Mhn?PTq U4<c![Pp. 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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| L1+7 }lT;?|n:h 建模任务
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4d-(: 概述
(<8}un +jyGRSo •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
`48Ql •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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光线追迹仿真
_53~D= :O$bsw:3w< •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
o. ;Vrc •单击go!
V)N{Fr)& •获得了3D光线追迹结果。
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[/%N2mj :GO"bsjL 光线追迹仿真
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K •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
$(Mz@#% •单击go!
@NqwJ.%g •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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?Rx(@ upL3M` 场追迹仿真
'A3skznX{ 8/BMFRJ •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
Zd-6_,r •单击go!
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% hvK;B?Y| IT&,?u% 场追迹仿真(相机探测器)
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%y(?` •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
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<+0sh •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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So'.QWzX a4=(z72xe 场追迹仿真(电磁场探测器)
%kjG[C •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer DfD
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Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination )ffaOS!\ :aej.>I0 (来源:讯技光电)