摘要
!HvA5'|:} x="Wqcnj{ 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。
-g@!\{ "E(i < fZ$b8 q#tUDxf(| 建模任务
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r:1 j|t= %* 概述
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m, •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
,WRm{ v0f^ •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
E`.xu>Yyj D5,]E`jwu 3>KEl^1DB /K#k_k 光线追迹仿真
17 Ugz? lI<jYd
0fZ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
~w? 02FU •单击go！
=6u@ JpOl •获得了3D光线追迹结果。
Zz0bd473k? pR61bl) ^ O h }R%H?&P 光线追迹仿真
/'sv7hg+ N1$u@P{ •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。
zmo2uUEd •单击go！
Ix- Mp
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。
'X ;cgAq8( >Uw:cq AELj"=RA 8K,X3a9 场追迹仿真
l =E86"m iFd
!ED •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
1&| ]8=pG7 •单击go！
UzxL" `^7 PVI Oe}N mtmC,jnD }bb,Iib 场追迹仿真（相机探测器）
.9bi%=hP #EH=tJgO|J •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
\ %Mcvb.? •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。
dua F?\vv 9 {u= MgeC-XQM KN}#8.'>3 场追迹仿真（电磁场探测器）
x3q^}sj% •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
Rl Oy,/-< !"N,w9MbD 39v Bsc 7hHID>,o9% 场追迹仿真（电磁场探测器）
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l+} `?z('FV •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ~ P\4
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Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination |5^
iqW YK/? mj1x （来源：讯技光电）
