摘要
32[}@f2q #{8IFA 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
by@KdQow 'QCIKCn< =%X."i1A W[8Kia-OD 建模任务
8)X9abC {cm?Q\DT j,M$l mR') 概述
+.V+@! 5naFn m7% •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
fjRVYOG# •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
2I-d.{ qT$k%( d05xn7%!{ NKO"'
光线追迹仿真
P}@AH02
X.fVbePxUU •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
V.GM$ •单击go!
0\dmp'j] •获得了3D光线追迹结果。
PM\Ju] }>xwiSF? KZppQ0 DK IH{:L7 光线追迹仿真
Cr5ND\ kTb$lLG\xk •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
Je6[q •单击go!
b#6S8C+@ •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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D y]j.PT`Cw {"ST
hTZ 场追迹仿真
I=0c\ U} 8Qg10Yjy •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
54_}9_g •单击go!
*7!MG g*V.u]U!i rnIjpc F T~[:oil 场追迹仿真(相机探测器)
OIblBQ! +4?Lwp'q •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
6 4_}"fU •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
UQl?_[G .vu7$~7 J>Ar(p AFAg3/ 场追迹仿真(电磁场探测器)
$J7V]c*-b •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
,!:c6F+ C]L)nCOBX r[L.TX3Ah= c!Hz'W 场追迹仿真(电磁场探测器)
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;ev •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer _^<vp -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination &f.5:u%{b 9)!Ksg(h (来源:讯技光电)