[分享]VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 ;oN{I@}k  
g=8|z#S  
高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 9,Crmbw8  

u|_ITwk  

图片:1-191125164532947.png

/K2.V@T  
PCV58n3  
建模任务 .{'Uvn  
[[Jv)?jm  

图片:1-1911251A00R22.png

Zzt
t)/6*  
概述 ECmHy@(  
i_oro"%yL  
•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 /-G qG)PX  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 DK#65H'  
ZNL;8sI?>  

图片:1-1911251A211D3.png

>#"jfjDuR
 
=jk-s*g  
光线追迹仿真 ($[r>)TG  
}`+^|1  
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 &vJ(P!2f<  
•单击go！ [9YlLL@  
•获得了3D光线追迹结果。 Q KcF1?  
3isXgp8  

图片:1-1911251A23G14.png

eMpEFY  
xVh\GU855  
光线追迹仿真 ]ut-wqb{p  
5'{qEZs^QU  
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 4z-,M7iP  
•单击go！ 82Z[eo  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 Y*5@|Q  
R%]9y]HQ  

图片:1-1911251A311b4.png

(>+k3  
WacU@L $A  
场追迹仿真 IgHs&=  
e GqvnNv  
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 NbQMWU~7  
•单击go！ )\I? EU8  
AK*mcTr  

图片:1-1911251A335531.png

:#Ex3H7  
dc\u$'F@S  
场追迹仿真（相机探测器） =Nv=Q mO  
>H=Q$gI  
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 "t%1@b*u  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 ZB_16&2Ow  
d<|lLNS  

图片:1-1911251A41O04.png

I 1VEm?CQ  
<De3mZb  
场追迹仿真（电磁场探测器） yG4LQE  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 !e#I4,fn  
YjIED,eRv  

图片:1-1911251A519A0.png

D<D k1  
JQbMw>Y  
场追迹仿真（电磁场探测器） wk@(CKQzI,  
v,!Y=8~9  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Fy(nu-W  
[-:<z?(n4  

图片:1-1911251A5594c.png

UVoLHd  
hklO:,`  
文件信息 _1>(GK5[  
oX:1 qJ
rC  

图片:1-1911251A6203V.png

S'%cf7Z  
eB/hyC1  
更多阅读 (&Tb,H)=  
HA3SQ  
-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer
8NF;k5   
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 'j,Li(@}  
C$..w80/1  

收藏一下