摘要
b Fn(w:1Q VKf6|ae 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
U9F6d!:L7A sy.:T]ZH fM9xy \. ! OfO:L7- 建模任务
z`@z D2?S,9+E_ ]Da4.s*mW 概述
#W^_]Q=5R' . =R=cA7 •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
"s;ci~$ •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
PHl4 vh#E! 0lf"w@/ |YXG(;-BS h.D^1 光线追迹仿真
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/ZHJkJ7 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
pLJeajv)z •单击go!
EGEMZCdk2 •获得了3D光线追迹结果。
&&*wmnWCS{ ,L~snR'w _;VYFs Uk|9@Auav 光线追迹仿真
y0y+%H- _[0I^o •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
CL )%p"[x •单击go!
$WJy?_c •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
W7T"d4 (Y>U6 0*{@E%9 X)y*#U 场追迹仿真
>["Kd.ye
Jb6& •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
4(;20(q] •单击go!
x;*VCs >7W"giWP Yr:>icz| ;wpW2%& 场追迹仿真(相机探测器)
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8@Q"YA3d+ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
|B,dEx/uU •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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9d ?9CIWpGjU $/os{tzjd 场追迹仿真(电磁场探测器)
sAf9rZt*' •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer -<H ri5 -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 1fmSk$ y.9 5Gc_LI&v7 (来源:讯技光电)