[分享]VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 4nkE IZ  
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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 .Q&rfH3  
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建模任务 Zb''mf\  
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图片:1-1911251A00R22.png

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概述 h`5)2n+P  
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•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 M>l^%`  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 [!"XcFY:a  
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图片:1-1911251A211D3.png

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uDuF#3 +"  
光线追迹仿真 V"RpH,  
A^Cj1:,  
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 +
MUwP(U=w  
•单击go！ >V;,#5F_  
•获得了3D光线追迹结果。 Q M1F?F  
4]&<?"LSK  

图片:1-1911251A23G14.png

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光线追迹仿真 Hs0pW5oZ  
E9 Y\X  
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 1n%8j*bJq  
•单击go！ y,m2(V  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 9dKul,c  
,&]MOe4@>  

图片:1-1911251A311b4.png

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$L}aQlA1JM  
场追迹仿真 JlZ0n;  
<{ru|-9  
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 F^kwdS  
•单击go！ svhrf;3:  
(f1M'w/OD  

图片:1-1911251A335531.png

fA^Em)cs2  
~&VN_;j_  
场追迹仿真（相机探测器） ``QHG&$/  
uV]ULm#,i
 
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 (ku5WWJ  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 ,x_Z JL  
eD;6okdP  

图片:1-1911251A41O04.png

M##';x0  
~+n,1]W_  
场追迹仿真（电磁场探测器） RtV.d\  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 %:u[MBe,  
m(47s  

图片:1-1911251A519A0.png

xJ(:m<z  
yTAvF\s$(  
场追迹仿真（电磁场探测器） $H2GbZ-I  
|. C1|J'Z  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 w:ULi3  
FJS'G^  

图片:1-1911251A5594c.png

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