[分享]VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 z]9MM 2+  
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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 :Zz '1C  
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建模任务 hfy_3}_  
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图片:1-1911251A00R22.png

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概述 /Mu@,)''  
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•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 J S_]FsxD  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 KMjhZap%  
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图片:1-1911251A211D3.png

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光线追迹仿真 'ub@]ru|  
v-_e)m^  
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 n#OB%@]<V  
•单击go！ '(L7;+E  
•获得了3D光线追迹结果。 b`O'1r\Y;  
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图片:1-1911251A23G14.png

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光线追迹仿真 exUu7&*:  
X*@dj_,  
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 EA]U50L(  
•单击go！ R',rsGd`6j  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 ~AT'[(6  
*6DB0X_-}  

图片:1-1911251A311b4.png

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场追迹仿真 )C]gld;8  
Y^EcQzLw  
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 U0N 60  
•单击go！ }oGA-Qc}B  
"]b<uV
  

图片:1-1911251A335531.png

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 DwE[D]7o  
场追迹仿真（相机探测器） S2G
xV/E  
F%D.zvKN  
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 ]*[ 2$  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 R3&Iu=g  
{go;C}  

图片:1-1911251A41O04.png

GM f `A,>  
MXNFlP  
场追迹仿真（电磁场探测器） V7fq4O^:  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Cl8Cg~2  
ieCEo|b  

图片:1-1911251A519A0.png

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Ph\  
G.abql  
场追迹仿真（电磁场探测器） j0evq+  
Jgd'1'FOs  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 MPg)=
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Y;^l%ePuW  

图片:1-1911251A5594c.png

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文件信息 SdxDa  
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图片:1-1911251A6203V.png

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