摘要
3SI:su +c;/hM<IX. 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
eD5:0;X2 -5;Kyio
/Iht,@%E ZI.;7G@| 建模任务
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0kC}qru' 概述
>Y,3EI\ .x\fPjB •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
#=@H-ZuD7 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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>d#oJ?goX :lf;CT6$ 光线追迹仿真
6G2s^P1Dl@ &%J+d"n( •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
CUJP"u>8M •单击go!
0zH^yx:ma •获得了3D光线追迹结果。
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UrAg*v!Qy ttQX3rmF01 光线追迹仿真
~yacJU= yLv jfP1 •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
2K >tI9); •单击go!
@L?X}'0xI4 •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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6 0C;J!D p1}Y|m! 场追迹仿真
<eWGvIEP[ %Xm3m0nsv{ •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
oh%kuO T[ •单击go!
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[s1Hd~$ CR*9-Y93 场追迹仿真(相机探测器)
#$\cRLPg ?gZJ v •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
5<0d2bK$ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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场追迹仿真(电磁场探测器)
,p(4OZz5, •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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sOyWsXd+R' B@ab[dm280 场追迹仿真(电磁场探测器)
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+ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer #=WDJT: -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 9"yBO` -25#Vh (来源:讯技光电)