摘要
C`0; Tp7slKc0p 高
数值孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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?$#,h30 FX#fh 2 建模任务
9
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*uq}jlD`! 概述
@m=xCg.Z 0cwb^ffN •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
viJK%^U=- •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
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v~?Vd( }RvP*i 光线追迹仿真
C&QT-| 8JU9Qb]L'I •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
[;F%6MPK^ •单击go!
z[I3k •获得了3D光线追迹结果。
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[Ie;Jd>gG Z7X_U`Q 光线追迹仿真
[JY 1| N ; SS/bS| •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
mQ@A3/= ` •单击go!
.ZB(!v/2 •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
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/@<&{_sybp /8(\AuDT 场追迹仿真
5)rMoYn25 12yr_ •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
H40~i=. •单击go!
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?J<V-,i YjTRz.e{[7 场追迹仿真(相机探测器)
)NoNgU\7! 7$l! f •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
8<Y*@1*j •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
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JFyw,p&xB %q~YJ*\ 场追迹仿真(电磁场探测器)
|bwz •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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<]~FX25 f(^? PGO •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
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Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer V__|NVoOm -
Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ^ZxT0oaL lo1<t<w` (来源:讯技光电)