[分享]VirtualLab：分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 Z(J 1A x  
h5^W
e"}+  
高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 475jmQ{q  
Af^9WJ  

图片:1-191125164532947.png

R!rMrWX  
LD,T$"  
建模任务 9s*UJIL  
YKx+z[A/p  

图片:1-1911251A00R22.png

eE{ 2{C  
概述 qz!^< M  
26j-1c!NGd  
•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 ~Oi.bP<
,  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 !Z;Nv  
;[|+tO_  

图片:1-1911251A211D3.png

_G)x\K]N  
nH[>Sff$  
光线追迹仿真 UG<<.1JL  
t4-0mNBZt$  
•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 :vC+}.{p  
•单击go！ g G|4+' t  
•获得了3D光线追迹结果。 pf3-  
HZ\=NDz  

图片:1-1911251A23G14.png

>rFM8P(  
\<b42\a}  
光线追迹仿真 YDEb MEMd/  
t9_&n.z  
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 tTJ$tx  
•单击go！ "2I{T  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 N/E=-&E8  
W'Qy4bl7C  

图片:1-1911251A311b4.png

b+71`aD0  
b/=>'2f  
场追迹仿真 `1R[J4e  
,w_C~XN$t  
•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 a$Ghb]  
•单击go！ iyMoLZ5  
2{L[D9c/6  

图片:1-1911251A335531.png

G:MQ_tfr&  
oMN Qv%U  
场追迹仿真（相机探测器） ITjg]taD  
,9.NMFn  
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 L!2Ef4,wAz  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 COSQ  
SLud}|f;o  

图片:1-1911251A41O04.png

J {\]ZPs  
=Flr05}m  
场追迹仿真（电磁场探测器） 83{v_M  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 I4zm{ 1g  
&)EL%o5  

图片:1-1911251A519A0.png

SxM5'KQ  
}z2K"eGt  
场追迹仿真（电磁场探测器） B5va4@  
7L!q{%}  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 =5h,ZB2A  
QST-!`]v  

图片:1-1911251A5594c.png

"ScY'<  
f<@`{oP@  
文件信息 et6@);F  
x4@IK|CE  

图片:1-1911251A6203V.png

Qexv_:C  
<U""CAE  
更多阅读 ?w@KF%D
 
L$f:D2Ei  
-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer TK%MVLTK  
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination [JVUa2Sm  
"ODs.m oq  

收藏一下