SYNOPSYS光学设计软件编写者 Donald C.Dilworth 先生亲至中国培训
主办单位: 武汉墨光科技有限公司 美国OSD公司 培训时间: 2019年6月12日—6月14日(09:00 AM —— 17:00 PM) 培训地点: 中国·深圳·深圳联投东方万怡酒店 深圳市宝安区松岗东方大道46号 培训讲师: 美国OSD公司光学设计专家、 SYNOPSYS光学软件编写者 Donald C.Dilworth 先生 培训内容: · SYNOPSYS光学软件系统参数输入方法; · 通过设计实例介绍SYNOPSYS光学软件的基本功能,包括进行初始结构的选取DSEARCH和评价、结构优化、像质分析、成像模拟、对玻璃、对样板、公差分配、加工图纸绘制等整套设计过程; · 如何使用统一的性能规格表、公差敏感度控制、成像效果仿真、全局优化等过程; · 变焦系统设计方法ZSEARCH,包括初始结构选取及优化方法、凸轮设计; · 其它设计工具:SPB (saddle point build), AEI…;自动寻找使用非球面的最佳位置;自动选取玻璃GSEARCH; · 全局优化PSD和模拟退火; · 温度和压力等环境因素变化对光学系统性能影响的分析和优化方法,适应大幅度温度范围(±100°C)的镜头无热化设计;温度对各种材料的影响,如折射率变化。 |