摘要
"]LNw=S DOkEWqM! 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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L%d,Ta> `-\4Dx1!q 
`kwyF27v] vPi\ v U{ 建模任务
lBR6O!sBP nOkX: 5 
x-nwo:OA 概观
Al3Hu-Hf;` 7_S+/2}U* 
-v&Q 'a 光线追迹仿真
BC(f1 (*/P~$xIj •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
K >RL yZb@ •点击Go！
u7^Z7;
J •获得3D光线追迹结果。
cK(}B_D$ |O+R%'z'< 
XC ? H A{>]M@QC2 光线追迹仿真
Fy`VQ\%7t c [sC 2 Wfu%,=@, •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
nkS 6A}i3o •单击Go！
n j;
KnZ •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
$B}(5D a pP{b !1 
01H3@0Q6 -3wg9uZ & 场追迹仿真
&VR<'^> g|"z'_ cC "7Vt9b •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
U(3LeS;mr •单击Go！
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" Lg9]kpOpa 
^[&*B#( R
j(="+SPj 场追迹结果（摄像机探测器）
/P^@d L /J/r 62 XwX1i!'54 •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
^nkwT~Bya •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
@F=ZGmq Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
0 v/+%%4} vIN6W 
hh+GW*'~ QdO$,i ' 场追迹结果（电磁场探测器）
PA`b~Ct -
CM; sXq 9^igzRn0 •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
d am.D.o" Gg5vf]VFo 
],H%u2GE_ 文件信息
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#g ~~zwx/N oWs&W 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer um&N|5lHb -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination SkvKzV.R;
; wW6x （来源：讯技光电）
