摘要
5fq 4[a IOddu2.( 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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|] bfq%.<W )8E[xBaO 建模任务
K BlJJH`z{ : #OaE, tISb' ^T 概观
4(? Z1S /H*[~b 1* ?XI 光线追迹仿真
{)I&&fSz .U#o N_D •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
yu }T><Wst *|OUd7P:hU •点击Go！
]E|E4K6g •获得3D光线追迹结果。
$\#wsI( ,f~)CXNT? h AJ^(| A ;TNR 光线追迹仿真
]u.)6{ 5Mp$u756 TB_OFbI2 •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
)Tc D -Jr •单击Go！
[dy0aR$>d •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
~zoZ{YqP &8dj*!4H qFp]jbU r*c x_** 场追迹仿真
)`#SMLMy~ -n:;/ere7- \;Sl5*kr •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
L*6>S_l[ •单击Go！
F6ZL{2$k@ )&[ol9+\ 2]5ux!Lqln F!RP * 场追迹结果（摄像机探测器）
_6`H `zept ;73{n*a$ ~3$:C#"Dl •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
^3C%& •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
, _bG'Hmt Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
8"ulAx74> $*j)ey>
eI/@ut}v BO>[\!=y 场追迹结果（电磁场探测器）
km,@yU dW%;Z acI%fYw5p` •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer ~V/?/ J$ -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination # "TL *p `L"l{^ cH （来源：讯技光电）
