摘要
kyUG+ M (KT+7j0^ 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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,h.hgyt ! Ee&e~" 建模任务
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概观
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E1 |:t$>Ld 光线追迹仿真
/Fp@j/50 _;G|3>5u •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
LLwC*) # v79\( BX •点击Go！
\B8[UZA.& •获得3D光线追迹结果。
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eo4v[V& `w% Qs)2 光线追迹仿真
P".rm0@R O4,? C)
*g 2N&U •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
Mog!pm c{ •单击Go！
Qx77%L4 •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
<7J\8JR&= / U"3LX 
FJ O- p ?,*KA Gg% 场追迹仿真
r1|;V~ a$~ 6?3\P>`3Y c]/&xRd •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
UjS ,<>fm •单击Go！
~a. ei^r IL<@UWs6 
CrEC@5 j ,+E"s3NW 场追迹结果（摄像机探测器）
}&IOBYHVDo ykG^(.E w Rj&k(?* •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
q! }O+(kt •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
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ZZ Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
A$ o ?_ xX{gm'3UYa 
6?KJ"Ai9 TllIs&MCe 场追迹结果（电磁场探测器）
" IC0v9 _.3O(? p, hdx"/.s •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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x<[W9Z'~?9 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer c~iAjq+c -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination nn6&`$(Q~ 63y&M aqSJ （来源：讯技光电）
