[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 i\dd  
u$<>8aMei  
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 _sK{qQxvM=  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 zALtG<_t  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 oVQb
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u;9a/RI  

图片:1-1Q21014202H61.png

(*Z:ByA  
光线追迹仿真 tE<'*o'  
[LM9^*sG2V  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 "t%Jj89a\  
zs.@=Z"  
•点击Go！ ;: 0<(!^*  
•获得3D光线追迹结果。 r"!xI  
2H/{OQ$  

图片:1-1Q2101423224L.png

Ch_eK^ g1  
M{g.
x4M@W  
光线追迹仿真 m4?a'z"  
5'/ff=  
\V T.bUs  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 IZBY*kr  
•单击Go！ {uurLEe?  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 S]Ye`  
Z8`Y}#Za[  

图片:1-1Q210142613B5.png

Gn^m541  
]]P@*4!  
场追迹仿真 $|t={s34  
V[0 ZNT&  
6w~Cyu4Ov  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 uC%mG
Za  
•单击Go！ ART0o7B  
~l}\K10L*  

图片:1-1Q210142A2533.png

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Xi;<O&+  
场追迹结果（摄像机探测器） LfN,aW  
xdh%mG:?  
S$ k=70H  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 j/;wxKW  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 MlR]+]  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 J,J6bfR/  
EiVVVmm!  

图片:1-1Q210142Q6438.png

$LVzhQlD  
Y h53Z"a  
场追迹结果（电磁场探测器） n`V?n  
K>TEt5  
f)mOeD*u|  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 =1y~Qlu  
n=?wX#rEC#  

图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 @w;$M]o1  
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图片:1-1Q210143051458.png

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- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer Eihy|p  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination }<zbx*!  
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一系列镜子是怎么加上去的？经验么