摘要
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o2oQ3 R<1%Gdz 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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6 v{&, q hfJ&o7 Dt 建模任务
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v1i-O' 概观
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$-^& AKc 光线追迹仿真
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@B eQu sh,4n{+ •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
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pq# V %[t'uh •点击Go！
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Z1 •获得3D光线追迹结果。
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% dFz[b bkR~>F]FAu 光线追迹仿真
F%zMhX'AG ^W}| 1.uZ f.` 8vaV •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
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ZI •单击Go！
a i/]E6r •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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Ax|'uvVAPT M'|[:I.V 场追迹仿真
mGg/F&G9 D;2V|CkU 8 |=
c3Z •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
RpU i' •单击Go！
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nQ' N S '% _K"rb 场追迹结果（摄像机探测器）
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9%IGH xc'uC bH <Ed; tq •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
r9-ayp#pC •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
7H6Ge-u Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
KN@ [hb7% M-;Mw Lx 
0gOca +& \N0wf-qa= 场追迹结果（电磁场探测器）
|$\1E+ Z;u3G4XlF ~U7B o(EJp •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer n}9<7e~ / -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ZJFF4($qN aox@- jyr （来源：讯技光电）
