摘要
5zt5]zl' hiaTJE|J? 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
, qhv( &<C&(g{Z *Oy%($' > 'J WW*Y! 建模任务
` $[`C/h o2LUB)=R' $U%N$_k? 概观
2f 9%HX(5 RY*s }f 3N{
ZX{ } 光线追迹仿真
A OCiIPw
D&8*4> •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
y(Q.uYz* yn{U/+ •点击Go！
M]e _@:! •获得3D光线追迹结果。
yMf["A vG uTP4r yy\d<-X~ Zg!E}B:z 光线追迹仿真
VHU,G+ms pB,@<\l % YZp ]vlm~ •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
B 6,X) •单击Go！
)W![T I p •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
[kZe6gY P& T <ekDhlr $ZE"o`=7 z^9df( 场追迹仿真
t` A5wqm Gt?ckMB I*8_5?)g< •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
c::Vh •单击Go！
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*:V"C\`^n lD)QB!*v 场追迹结果（摄像机探测器）
' =m ?l "8`f x E+E.z?>S •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
KP!ctlP ~ •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
}^B=f_Ag Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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?x 场追迹结果（电磁场探测器）
_p=O*$b. ]#x? [ F cwA+?:Ry} •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
8'Ph/L, FA;uu\ &`[Dl(W 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer G@igxnm} -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Y r^C+Oyg KBo/GBD]| （来源：讯技光电）
