摘要
6D[m}/?Uy l5> H\ 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
7*!h:rg tWs ]Zd F"3LG" EJd l%j 建模任务
E3pnu.;U:_ 2:31J4t-< QY ] ^^f 概观
j k%MP6 C^} 2::Qu "T*Sg 光线追迹仿真
C q/936`O I:6N?lD4}0 •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
-~nU&$ccL C*;g!~{ •点击Go！
.
6wyu7oK •获得3D光线追迹结果。
P1<Y7 +n a(+.rf; P/BWFN1 8"d0Su 4r 光线追迹仿真
eYQq@lrWv ^E)Kse.> s Zan.Kc# •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
hAPWEh^ •单击Go！
<<43 'N+ •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
\DP*?D_}? 5t` :=@u *Q?ZJS ~ bCM&Fe0GM 场追迹仿真
n:hHm, 8PWx>}XPt `m6>r9: •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
NVEjUt/ •单击Go！
? o@5PL ub C(%Y_k 2OXcP!\Y ZI' MfkEZ* 场追迹结果（摄像机探测器）
fS08q9,S / -ZTe#@J d$>TC (E=t •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
jOJ $QT •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
4!'1o`8vs Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
X coV27 zTDB]z!A 8 |>$M R {s&6 场追迹结果（电磁场探测器）
9H@I<`qGC |}~2=r z V SJGp` •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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c W|I MnK- 1Sk=;Bic 文件信息
T #;W5<" 3F5Y#[L` 'j^A87\M_ d|GQZAEJEt 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer LRF_w)^[' -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination <eU1E }BDQ .Dn.|A （来源：讯技光电）
