[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 {\ogw0X  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 @|@6
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 "qw.{{:tf  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 i{k v$ir!  

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光线追迹仿真 l"9$lF}
 
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 sKDL=c;?j  
'! ~s=  
•点击Go！ 9f$3{ g{m  
•获得3D光线追迹结果。 ^c:I]_Ww  
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图片:1-1Q2101423224L.png

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HkyN$1s  
光线追迹仿真 z=DK(b;$z  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 opqf)C  
•单击Go！ qQCds}<w  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 XI;F=r}'  
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图片:1-1Q210142613B5.png

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场追迹仿真 +<f!#4T  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 TX
fG@4~kC  
•单击Go！ -A1:S'aN-  
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图片:1-1Q210142A2533.png

PF:E{_~  
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场追迹结果（摄像机探测器） A]m_&A#  
p&3~n: Fo  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ?/24-n  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 #oEq)Vq>g|  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 aN~x3G  
/{nZI_v#  

图片:1-1Q210142Q6438.png

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[N1[khY`  
场追迹结果（电磁场探测器） `}*jjnr"  
mJS-x-@  
+(vL~  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 |p":s3K"Hy  
R!7a;J}  

图片:1-1Q210143024c8.png

30L/-+r1  
文件信息 vz'<i. Yv4  
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图片:1-1Q210143051458.png

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更多阅览 60%EmX ;  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer a1A3uP  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination WvHy}1W  
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一系列镜子是怎么加上去的？经验么