[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 #]BpTpRAe<  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Dn}Wsd=  
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建模任务 r%QnV0L^  
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概观 R m{\ R  
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光线追迹仿真 Sb9In_* 0  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 WLb*\  
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•点击Go！ =t+{)d.w  
•获得3D光线追迹结果。 ~4{E0om@  
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光线追迹仿真 WdA6Y  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 /!r#=enG7  
•单击Go！ 0'DlsC/`*  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 Qe~2'Hw#9  
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场追迹仿真 e<wRA["  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 x bG'![OX  
•单击Go！ pvz*(u
 
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场追迹结果（摄像机探测器） J.`z;0]op  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 fs]9HK/@\  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 iwHy!Vi-5  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 sFEkxZi<  
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场追迹结果（电磁场探测器） sP0pw]!  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 [;c'o5M&  
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文件信息 *&j)"hX  
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更多阅览 :x*8*@kC  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer wz*QB6QtU  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination wHW";3w2~  
GHHErXT\a  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么