摘要
l7vxTj@(- =Cg1I\ 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
lXOT >$qR< x_$`#m{hL5 1yV+~)by3 g=L80$1 建模任务
^SC2k LI z6 x`O-\ ViYfK7Z 概观
T3,}CK#O :hFKmoy# KuJNKuHa. 光线追迹仿真
"xV0$% Nn='9s9F?} •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
fOJTy0jX8 (Qf . S{ ; •点击Go！
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{e>L •获得3D光线追迹结果。
(C.<H6]= "X,*VQl: B!1Bg9 D _bn
"c@s 光线追迹仿真
gAr=fq-| 4~ i?xo=;v \qz! v •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
Yaj}_M- •单击Go！
Yan}H}Oq •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
X+kgx!u'y \- 8S" > PK 6CR % 00cC~}4 场追迹仿真
)=pa * Q)Q1a; o 3@42u G> •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
}inV)QQ •单击Go！
c <,R,D R K $I`&M( y}1Pc* Y49&EQ 场追迹结果（摄像机探测器）
+t%1FkI\ X m3r)Bm'3 K5^`,}Q^ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
7~Z(dTdSG •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
_p^$.\k" Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
H3L uRGe&2 9,[A fI <$? ?Z;6 uHq;z{ 2GI 场追迹结果（电磁场探测器）
J`[gE`d q_cP<2`@V CaC \\5wl •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
-&l%CR,U @FZbp +xd@un[r< 文件信息
<nTZs`$LwL ?| ~KF:,#} 7=/iFv[ V *DD U]0k 更多阅览
z* B?Hw), -
Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer }b SDhMV; -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination >gDeuye _F8THYg ( （来源：讯技光电）
