摘要
G}i\UXFE AF
D /
J 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
Y>!9P\Xe k 1 >%wR &:L8; m s Bp| Lo 建模任务
"%ag^v 9 *sf9(%j "Gcr1$xG8! 概观
D+rDgrv ]>E9v& X0 [ $?S9)Xd 光线追迹仿真
'xZxX3 qM@][]j: •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
[K13Jy+ M 4M
4* o •点击Go！
7 =om / •获得3D光线追迹结果。
6f 6_ztTL 0]8+rWp|Nz =B1t ?( " 5`oor86 光线追迹仿真
Fhn883 |NtT-T)7 i#lvt#2J0 •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
[gzU / : •单击Go！
<t] c' •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
3~I<f ^K4 DWJ%r"aN T'XAcH f]T1:N*t 场追迹仿真
$$ _ uQf &:]_a?|*S !dhZs?/UI •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
=i%2/kdi0b •单击Go！
* V W \ 1sc #!^Oo cdU2ph_ XP2=x_"y 场追迹结果（摄像机探测器）
k`)LO`)) &[cL%pP Zpb 3>0<R •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
4)Pt]#Ti •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
eV9:AN }K= Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
"G6d'xkP &[*<> m_rR e\ GU&XK7L 场追迹结果（电磁场探测器）
R~RY:[5?w " "a+Nc tY# F8a& •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
mSQ!<1PM MW*}+ PCY ;t?pyFT2Z 文件信息
aE{b65'Dt NlcW nSv '2[ _U& e 't )j 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer ? !~au0 -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ui 2RTAb s vo^#V~h' （来源：讯技光电）
