[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 o"f%\N0_8  
-KA4Inn]5  
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 .Btv}b  
a1_o.A  

图片:1-1Q210141S0B6.png

v@]6<e$  
H|x k${R`  
建模任务 w7Pe  
^M"HSewo  

图片:1-1Q210141Z3L0.png

64;oB_  
概观 ~c9vdK  
>n#g9vK  

图片:1-1Q21014202H61.png

,!8*g[^
O  
光线追迹仿真 cRjL3  
W[@"H1bVH  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 nqUH6(  
8rnb  
•点击Go！ iRkOH]+K  
•获得3D光线追迹结果。 xu0;a  
5Q2T
T $P  

图片:1-1Q2101423224L.png

MM/BJ  
*_}IeNc  
光线追迹仿真 $#g#[/  
la!1[VeL  
\5j22L9S  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 }39M_4a&  
•单击Go！ P6.)P|n7=  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 'Hcd&3a  
_.oRVYK/  

图片:1-1Q210142613B5.png

Cnb[t[hk+j  
7 UB8N vo  
场追迹仿真 \= )[  
a3DoLq"/  
]JhDRJ\  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 n0 fF,?gm  
•单击Go！ =rs=8Ty?S  
c +"O\j'  

图片:1-1Q210142A2533.png

{HE.mHy  
uv_P{%TK  
场追迹结果（摄像机探测器） $u0+29T2O  
Wr}a\}R  
7J)a"d^e  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 `tUeT[  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 yF [@W<  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ?U2g8D nFY  
iNaC ZC  

图片:1-1Q210142Q6438.png

:\ON+LQr  
hP6fTZ=Ln  
场追迹结果（电磁场探测器） BLYk <m  
X/?h!
Y}  
7\|NYT4  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ES2d9/]p-  
R}K5'`[%ZY  

图片:1-1Q210143024c8.png

rg]A_(3Bb  
文件信息 pCud` :o"  
O(WMTa'%  

图片:1-1Q210143051458.png

1.cUolnr  
WZy6K(18"'  
更多阅览 28ov+s~1+-  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer bNPjefBF  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 8^ZM U{  
crOtQ
 

一系列镜子是怎么加上去的？经验么