摘要
j7d^g a- ` ;\"5)S 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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<IU (]k Q9}8 建模任务
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;=2JbA+"G 概观
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2K3j3 |T 光线追迹仿真
QlVj#Jv;~ DI/d(oFv` •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
Z9H2! Cp r }Vr_ •点击Go！
Ag3+z+uS •获得3D光线追迹结果。
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Li8/GoJW-T TN Z -0 光线追迹仿真
`?^< r%*F. aeYz;&K EWl9rF@I •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
Z a,o •单击Go！
UU}Hs} •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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<`q-#-V@ o7gZc/?n 场追迹仿真
"1d pv \ X+;#^A3 %U<lS.i •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
! qtj1 .w •单击Go！
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Oo!]{[}7 .|:(VG$MfI 场追迹结果（摄像机探测器）
$/u.F; V1i^# ; ?!t O'}? •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
?t;,Nk`jx •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
YY>&R'3[ Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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7wrRIeES lBG5~<NT 场追迹结果（电磁场探测器）
3"HEXJMc 8XfOM f~d` wlwgYAD •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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9 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer * P12d -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination S>[&] .L)j
ql% （来源：讯技光电）
