[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 h'!V8'}O?  

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 tT-=hDw  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 )E-E0Hl>7  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 X" \}sl5
 
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图片:1-1Q21014202H61.png


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光线追迹仿真 r0Z+RB^I  
i|4_m  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 #_fY4vEO  
a(|xw  
•点击Go！ )eq}MaW+j  
•获得3D光线追迹结果。 [+gzdLad  
` FxtLG,F  

图片:1-1Q2101423224L.png

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JY@X2'>v/  
光线追迹仿真 H"D5e  
0!_*S )  

k*Pz&8|  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 fYn{QS?  
•单击Go！ WgPgG0VJE  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 H%C\Uz"o  
$T/#1w P  

图片:1-1Q210142613B5.png

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场追迹仿真 @/(@/*+"  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 2&x7W*  
•单击Go！ W>:kq_gT  
nuxd S,  

图片:1-1Q210142A2533.png

6l[G1KkV  
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场追迹结果（摄像机探测器） %YCd%lAe,  
uS-3\$  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 DB~MYOX~  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ls]H6z*q  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 oAnigu;  
lC2?sD$  

图片:1-1Q210142Q6438.png

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iD`k"\>9  
场追迹结果（电磁场探测器） ZOn_dYjC  
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M5 `m.n<  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 LfllO  
gLx/w\l6  

图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 \gd6Yx^[  
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图片:1-1Q210143051458.png

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^Xa*lR 3  
更多阅览 OM{Dq|  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer O4N-_Kfp/  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 0[i}rC9&  
FT4l$g7"  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么