[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 e x"E50  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 uknX py))  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

V&e9?5@  
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建模任务 PiQsVk  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

wN}@%D-[v  
概观 E^'f'\m  
R(.5Hs  

图片:1-1Q21014202H61.png

"wqN,}bj\  
光线追迹仿真 ^/c v
8M=  
<yNu/B.M  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 TjDDvXY  
Vd%%lv{v  
•点击Go！ 7# !RX3  
•获得3D光线追迹结果。 ZRCm
'p3  
o,(]w kF  

图片:1-1Q2101423224L.png

ut/3?E1 Z  
kn5X:@{  
光线追迹仿真 )O}q{4,}  
D_s0)|j$cy  
H<N$z3k  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 +wPXDN#R  
•单击Go！ k4i*80  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 (Mzv"FN]  
Dt]N&E#\D  

图片:1-1Q210142613B5.png

)/87<Y;o  
 U=ek_FO  
场追迹仿真 r%=}e++^%  
B r`a;yT  
"39\@Ow  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 r3
;@  
•单击Go！ "O (N=|b  
7oWT6Qa5  

图片:1-1Q210142A2533.png

e #!YdXSx  
E&z`BPd  
场追迹结果（摄像机探测器） #OMFv.  
I,8f{T!O@"  
n5qg6(Tl]  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 y]U]b G{  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 %$Smei
 
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 =Ts5\1sc>  
3u,CI!  

图片:1-1Q210142Q6438.png

#Ch*a.tI@  
|^09ny|  
场追迹结果（电磁场探测器） -xVp}RLT  
KHO@"+  
C0`Bi:Ze  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 :HiAjaA1pg  
QKB*N)%6  

图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 iZ( U
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图片:1-1Q210143051458.png

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更多阅览 VzTHW5B  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer Kg;u.4.-M  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination `uh+d  
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一系列镜子是怎么加上去的？经验么