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    [分享]VirtualLab:高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线xunjigd
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2018-12-10
    关键词: 物镜
    摘要 3B(6^iS  
    xQ `>\f  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 1 )aB']K%  
    N U*6MT4  
    `N~;X~XFk  
    7W[}7Y   
    建模任务 3|Q:tt'|#  
    :N~1fvx  
    F*F U[ 5  
    概观 fPs' A  
    i#t)tM"  
    _|x b)_  
    光线追迹仿真 g/b_\__A  
    4VjP:>*p  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 i6)$pARp  
    D>u1ngu  
    •点击Go! 'IweN  
    •获得3D光线追迹结果。 ic:_v?k  
    5FJ<y"<6  
    k0{5)Su"xr  
    5-Vdq  
    光线追迹仿真 Kr!(<i  
    -X~VXeg  
    p/B&R@%  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 \gRX:i#n  
    •单击Go! y K~;LV  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 DFKU?#R  
    m}] bP  
    W8Z&J18AU  
    m$xL#omD  
    场追迹仿真 }vkrWy^  
    `}ak;^Me  
    7z'l}*FRD  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 PsTPGK#S  
    •单击Go! 9FT;?~,  
    oHkF>B [  
    P agzp%m  
    k=2]@K$%  
    场追迹结果(摄像机探测器) bv`gjR  
    " d3pkY  
    &Avd  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 =(ts~^  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 xQX,1NbH5  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 .%7#o  
    $d M: 5y  
    #(C2KRRiA  
    ~d :Z |8  
    场追迹结果(电磁场探测器) > $0eRVL  
    [#>ji+%=  
    ^GG6%=g'  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 Yhl {'  
    (i^3Lw :  
    76a+|TzR  
    文件信息 eOa:%{Kj  
    [$_d|Z  
    N!>Gg|@~  
    |e@9YDZ  
    更多阅览 pqO}=*v@  
    - Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer [H-,zY  
    - Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination h% BA,C  
    TSXa#SKp  
    (来源:讯技光电
     
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    离线songshaoman
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    只看该作者 1楼 发表于: 2019-01-23
    一系列镜子是怎么加上去的?经验么