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    [分享]VirtualLab:高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线xunjigd
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2018-12-10
    关键词: 物镜
    摘要 IX7d[nm39  
    :^%s oEi  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 j,/o0k,  
     >o.u,  
    }"m@~kg=  
    1bzPBi  
    建模任务 ?Tuh22J{Q  
    s^C*uP;R  
    4n3QW%#  
    概观 %J.Rm0FD:  
    W\eB   
    uzp !Y&C  
    光线追迹仿真 7/Lbs  
    v@>hjie  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 ! FHNKh  
    ] (MXP,R  
    •点击Go! 9q* sR1  
    •获得3D光线追迹结果。 :@: R4Ac  
    *qOo,e  
    [Hd^49<P2  
    0RoI`>j'  
    光线追迹仿真 "Wi`S;  
    :Hd?0eZ|  
    FC]? T  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 1pzU=!R?-O  
    •单击Go! WDzov9ot  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 44%::Oh  
    Y}1|/6eJ  
    B|extWwu  
    )%^oR5W  
    场追迹仿真 `n^jU92  
    }1R k]$XC  
    uaU!V4-  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 ]-* }-j`  
    •单击Go! ?Fi-,4  
    yvH:U5%  
    {ReAl_Cm  
    ORtl~V'  
    场追迹结果(摄像机探测器) TP^.]I O-  
    8kMMQES  
    +!_^MBkk  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 /o|@]SAe.  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 7FMHz.ZRE  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 9MHb<~F  
    PFPfLxna  
    #h r!7Kc;N  
    +,|-4U@dl  
    场追迹结果(电磁场探测器) i(c2NPbX  
    MH !CzV&  
    5lU`o  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 @F,HyCSN  
    tY[y?DJ  
    qbP[  9  
    文件信息 HvTi^Fb\a  
    RIJBHOa  
    k*-+@U"+  
    &UzZE17R  
    更多阅览 gcv,]v 8  
    - Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer %< W1y  
    - Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Kjf#uU.7  
    RisrU  
    (来源:讯技光电
     
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    离线songshaoman
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    只看该作者 1楼 发表于: 2019-01-23
    一系列镜子是怎么加上去的?经验么