摘要
_-TplGSO=c Reikf}9Q 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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2'Dl$DH :+ ,;5 建模任务
U = .PL\ `N *:,8j 
\v Ajg 概观
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[CI&4) # 光线追迹仿真
J:m/s9r ~?F,kmO}? •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
ETdXk&AN \X8b!41 •点击Go！
x%}D+2ro-t •获得3D光线追迹结果。
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zeHF-_{ lGd'_~'= 光线追迹仿真
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h[J KNx/1 lf zuvPV{
X •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
z qeQ •单击Go！
$jN.yNm0 •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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b/'bhE= 
H b=#` #d-({blo< 场追迹仿真
Ay16/7h@hi kv:9Fm\$ N(&{~*YE •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
n[3z_Q I •单击Go！
a: "1LnvR }iUK`e 
+/ukS6>gr =0)|psCsM 场追迹结果（摄像机探测器）
P1eSx#3bR (9]Uuvfp6" <7^|@L
6 •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
+0pI}a\ •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
]RCo@Q W Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
y(COB6r ${ {4L ?7 
!mNst$-H4 C*Vm} |) 场追迹结果（电磁场探测器）
;k gP:n * dB eb 9-42A7g^C •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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(T%F^s5D 文件信息
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0?7yM:!l }t)+eSUA 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer ,h*gd^i -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination n7!T{+ge A,~3o QV （来源：讯技光电）
