[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 ]=rht9),"  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 z't??6  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 -\ZcOXpMx=  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 .LVQx  
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图片:1-1Q21014202H61.png

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光线追迹仿真 8 a!Rb-Q:  
kh~'Cn "O  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 V6$xcAE"</  
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•点击Go！ (Q[fS:U  
•获得3D光线追迹结果。 'K@|3R  
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图片:1-1Q2101423224L.png

#Lsnr.80  
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光线追迹仿真 kp?w2+rz  
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`&-9"+  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 #ywk|k5z]  
•单击Go！ L!/\8-&$P  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 n%h^o  
WPZ?*Sx  

图片:1-1Q210142613B5.png

s,bERN7'yO  
o:Qv JcB  
场追迹仿真 A,su;Qh  
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A,i75kd  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 (>J4^``x=  
•单击Go！ }'r[m5T  
G;> _<22  

图片:1-1Q210142A2533.png

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场追迹结果（摄像机探测器） 5tQ1fJze  
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[{4MR%--  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 `[o)<<}  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 :^UFiUzrE  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 %B.D^]S1:  
&DqE{bBd!  

图片:1-1Q210142Q6438.png

f}guv~K  
=to=8H-  
场追迹结果（电磁场探测器） "5cM54Z0  
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.xf<=ep  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 IH$0)g;s  
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图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 2r$#m*  
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图片:1-1Q210143051458.png

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- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer B|o2K}%f  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination iy""(c  
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一系列镜子是怎么加上去的？经验么