[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 $H,9GIivD  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 cJ,`71xop,  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 Zg])uM]\2i  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 9Xh<vh8&  
H~<wAer,Op  

图片:1-1Q21014202H61.png

K!88 Nox(  
光线追迹仿真 FZ% WD@=  
l~`JFWur]  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 y3 S T"U  
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•点击Go！ :rmi8!o  
•获得3D光线追迹结果。 i;+<5
_  
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图片:1-1Q2101423224L.png

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TsRbIq[  
光线追迹仿真 XOY\NMo  
,Hc,]TPC4  
cmLI!"RLe  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 IC.R4-  
•单击Go！ <daBP[  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 HtI>rj/\ x  
H,1Iz@W1  

图片:1-1Q210142613B5.png

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MO  
场追迹仿真 dC}4Er  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 gG6BEsGa,  
•单击Go！ 3n TpL#  
^t)alNGos  

图片:1-1Q210142A2533.png

771r(X?Fa  
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场追迹结果（摄像机探测器） w3oe.hWP3N  
1\Vp[^
#Vx  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 yCye3z.  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Zv1/J}+  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 BO=j*.YKy  
Q%RI;;YyA  

图片:1-1Q210142Q6438.png

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场追迹结果（电磁场探测器） NY~y:*:Q  
T_?,?  
so\8.(7n  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 g`zC0~D2  
*}`D2_uP  

图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 Ja6PX P]'  
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图片:1-1Q210143051458.png

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r*s)T`T}}  
更多阅览 DC%H(2  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer 2JRX ;s~  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination i/WiSwh:  
erZ%C <  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么