[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 =E?kxf[X  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 X}x"+#\<@  
W u?A} fH  

图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 K@yLcgr{O2  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 jFS])",\i  
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图片:1-1Q21014202H61.png

Uj]Tdg  
光线追迹仿真 2ZUI~:U Z  
rD^ b{]E3  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 V?pqKQL0  
zY_?$9l0  
•点击Go！ 5,Rxc=  
•获得3D光线追迹结果。 |qe[`x; %  
39Nz>Nu:
 

图片:1-1Q2101423224L.png

!' ;1;k);  
W&MZ5t,k=  
光线追迹仿真 k2]fUP  
Jc8^m0_  
b2rlj6d  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 n[|*[II  
•单击Go！ C1/qiSHsh  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 &|6 A 8,  
oW[];r  

图片:1-1Q210142613B5.png

(x)}k&B;  
aL?+# j^"  
场追迹仿真 R9+0ZoS  
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0Ncx':]5  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 3:H[S_q  
•单击Go！ v*Dz4K#  
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图片:1-1Q210142A2533.png

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+)
J;4B  
场追迹结果（摄像机探测器） z8VcV*6  
<I 5F@pe'  
ORCG(N  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 $%:=;1Jl  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ab-z 7g  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Qk5pRoL_  
;*J_V/&?  

图片:1-1Q210142Q6438.png

}Mv$Up  
|XGj97#M  
场追迹结果（电磁场探测器） @XJzM]*w&  
=\ek;d0Tqb  
'?gF9:  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ,`Yx(4!rR  
OTy{:ID  

图片:1-1Q210143024c8.png

UR{OrNg*  
文件信息 _n~[wb5J  
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图片:1-1Q210143051458.png

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一系列镜子是怎么加上去的？经验么