[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 oyi7YRvwd  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 4GmSG,]  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 '<*CD_2t-  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 .(gT+5[  
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图片:1-1Q21014202H61.png

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光线追迹仿真 e0G}$ as  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 Y;~~?[6  
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•点击Go！ [qjAq@@N#q  
•获得3D光线追迹结果。 O?4vC5x  
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图片:1-1Q2101423224L.png

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光线追迹仿真 E'Fv *UA  
8VAYIxRv  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ;?O883@r8  
•单击Go！ u+I r:k  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 n'0$>Q  
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图片:1-1Q210142613B5.png

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D~i@. k  
场追迹仿真 Wzf1-0t  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Zh fD`@>&  
•单击Go！ b[&,%Sm+6  
U`8^N.Snrp  

图片:1-1Q210142A2533.png

I]WeZ,E  
XYxm8ee"j  
场追迹结果（摄像机探测器） N8MlT \+r  
ftI+#0?[!  
q|]0on~]  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 +{=_|3(  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 7S~9E2N  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 DS,FVh".|  
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图片:1-1Q210142Q6438.png

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9,EaN{GM  
场追迹结果（电磁场探测器） vACsppa>#  
P9tQS"Rs  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 k,*#I<($  
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图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 "<jEI /  

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更多阅览 ("JV:u.L+  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer ^ yukn*L  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination b]g&rwXYt  
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一系列镜子是怎么加上去的？经验么