摘要
qjQR0MC @j*K|+X" 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
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h/E+r:2] J jRz<T; 建模任务
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6-8,qk 概观
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\$GM4:R D 光线追迹仿真
bBwQ1,c$ [=k$Q
(.3 •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
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TY$ •获得3D光线追迹结果。
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LpCJfQ {nvF> 光线追迹仿真
'sb&xj`d @r7ekyO8) .SZ ZT0Z •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
Jbv66)0M •单击Go!
&QHZ]2%U •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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^n Gj 7b 8@b,>l$ 场追迹仿真
@JB9qT S7i,oP7 F|mppY'<J •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
/e|vz^#+1, •单击Go!
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\!`k:lusa 1eod;^AP9 场追迹结果(摄像机探测器)
*CtWDUxSdW i'bviD py\KY R •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
tqok.h •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
>|j8j:S[ Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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3m;*gOLk6 3[_zz;Y*d 场追迹结果(电磁场探测器)
Hs9; &C || p>O MS Qz,nn •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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#_(t46 文件信息
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$3yzB9\a" ,F;<Y9] 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer c]Z@L~WW -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination @#u'z~a) s?Wkh`b (来源:讯技光电)