摘要
ayfFVTy1d Ac<Phy-J 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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e8GEoD 5.MGaU^Z$ 建模任务
zc;|fHW~O DKBSFm{~Q 
(w}H]LQ 概观
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:>Ay^{vf= 光线追迹仿真
'LE =6{# lx [oaCr •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
R
wZ]),o "$2 y-| •点击Go！
{o.FlX •获得3D光线追迹结果。
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A}3=561F?5 `wDl<[V 光线追迹仿真
B Z?.D_bu hMykf4 }<9cL' •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
N _8 6t •单击Go！
E .Jkf\ •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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Ir qZi1 'qOREN 场追迹仿真
SAyufLEv, c'S,hCe* @Bf%s(Uj+ •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
*%S"eWb •单击Go！
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PqiB\~o@Z f7X6fr< 场追迹结果（摄像机探测器）
z <##g 8[E!E)4M &C "L •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
hHT_V2* •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
U qFv}VsnF Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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LQngK7> 29?,<b B) 场追迹结果（电磁场探测器）
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l% 1!a '8{N e!y •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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b-{=s + : 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer zhpt%7So -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination o! {w"K |ayVjqJ* （来源：讯技光电）
