摘要
u n=2}@ ' X*,%&6O* 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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{fEwA8Ir 9:!gI|C 建模任务
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hBFP 1u/E' 概观
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*JaqTI,e 光线追迹仿真
;?6No(/ /MF! GM •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
l6~-8d+lfN ]a! x Ug!S •点击Go！
4<?8M vF •获得3D光线追迹结果。
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3` #6ACF Hw|AA?,0- 光线追迹仿真
? B E6 "F}'~HWZp v 0kqu •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
4W N3=B •单击Go！
_9?I A •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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v NeCpf =1u@7Bh 场追迹仿真
h@@nR(<i Fk6x<^Q<w 3VUWX5K? •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
#Cn Hf •单击Go！
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iajX ~k v xy<`# 场追迹结果（摄像机探测器）
] )"u+ -\y-qHgb/ &%2*Wu; •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
; h`0ir4[A •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
R.s^o]vT Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
2~*Ez!.3 k` {@pt. 
2T ES>} F*Z=<]< + 场追迹结果（电磁场探测器）
?6k}ii!c ZZj~GQL(S "GQl~ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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HJC(\\~ 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer W{5:'9, -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination bpkwn<7- yfDAk46->6 （来源：讯技光电）
