摘要
[ Ru( H 5 8gkE94 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
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|/~ISB xs$.EY:k 建模任务
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`f\+aD'u 概观
TQ25"bWi :djbZ><
\>c1Z5H> 光线追迹仿真
1|oE3 -Rj3cx •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
+=#@1k~ /gq\.+'{ •点击Go!
$(&+NJ$U$ •获得3D光线追迹结果。
H<ZXe!q(nx 0"DS>:Ntk
YAYwrKt z?.XVk- 光线追迹仿真
-\V;Gw8mD QHw{@* $fQ'q3 •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
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nDaag •单击Go!
YL9Tsw •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
A4f;ftB o5< w2(
NU.YL1 DXx),?s> 场追迹仿真
Q6=>*}Cm6m Zr$D\(hX F7U$7(I2G •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
:[bpMP<bz; •单击Go!
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dJ,8 场追迹结果(摄像机探测器)
R6qC0@* 9DaoMOPEI )C%S`d<%, •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
\\$wg •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
@S?D}myD Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
Z]=9=S|
.4 .oz(,$CS"
?tf<AZ=+^L `&g1`vg 场追迹结果(电磁场探测器)
a'B 5m]% %e1`wMa 0m'tPFQ| •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer :1e'22[=. -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination X.JPM{] Gkz~xQy1T (来源:讯技光电)