摘要
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`>\f 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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`N~;X~XFk 7W[}7Y 建模任务
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F*F
U[ 5 概观
fP s' A i#t)tM " 
_|x b)_ 光线追迹仿真
g/b_\__A 4VjP:>*p •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
i6)$pARp D >u1ngu •点击Go！
'Iw eN •获得3D光线追迹结果。
ic:_v?k 5FJ<y"<6 
k0{5)Su"xr 5-Vd q 光线追迹仿真
Kr !(<i - X ~VXeg p/B &R@% •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
\gRX:i#n •单击Go！
y K ~;LV •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
DFK U? #R m}] bP 
W8Z&J18AU m$xL#omD 场追迹仿真
}vkrWy^ `}ak;^Me 7z'l}*FRD •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
PsTPGK#S •单击Go！
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P
a gzp%m k=2]@K$% 场追迹结果（摄像机探测器）
bv`gjR " d3pkY &A vd •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
=(ts~^ •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
xQX,1NbH5 Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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#(C2KRRiA ~d :Z |8 场追迹结果（电磁场探测器）
> $0eRVL [#>ji+%= ^GG 6%=g' •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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76a+|TzR 文件信息
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N!>G g|@~ |e@9Y DZ 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer [H-,zY -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination h%
BA,C TSXa#SKp （来源：讯技光电）
