[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 \3/'#  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 R)z|("%ec  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 $4pW#4/4
 
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 I'wAgf6W  
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图片:1-1Q21014202H61.png

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光线追迹仿真 `x{gF8GV  
&$[{L)D  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 gK'MUZ()  
xB#E&}Ho  
•点击Go！ =%p{"<  
•获得3D光线追迹结果。 3ssio-X  
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图片:1-1Q2101423224L.png

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MRc^lYj{  
光线追迹仿真 D~}4N1  
*(rE<  
Pcc%VQN  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 /e\dsC{uJ  
•单击Go！ NINiX(  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 RWE%?`  
"7DPsPs  

图片:1-1Q210142613B5.png

c=gUY~Rl  
t +_G%tv  
场追迹仿真 1N&U{#4  
gE&f}M-  
"?!IPX2\S  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ~Y(M>u.+!  
•单击Go！ c/u;v69r  
[Zf<r1m  

图片:1-1Q210142A2533.png

v3p..A~XZ.  
ntT|G0E  
场追迹结果（摄像机探测器） g6farLBF  
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>cp9{+#f  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 m`|Z1CT  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 #3S/TBy,  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。  >Pu*MD;  
C{D2mSS  

图片:1-1Q210142Q6438.png

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H_Yy.yi  
场追迹结果（电磁场探测器） !l~
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SCo9[EJ  
<j>@Fg#q  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 qhtc?A/0}  
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图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 Z6=!}a%  
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图片:1-1Q210143051458.png

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更多阅览 \=@}(<4  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer +%yh@X6  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination d09
GD[5  
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一系列镜子是怎么加上去的？经验么