摘要
< ,l&), )Xa`LG =| 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
I~qS6#% r j8@YoD5o 
Ou;
]>FJ J!
>HT'M 建模任务
#Xri%&~ | zj$p~ 
f{l g{gA( 概观
vZC2F 8^zI 
$6:j3ZTXrt 光线追迹仿真
uG3t%Cm N w&v _#\T •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
,:-S<]fS{_ zp4Jd"XBX •点击Go！
A5Yfm.Jy •获得3D光线追迹结果。
I?"cEp IBU(Hm1, 
q:-8W[_ &:8a[C2= 光线追迹仿真
~,Q+E8 d> Y9g [Y *p
I&f •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
anA >' 63 •单击Go！
UioLu90
P •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
l{aXX[E&1 0<Px 2/ 
Hw<t>z
k hkv&Od, 场追迹仿真
.0#?u1gXsX PR~ho&! @y9_\mX!s •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
]m(Uv8/6 •单击Go！
;04doub >t?;*K\x" 
s9qr;}U.` rayC1# f 场追迹结果（摄像机探测器）
!3 $Ph { DBgW }, 2@1A , •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
(2QFwBW] •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
N(]6pG= Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
J^ryUO o}b A%oHx|PD 
pb}QP MaXgy|yB1 场追迹结果（电磁场探测器）
c&AA< 6pkv #G|iEC0C cW26TtU( •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
Cz
J ze {Aj}s3v 
O@ '/B" & 文件信息
_*9eAeJ zOCru2/ 
M2[;b+ W9 lycY 1 lK 更多阅览
B:a&)L wp0 -
Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer #)hM] =,e -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination $dgY#ST% Obrv5 %'
（来源：讯技光电）
