摘要
5B )Z@-x2 p)NhV 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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uU=O 0?'zq zZE
2%fqM 建模任务
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/"Ws3.p 概观
gh>'O/9 M}MXR=X, 
:f<3`x' 光线追迹仿真
P]hS0,sE<( zBg>I=hiG •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
\x\_I1| 2A'!kd$2 •点击Go！
aVcQ •获得3D光线追迹结果。
rw/WD( ('BFy> @ 
z'OY6 UT!gAU 光线追迹仿真
0 UdAF s=9 gp$9m 9un* 1% •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
AvnK?*5!@ •单击Go！
mv_N ns •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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}#va#Nb(, Y?G\@ 6 场追迹仿真
Wm! lWQ u7 UZ#Yd|'PD z=C'qF` •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
H=b54.J8& •单击Go！
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?\[2Po]n U"\$k& 场追迹结果（摄像机探测器）
X-,scm :KY920/, ernZfd{H •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
jzCSxuZ7O •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
I{#&!h>]U Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
r,F~Vwa} 1haNca_6, 
G=?2{c}U {v{qPYNyh 场追迹结果（电磁场探测器）
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@_ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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)c~1s 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer fT)u`voE, -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ACQbw)tiv} ND);7 （来源：讯技光电）
