[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 U:r2hqegd  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ([~`{,sv  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 I.!/R`
 
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 @XC97kGWp  
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光线追迹仿真 +`-a*U94  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 kB#vh  
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•点击Go！ S8m&Rj3O&  
•获得3D光线追迹结果。 rrYp^xLa`  
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图片:1-1Q2101423224L.png

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光线追迹仿真 *J5RueUG  
XS8~jBjx  
\/'n[3x  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 9t.yP;j\Y  
•单击Go！ =@=R)C4f*  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 &\|<3sd(  
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图片:1-1Q210142613B5.png

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场追迹仿真 %L>nXj  
DN':-PK  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 I7z/GA\x  
•单击Go！ ~Z6p3# !o  
kjC{Zr  

图片:1-1Q210142A2533.png

Dh(T)yc  
'oZn<c`  
场追迹结果（摄像机探测器） vq:OH H  
'ag6B(0Z  
vs)I pV(  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 4O_+4yS  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 a05:iFoJ  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 _q$LrAT  
yb{{ z@  

图片:1-1Q210142Q6438.png

ph12x: @B  
pebx#}]p-  
场追迹结果（电磁场探测器） b}&7~4zw  
MRg\FR2>1  
j)tCr Py  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 vgA!?P3  
pG F5aF7T  

图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 RTgA[O4J  
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图片:1-1Q210143051458.png

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更多阅览 g"!#]LLe  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer e8ULf~I  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ()nKug`.@  
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一系列镜子是怎么加上去的？经验么