摘要
8V@\$4@b!# :u|F>e 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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[m6%_3zV V`xE&BI 建模任务
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uO4R5F|tL 概观
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;fB!/u 光线追迹仿真
e!P]$em|1E # N'_~:H •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
<zp|i#~ W{nDmG`yp •点击Go！
%kL ]-Z •获得3D光线追迹结果。
79Q>t%rD[ _SqUPTb"u 
;k8U5=6a +?uZ~VSl 光线追迹仿真
E[ tEW0ub p/Ri|FD6 H#B97IGT •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
g4 2f*~l •单击Go！
-}P/<cu: •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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7r$'2">K( c'Zs2s7$ 场追迹仿真
Kr74|W= ThYHVJ[; ,dSP%?vV •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
|"k+j_/+ •单击Go！
X XC(R crR Ygr 
laGIu0s { _rfGn,@BH 场追迹结果（摄像机探测器）
I 2*\J)|f ?V(h@T 'v_VyK*w •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
ZqJyuTPv •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
btv.M Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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p$zj2W+sN [qQ~ \] 场追迹结果（电磁场探测器）
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F! ~o J P |kfPohI= •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer !i*bb~ -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination I.RmBUq):s M3/ _E7Qoj （来源：讯技光电）
