摘要
=9i:R !,W L/%3_, 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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!R//"{k0? Z UQ1\Iw 建模任务
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)U>q>< 概观
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16ke CG\ 光线追迹仿真
P{)&#HXUVb /cJ$`
pN •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
_Jj|g9b $A7[?Ai ? •点击Go！
O#H `/z •获得3D光线追迹结果。
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gA 2Il8K r1 }OlVbK 光线追迹仿真
!z{bqPlFGG m z +>rc ?T$ i •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
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9JzYI^ •单击Go！
Zu$f-_" •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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?)",}X L6 .J %} ROm 场追迹仿真
s+yBxgQ/ =5oFutg` !!o 69 •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
{tu* ="d= •单击Go！
w]"Y1J(i $$A{|4,aI 
}qc [ysDK] (v z)GrH> 场追迹结果（摄像机探测器）
[@rZ.Hsl *B) >5r @-qxN w •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
>>(2ZJ •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
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Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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lh7{2WQ {h&*H[Z z 场追迹结果（电磁场探测器）
}&y>g0$@ nvu |V3B0 5|r3i \ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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L;,Nh 文件信息
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer #MHn J -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ,{%/$7) +@Fy) {C7 （来源：讯技光电）
