摘要
0AZ")<^~7 h"X;3b^ m 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
,]9P{k]O ,{M^-3C 
W42 iu"@ B"h#C!E 建模任务
NQBpX D{GfL ib"U 
K^1o DP 概观
gb F+WE \.MR""@y`{ 
U' H$`$Ov 光线追迹仿真
RRmz"j> [@VP?74 •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
I'A_x$ib6 yA)/Q
Yge •点击Go！
cpL7 !>^= •获得3D光线追迹结果。
_K]_
@Ivh B
Wk/DVue 
4 ezEW|S 6 Q%jA7 光线追迹仿真
e7 ^mmm aS{|uE] 7%5z p|3 •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
zZL6z 4 g •单击Go！
3@kf@ Vf •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
I(i}c~ R a =J^ 
+ O8%Hm .YhA@8nc~l 场追迹仿真
|]jb& M $Q &lSVQ \hTm)-FP •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
VJeu 8ZJ. •单击Go！
;O,+2VzP%^ Lt u'W22 
z>L U H Si_ _8D 场追迹结果（摄像机探测器）
ni.cTOSx (up~ [ 9B{k , 1
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
\nXtH}9ZF •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
{j9{n Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
V LOO8N[o @Xt *Snd 
?M8dP%&r j]{_s"O 场追迹结果（电磁场探测器）
nr95YSH fY{1F x cd#& •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
'=39+*6? C6 VLy x 
_dqzB$JV 文件信息
=O&%c%~q {+ ] [5<q 
urbp#G/> @P#N2:jwj 更多阅览
)F}F_Y -
Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer Dt}JG6 S -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination |t^ E~HLm, !=pn77`g > （来源：讯技光电）
