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    [分享]VirtualLab:高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线xunjigd
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2018-12-10
    关键词: 物镜
    摘要 [ Ru ( H  
    58gkE94  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 "1ov<  
    eOs4c`  
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    建模任务 QR h %S{  
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    概观 TQ25"bWi  
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    光线追迹仿真 1|oE3  
    -Rj3cx  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 +=#@1k~  
    /gq\.+'{  
    •点击Go! $(&+NJ$U$  
    •获得3D光线追迹结果。 H<ZXe!q(nx  
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    光线追迹仿真 -\V;Gw8mD  
    QHw{@*  
    $fQ'q3  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 M nDa ag  
    •单击Go! YL9Tsw  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 A4f;ftB  
    o 5<w2(  
    NU.YL1  
    DXx),?s>  
    场追迹仿真 Q6=>*}Cm6m  
    Zr$D\(hX  
    F7U$ 7(I2G  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 :[bpMP<bz;  
    •单击Go! (zIF2qY  
    Zl{ DqC^  
    'Ad|*~  
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    场追迹结果(摄像机探测器) R6qC0@*  
    9DaoM OPEI  
    )C%S`d<%,  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 \\$wg   
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 @S?D}myD  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 Z]=9=S| .4  
    .oz(,$CS"  
    ?tf<AZ=+^L  
    `&g1`vg  
    场追迹结果(电磁场探测器) a'B 5m]%  
    % e1`wMa  
    0m'tPFQ|  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 7` IO mTk  
    3Qu Ft~@@  
    jQY^[A  
    文件信息 x}H%NzR  
    xoNn'LF#u  
    Y$N D  
    `d!~)D  
    更多阅览 8 qwOZ d  
    - Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer :1e'22[=.  
    - Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination X.JPM{]  
    Gkz~x Qy1T  
    (来源:讯技光电
     
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    离线songshaoman
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    只看该作者 1楼 发表于: 2019-01-23
    一系列镜子是怎么加上去的?经验么