摘要
<T:u&Ic oUR'gc : 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
T>d-f=(9KH ]1rr$f9 
)El#Ks5u LX4S}QXw 建模任务
Z6SM7? d Lm"l*j4 
| "DQ^)3Pi 概观
VWd= 7 @v_ ) ( 
Ix ! O&_6s 光线追迹仿真
s$J0^8Q~i PMjqcdBzm •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
TIlcdpwXf f$9V_j-K+ •点击Go！
K[PIw}V$?: •获得3D光线追迹结果。
py9(z`} 4dv+RRpGOv 
Z .<OtsQN Z ) qc-~S 光线追迹仿真
z#GZvB/z) U aj8}7v u!?.vx<qy •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
vL{sk|2& •单击Go！
(}vi"mCeW •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
M?x/C2| "zL<:TQ" 
3J~Q pw0< & ,2XrXiFu 场追迹仿真
IIUoB!` {LVii}< "zJ1vIZY •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
9a" [-B: •单击Go！
pJ"Wg @+ gI6./;;x 
K/KZ}PI-O _n@#Lufx 场追迹结果（摄像机探测器）
3iJ4VL7 L|EvI.f ]re1$ W#* •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
_dVzvk`_R •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
E$=!l{Ms Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
w4<1*u@${ b ;`gxXeL 
u.x>::i& v1<3y~'f 场追迹结果（电磁场探测器）
,] \L\ V s6%% /| u ;H SX •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
lX/s Q s"?Z jV)` 
m!SxX&m"G 文件信息
;*5$xs&=_Z vzM8U>M 
a` A V b/HhGA0 更多阅览
4\a K C%5 -
Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer =<MSM\Rb -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination FM$XMD0= Pp3<K649 （来源：讯技光电）
