[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 _Ml?cT/J.O  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 a7_Q8iMe  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 [K
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 aO1.9!<v  
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图片:1-1Q21014202H61.png

c(Y~5A{TXO  
光线追迹仿真 )OQm,5F1  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 _s#J\!F  
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•点击Go！ %6lGRq{/?  
•获得3D光线追迹结果。 'g<{l&u  
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图片:1-1Q2101423224L.png

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光线追迹仿真 *fi`DiO  
(&*Bl\YoX  
IW nG@!  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 tpzWi W/  
•单击Go！ hs+)a%A3G  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 ]2"UR_x  
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图片:1-1Q210142613B5.png

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场追迹仿真 V 7~9z\lW  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 D3g5#.$,}>  
•单击Go！ |;V-;e*  
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图片:1-1Q210142A2533.png

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场追迹结果（摄像机探测器） u$nmnd`g  
G1X73qoHT<  
ZiKO|U@/  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 hUi5~;Q5Fi  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 +{6:]  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 LmsPS.It  
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图片:1-1Q210142Q6438.png

-k>k<bDAI  
4Z{R36 {  
场追迹结果（电磁场探测器） Pj56,qd>s  
xZq, kP^  
&>.QDO  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 c;29GHs2  
yhK9rcJq6}  

图片:1-1Q210143024c8.png

H,;ZFg/v8  
文件信息 ={h^X0<s9  
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图片:1-1Q210143051458.png

(u8OTq@  
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更多阅览 F-~Xbz%  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer ~nj+"d]  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination |d42?7}  
iH>JR[A  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么