[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 X""}]@B9z  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Y-*]6:{E  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 Z`@< O%  
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概观 +RD{<~i  
Je~<2EsQ  

图片:1-1Q21014202H61.png

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光线追迹仿真 @X#e  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 6XGqZ!2  
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•点击Go！ ,SoqVboRl  
•获得3D光线追迹结果。 (t-JGye>  
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图片:1-1Q2101423224L.png

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光线追迹仿真 }m-+EUEo9  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 iYzm<3n
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•单击Go！ 3 e<sNU?  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 tje  
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图片:1-1Q210142613B5.png

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场追迹仿真 P 4jg]g  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 WiclG8l  
•单击Go！ /g]m,Y{OI  
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图片:1-1Q210142A2533.png

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场追迹结果（摄像机探测器） 0%<x>O  
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M}tr*L  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 GOhGSV#  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 >2?O-WXe  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 )]C7+{ImC  
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图片:1-1Q210142Q6438.png

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场追迹结果（电磁场探测器） 4V0j1k&'  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 QC*> qo  
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图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 !FVXNl  
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更多阅览 AHre#$`97  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer tMWsgK.B  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Q+UqLass  
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一系列镜子是怎么加上去的？经验么