摘要
vfk 7J5y bahc{ZC2 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
&-=G9sb, 62k9"xSH 
)U"D4j*p !=k* hl0h 建模任务
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\ _-kOS 概观
S>vVjq?~l( @[[ C s*- 
TA-(_jm 光线追迹仿真
945
|MQPn R?={{+O •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
Sl+jduc ;OT#V,}r •点击Go！
? fqkM •获得3D光线追迹结果。
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/ o q'J*6r 光线追迹仿真
b'Piymx leX7(Y;!a7 ~8n ~4 •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
f6aT[Nw< •单击Go！
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wvm •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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`*2* xDuP $.x?in|_ 场追迹仿真
;)bF# @Q Cs~\FI1wR h9)]N&07b •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
LYxlo<f •单击Go！
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V+"*A A$9_aqbj 场追迹结果（摄像机探测器）
;29X vhS8 bCac .x#jo *t]&b ;=gE •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
aaa#/OWQZ •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
+%cr?g Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
"n2xn%t{ VdN+~+A: 
88+\mX;A# N6m*xxI{ 场追迹结果（电磁场探测器）
'zD ;:wT J1 v0
\ +h\W~muR •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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#t9=qR~" 文件信息
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5l7L@Ey Xk9r"RmiOb 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer u Z39Vx -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination v %PWr5] N~K)0RETn （来源：讯技光电）
