摘要
RT+pB{Y 73Zx`00 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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(AYzN3
?D -!o*A>N 建模任务
e}f#dR+( 1SAO6Wh 
bVLBqa= 概观
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{lam],#r 光线追迹仿真
%#go9H(K xG_LEk( zD •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
nXU`^< nA -!@]z2uU •点击Go！
V^* ];`^ •获得3D光线追迹结果。
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=EJ8J;y_f hs;YMUA" 光线追迹仿真
wH?]kV8Q Rb/|ae X E#a# •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
:9H`O!VF •单击Go！
@2 3?II$=@ •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
B~ ?R 6 "]SA4Ud^ 
#]rfKHW9 XW q`MwC9 场追迹仿真
R|m!*B~ d Dg[ry YD9| 2S!G •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
q!10 G •单击Go！
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v[P 
9kzJ 5} ?] %ZJd 场追迹结果（摄像机探测器）
WJlJD*3 BT^Im=A Kj7
?_o{ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
<`V_H~Z •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
u5.zckV Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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Vx% +xL' LC x 
u?4d<%5R! qV#,]mX 场追迹结果（电磁场探测器）
SgWLs%B H2S/!Q;K .: Zw6 •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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wzj :PS 文件信息
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\ zJb}NbnT F2>W{-H+ 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer HGao} @' -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 3dx.%~c n v
?u （来源：讯技光电）
