[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 {iyO96YI[^  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 y?t2@f]!XK  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 63J_u-o  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 k,~I>qg  
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图片:1-1Q21014202H61.png

C&&*6E5  
光线追迹仿真 b"au9:F4@7  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ),G?f {`!  
4oY<O  
•点击Go！ 2WP73:'t  
•获得3D光线追迹结果。 AI$r^t1  
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图片:1-1Q2101423224L.png

OZ/P@`kN.f  
A,tmy',d"  
光线追迹仿真 cGevFlnh  
K
RY%B[k  
aR iD}P*V  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 M@G <I]\  
•单击Go！ O#}'QZd'  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 zL1*w@6  
[hLSK-K 9  

图片:1-1Q210142613B5.png

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场追迹仿真 B,@<60u  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 `
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•单击Go！ nLA8Hy"8z  
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图片:1-1Q210142A2533.png

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场追迹结果（摄像机探测器） =~)J:x\F  
,rvw E  
X3C"A|HE9  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 &rTOJ1)V}  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Z!@<[Vo6  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 J>I.|@W4  
R]0p L   

图片:1-1Q210142Q6438.png

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场追迹结果（电磁场探测器） RXM
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Ueq*R(9>  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 [D]9M"L,vQ  
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图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 ~Rs_ep'+Q2  
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图片:1-1Q210143051458.png

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更多阅览 nqG9$!k^t  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer )c'5M]V  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Pj4WWKX  
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一系列镜子是怎么加上去的？经验么