[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 PouWRGS_  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 1StaQUB  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 AP9>_0=  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 *6wt+twH  
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图片:1-1Q21014202H61.png

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光线追迹仿真 "b[w%KYyl  
yk/BQ|G  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ei!Yxw8d  
^Is#_Z|  
•点击Go！ B*otquz  
•获得3D光线追迹结果。 Q tl!f  
% U|4%P  

图片:1-1Q2101423224L.png

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光线追迹仿真 s >7(S%#N  
IzlmcP3  
m`xzvg  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 LLPbZ9
q  
•单击Go！ /-Y.A<ieN8  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 CD pLV:  
pwmH(94$0  

图片:1-1Q210142613B5.png

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vt(cC))  
场追迹仿真 "$U!1  
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)KKmV6>b  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ok/{ w  
•单击Go！
Ja{[T  
.-}F~FES  

图片:1-1Q210142A2533.png

c=<5DC&p  
'5}@#Mi  
场追迹结果（摄像机探测器） ~#|Pe1Y  
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.$-GGvN]  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Lz=GA?lk[\  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 @(any^QJ  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 -G
T&46hX  
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图片:1-1Q210142Q6438.png

lO=~&_  
o,_R;'\E[a  
场追迹结果（电磁场探测器） }o7"2hht  
t{Z:N']H  
 4_d'Uh&]  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 .NT9dX  
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-  

图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 CYZ0F5+t  
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图片:1-1Q210143051458.png

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更多阅览 BL H~`N3U  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer ehyCAp0oI  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination a$]i8AeG  
h.)o4(bO  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么