摘要
PouWRGS_ =JE5/ 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
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!bBx' 7OD2/{]5 建模任务
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J\E?rT 概观
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^=ar Kp,?5 光线追迹仿真
"b[w%KYyl yk/BQ|G •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
ei!Yxw8d ^Is#_Z| •点击Go!
B*otquz •获得3D光线追迹结果。
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r2=4Wx4( H{g&yo 光线追迹仿真
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>7(S%#N IzlmcP3 m`xzvg •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
LLPbZ9q •单击Go!
/-Y.A<ieN8 •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
CD pLV: pwmH(94$0
Gg3<
}( vt(cC)) 场追迹仿真
"$ U!1 /JQY_>@W )KKmV6>b •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
ok/{ w •单击Go!
Ja{[T .-}F~FES
c=<5DC&p '5}@#Mi 场追迹结果(摄像机探测器)
~#|Pe1Y _$m1?DZ .$-GGvN] •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
Lz=GA?lk[\ •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
@(any^QJ Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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lO=~&_ o,_R;'\E[a 场追迹结果(电磁场探测器)
}o7"2hht t{Z:N']H 4_d'Uh&] •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer ehyCAp0oI -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination a$]i8AeG h.)o4(bO (来源:讯技光电)