[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 IX7d[nm39  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 j,/o0k,  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 ?Tuh22J{Q  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 %J.Rm0F
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图片:1-1Q21014202H61.png

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光线追迹仿真 7/Lbs  
v@>hjie  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 !FHNKh  
](MXP,R  
•点击Go！ 9q* sR1  
•获得3D光线追迹结果。 :@:R4Ac  
*qOo,e  

图片:1-1Q2101423224L.png

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0RoI`>j'  
光线追迹仿真 "Wi`S;  
:Hd?0eZ|  
FC]? T  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 1pzU=!R?-O  
•单击Go！ WDzov9o
t  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 44%:
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Y}1|/6eJ  

图片:1-1Q210142613B5.png

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场追迹仿真 `n^jU92  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ]-* }-j`  
•单击Go！ ?Fi-,4  
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图片:1-1Q210142A2533.png

{ReAl_Cm  
ORtl~V'  
场追迹结果（摄像机探测器） TP^.]IO-  
8kMMQES  
+!_^MBkk  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 /o|@]SAe.  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 7FMHz.ZRE  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 9MHb<~F  
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图片:1-1Q210142Q6438.png

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场追迹结果（电磁场探测器） i(c2NPbX  
MH !CzV&  
5lU`o  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 @F,HyCSN  
tY[y?DJ  

图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 HvTi^Fb\a  
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图片:1-1Q210143051458.png

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更多阅览 gcv,]v8  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer %< W1y  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination Kjf#uU.7  
RisrU  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么