摘要
eLh35tw D}}?{pe 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
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wLj: DC> R 建模任务
(t5y$bc q Sv!5&u
JBw2#ry 概观
?P|z,n{ ,#;`f=aqTG
,MJddbcg 光线追迹仿真
E$:2AK{* c8 •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
Z>3~n [3S17tTc3 •点击Go!
euT=]j •获得3D光线追迹结果。
p(I^Y{sGI 9cN@y<_I
gU&+^e > .Xf_U.h$*@ 光线追迹仿真
a9^})By& Brs} $,r%@'= & •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
S{2;PaK •单击Go!
RWM~7^JA •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
?Q=(?yR0] X1oR
U,yZ.1V^: 6 mLC{X[ 场追迹仿真
mP15PZ # Dgkl B[8RBTsA •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
G='`*_$ •单击Go!
Citumc)E G] tT=X[
DtGkhq; |SMigSu r` 场追迹结果(摄像机探测器)
ZT/f buzpmRoN) *1b0IQ$g •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
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B|i •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
<)O#Y76s Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
XZ$g~r q2*)e/}H
.*YOyK3H }>y~P~`S: 场追迹结果(电磁场探测器)
J'=s25OWU MMaS ]CS
N7Q+l •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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d^IX(y*$ 文件信息
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~KGE(o4p u|ihUE!h 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer =r`E%P: -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination A9DFZZ0 si]MQ\i+ (来源:讯技光电)