[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 uJ[Vv4N%9  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ]SgeZ07  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 R?s\0  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 ![^h<Om  
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图片:1-1Q21014202H61.png

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光线追迹仿真 @D=`iG%  
&J:)*EjVl5  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 $uhDBmb  
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•点击Go！ Ao$z)<d'  
•获得3D光线追迹结果。 G- WJlu  
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图片:1-1Q2101423224L.png

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光线追迹仿真 pSFWNWQ'B  
F2'cL@E3  
,O$C9pH9  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 f34&:xz2U  
•单击Go！ gQ#T7  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 *pp1Wa7O  
n^#LB*q  

图片:1-1Q210142613B5.png

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场追迹仿真 !3# }ZC2  
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Xm'K6JH'  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Y'1V(5/&  
•单击Go！ ^#se4qQ  
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图片:1-1Q210142A2533.png

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B)8Hj).@B  
场追迹结果（摄像机探测器） }* JMc+!9@  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 hATy3*4  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 >nEnX  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 %tQ{Hf~  
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图片:1-1Q210142Q6438.png

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Q@VnJ,  
场追迹结果（电磁场探测器） X(28xbd|  
X{9o8 *V  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 {`CWz
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图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 f`=T@nA  
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图片:1-1Q210143051458.png

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更多阅览 -wMW@:M_  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer 2!?z%s-S  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination #2ASzCe  
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一系列镜子是怎么加上去的？经验么