[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 8]G  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 LUPh!)8  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 %R|_o<(#MJ  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 v8{ jE
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图片:1-1Q21014202H61.png

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光线追迹仿真 DJWm7 t  
O {hM  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 rnOg;|u8  
T O]wD^`  
•点击Go！ Q4H(JD1f)  
•获得3D光线追迹结果。 Xl/SDm_p  
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图片:1-1Q2101423224L.png

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光线追迹仿真 XJ$mRh0`K  
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)2pOCAjL2  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 _VjfjA<c8  
•单击Go！ T"bH{|:%*=  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 v47S9Vm+  
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图片:1-1Q210142613B5.png

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场追迹仿真 $.5f-vQp  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 mJ #|~I*Z-  
•单击Go！ w7#9t  
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图片:1-1Q210142A2533.png

H^d2|E[D  
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场追迹结果（摄像机探测器） LvPcH  
VG=mA4Dd  
u4KP;_,m  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 &^7^7:Y=?  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 I$y6N"|  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 S- N [  
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图片:1-1Q210142Q6438.png

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m)q e  
场追迹结果（电磁场探测器） }x~1w:zHd  
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Sb|9U8h  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 au;ZAXM|  
o,q47W=7$  

图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 j3Yz=bsQ{c  
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图片:1-1Q210143051458.png

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更多阅览 q}+Fm?B   
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer V4CL%i  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination {/2 _"H3:  
EpCT !e  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么