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    [分享]VirtualLab:高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线xunjigd
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2018-12-10
    关键词: 物镜
    摘要 5B)Z@-x2  
    p)NhV  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 )/A IfH  
    apPn>\O  
    uU=O0?'zq  
    zZE 2%fqM  
    建模任务 OsAH!e  
    jl YnV/ ]  
    /"Ws3.p  
    概观 gh>'O/9  
    M}MXR=X,  
    :f<3`x'  
    光线追迹仿真 P]hS0,sE<(  
    zBg>I=hiG  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 \x\_I1|  
    2A'!kd$2  
    •点击Go! aVcQ  
    •获得3D光线追迹结果。 rw/WD(  
    ('BFy>@  
    z'OY6  
    UT!gAU  
    光线追迹仿真 0 UdAF  
    s=9gp$9m  
    9un* 1%  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 AvnK?*5!@  
    •单击Go! mv_N ns  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 t4>%<'>e  
    No#1Ikw  
    }#va#Nb(,  
    Y?G\@ 6  
    场追迹仿真 Wm!lWQu7  
    UZ#Yd|'PD  
    z=C'qF`  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 H=b54.J8&  
    •单击Go! _' KJ:3e  
    -v"\WmcS  
    ?\[2Po]n  
    U"\$k&  
    场追迹结果(摄像机探测器) X-,scm  
    :KY920/,  
    ernZfd{H  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 jzCSxuZ7O  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 I{#&!h>]U  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 r,F~Vwa}  
    1haNca_6,  
    G=?2{c}U  
    {v{qPYNyh  
    场追迹结果(电磁场探测器) bV|(V>  
    ]*b}^PQM^  
    ,9jq @_  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ?z,^QjQ}  
    S ykblP37  
    )c~1s  
    文件信息 rz/^_dV  
    8/lv,m#  
    X]up5tk~  
    [4Tiukk(  
    更多阅览 sbnNk(XINQ  
    - Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer fT)u`voE,  
    - Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination ACQbw)tiv}  
    ND);7  
    (来源:讯技光电
     
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    离线songshaoman
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    只看该作者 1楼 发表于: 2019-01-23
    一系列镜子是怎么加上去的?经验么