[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 OKs1irt5  
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 8."B  
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 ]t$wK  
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 ~>vv9-_  
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图片:1-1Q21014202H61.png

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光线追迹仿真 h=tzG KI  
Yxik.S+G  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 L-Io!msb  
bzYj`t?  
•点击Go！ V0 70o
Z  
•获得3D光线追迹结果。 Z
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A=8%2UwI  

图片:1-1Q2101423224L.png

[t#xX59  
?wM{NVt#-  
光线追迹仿真 +/+:D9j ,  
Z!HQ|')N5  
a`/\0~  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 kucH=96  
•单击Go！ ndW]S7  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 o@T-kAEf-.  
44@yQ?  

图片:1-1Q210142613B5.png

pjG/`  
cV8Bl="gqe  
场追迹仿真 tZ|0wPp  
L>xecep  
G,o5JL"t  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 >#pZ`oPEAv  
•单击Go！ j_]#Ew\q  
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图片:1-1Q210142A2533.png

E}-Y!,v^  
D1G9^7:^E  
场追迹结果（摄像机探测器） (rTn6[*  
3` ,u^ w  
4^*+G]]wZ~  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 6l Suzu  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 7LotN6H  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 C?OqS+  
V.\12P  

图片:1-1Q210142Q6438.png

MgpjC`  
W"3YA+qpI  
场追迹结果（电磁场探测器） eHX;*~e6)  
Uw!N;QsC  
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3sv  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 I='6>+P  
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s]6  

图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 a+!r5689  
C3k[ipCN  

图片:1-1Q210143051458.png

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BQo$c~  
更多阅览 f3;.+hJ])  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer I9VU,8~  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination q0sdL86  
UiE 1TD{  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么