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    [分享]VirtualLab:高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线xunjigd
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2018-12-10
    关键词: 物镜
    摘要 eLh35tw  
    D}}?{pe  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 \fC;b"j  
    {Y-'i;j?  
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    DC> R  
    建模任务  (t5y$b c  
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    JBw2#ry  
    概观 ?P|z,n{  
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    光线追迹仿真 E$:2AK{*  
    c 8  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 Z>3~n  
    [3S17tTc3  
    •点击Go! euT=]j  
    •获得3D光线追迹结果。 p(I^Y{sGI  
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    .Xf_U.h$*@  
    光线追迹仿真 a9^})By&  
     Br s}  
    $,r%@'=&  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 S{2;PaK  
    •单击Go! RWM~7^JA  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 ?Q=(?yR0]  
    X1o R  
    U,yZ.1V^:  
    6 mLC{X[  
    场追迹仿真 mP15PZ  
    # Dgkl  
    B[8 RBTsA  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 G='`*_$  
    •单击Go! Citumc)E  
    G] tT=X[  
    DtGkhq;  
    |SMigSu r`  
    场追迹结果(摄像机探测器) ZT/f  
    buzpmRoN)  
    *1b0IQ$g  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ? B|i  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 <)O#Y76s  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 XZ$g~r  
    q2*)e/}H  
    .*YOyK3H  
    }>y~P~`S:  
    场追迹结果(电磁场探测器) J'=s25OWU  
    MMaS  
    ]CS N7Q+l  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 d@JavcR  
    Z9% u,Cb  
    d^IX(y*$  
    文件信息 zTG1 0  
    3#udz C  
    ~KGE(o4p  
    u|ihUE!h  
    更多阅览 h;} fdk  
    - Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer =r`E%P:  
    - Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination A9DFZZ0  
    si]MQ\i+  
    (来源:讯技光电
     
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    离线songshaoman
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    只看该作者 1楼 发表于: 2019-01-23
    一系列镜子是怎么加上去的?经验么