[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 5JSrrpGr
 
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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 J'Sm
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图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 izuF !
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图片:1-1Q210141Z3L0.png

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概观 f<=Fe:1.  
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图片:1-1Q21014202H61.png

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光线追迹仿真 Q2QY* A  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 Ia4)uV8  
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•点击Go！ tC)6  
•获得3D光线追迹结果。 /.Q4~Hw%}  
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图片:1-1Q2101423224L.png

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光线追迹仿真 ^+/kr/  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 kbI/4IRW  
•单击Go！ C5X(U:  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 c$h9/H=
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图片:1-1Q210142613B5.png

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场追迹仿真 n7! H:{L  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 A)NkT`<)  
•单击Go！ {C3Y7<  
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图片:1-1Q210142A2533.png

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场追迹结果（摄像机探测器） +%0z`E\?M#  
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B?:6  
r'4:)~]s  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 8e2?tmWM  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 A :e;k{J  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 j*R,m1e8  
[V}, tO|  

图片:1-1Q210142Q6438.png

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eT.SO  
(z7+|JE.  
场追迹结果（电磁场探测器） KZ:hKY@q  
'7)"  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 <48<86TP  
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图片:1-1Q210143024c8.png

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文件信息 q3w1GD  
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图片:1-1Q210143051458.png

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5.0e~zlM-  
更多阅览 nt :N!suP3  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer Ud(`V:d  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination pdVQ*=c?M  
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Au3gt/  

一系列镜子是怎么加上去的？经验么