摘要
=E?kxf[X o6L\39v_ 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
X}x"+#\<@ W
u?A} fH
=Ji+GJ<,9 s?r:McF` 建模任务
K@yLcgr{O2 h$]=z\=
i [,9hp 概观
jFS])",\i ,=!_7'm
Uj]Tdg 光线追迹仿真
2ZUI~:U Z rD^ b{]E3 •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
V?pqKQL0 zY_?$9l0 •点击Go!
5,Rxc= •获得3D光线追迹结果。
|qe[`x;
% 39Nz>Nu:
!' ;1;k); W&MZ5t,k= 光线追迹仿真
k2]fUP Jc8^m0_ b2rlj6d •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
n[|*[II •单击Go!
C1/qiSHsh •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
&|6 A
8, oW[];r
(x)}k&B; aL?+# j^" 场追迹仿真
R9+0ZoS _-MILkx\ 0Ncx':]5 •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
3:H[S_q •单击Go!
v*Dz4K# ohLM9mc9
st4WjX_Q +)J;4B 场追迹结果(摄像机探测器)
z8VcV*6 <I
5F@pe'
ORCG(N •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
$%:=;1Jl •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
ab-z 7g Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
Qk5pRoL_ ;*J_V/&?
}Mv$Up | XGj97#M 场追迹结果(电磁场探测器)
@XJzM]*w& =\ek;d0Tqb '?gF9: •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
,`Yx(4!rR OTy{:ID
UR{OrNg* 文件信息
_n~[wb5J *#y9 Pve
\3bT0^7B #TUuk 更多阅览
ByU&fx2Z -
Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer 6P$jMjs -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination c'!+]'Lr O-3R#sZ0 (来源:讯技光电)