[分享]VirtualLab：高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

摘要 q^"P_pV\  
1?E\2t&K  
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 G5TdAW  
{;f`t3D  

图片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任务 ~4XJ" d3L  
GrVvOJr  

图片:1-1Q210141Z3L0.png

xV}|G  
概观 r[EN`AxDb  
n;v8Vc'  

图片:1-1Q21014202H61.png

U~Uxs\0:  
光线追迹仿真 B7?784{x,  
Gx'mVC"{  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 p
1J%=  
M?)>, !Z)  
•点击Go！ ?|N:[.  
•获得3D光线追迹结果。 W5J"#^kdF8  
*AZC{jP  

图片:1-1Q2101423224L.png

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 M"X/([G  
光线追迹仿真 FIC 2)  

rh$%*l  
(VC{#^2l  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 \W/cC'  
•单击Go！ JfKl=vg  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 1ub03$pL;  
M;\K+,  

图片:1-1Q210142613B5.png

qI8{JcFx:  
]E[Mv} =  
场追迹仿真 h %MPppCEa  
9.vHnMcq  
5x=tOR/h  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 ZiVTc/b  
•单击Go！ {^MR^4&}(  
K'1rS[^>R  

图片:1-1Q210142A2533.png

M#F;eK2pf  
;<ed1%Le,  
场追迹结果（摄像机探测器） Rqvm%sAi  
xU67ztS'E'  
ec"L*l"  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 QVzLf+R~  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Bz/NFNi[p  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 XK(<N<Z@|e  

]9;WM.  

图片:1-1Q210142Q6438.png

7/Ve=7]  
9FJU'$FN  
场追迹结果（电磁场探测器） $Iqt c)DA  
/+02BP  
k"GW3E;  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 X
XxX;xz$  
"xnek8F  

图片:1-1Q210143024c8.png

A/BL{ U}  
文件信息 JMO"(?  
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图片:1-1Q210143051458.png

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Jw;J$ u!d  
更多阅览 S`"IM?  
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer 9at7$Nq  
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination V1#/+~  

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一系列镜子是怎么加上去的？经验么