摘要
G7C9 FV bR '< m[ 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
3}$ L4U .+aSa?h_ 
E/_=0t Ssaf RK$ 建模任务
p`{9kH1m e kaUH#;c>_ 
d OqwF
iO 概观
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yA(H=L-=!1 光线追迹仿真
~9]tt\jN*Y ?
Z8 _(e0U •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
Kd;|Z Q= ~e| •点击Go！
LPT5d 7K@ •获得3D光线追迹结果。
$K \\ 8$Z Qd]-i3^0 
tA@#SIw \I#2Mq? 光线追迹仿真
[ OMcSd|nf y S7[= S ^`=Z=C$fj •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
o?^j1\ ^ •单击Go！
)y.J2_lI8 •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
{Ca#{LeLk K*;=^PY 
ngEjbCV+ *;+lF 场追迹仿真
PWL Mux )F]E[sga ,/:#=TuYm •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
s qac>v •单击Go！
r6 ,5&`& E[2c`XFd8 
Hc^b}A y7 qN+ ngk,: 场追迹结果（摄像机探测器）
$}W=O:L+D 5x4JDaG2 FL0(q> $*8 •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
OMO.-p •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
Aq QArSu, Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
)" A+T& +Medu? K
` 
W? F+QmD 292e0cE 场追迹结果（电磁场探测器）
lXW.G q+e'=0BHd: TS $ 2K •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
IR(JBB|xNQ _hA p@?
M 
h&[]B*BLr 文件信息
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>UZfi u z~L (kf4 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer O|?> rK -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination vkASp&a f77Jn^Dt （来源：讯技光电）
