摘要
! r/~D | d{@'&?tj 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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QtW e,+WWV \F\7*=xk 建模任务
Aw4)=-LKO zxx9)I@?A 
1&7? f 概观
a|3+AWL% 4e;
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R[fQ $` M 光线追迹仿真
)`\Q/TMl5 W_Y56@7e •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
MBKF8b'k $#W^JWN1 •点击Go！
7!m<d,]N •获得3D光线追迹结果。
T?=]&9Y' -49I3& 
A =e1uBGA F{.g05^y 光线追迹仿真
NiE`u m v4uQ 0~k~X P *PJ •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
.'2I9P\! •单击Go！
;'Z"CbS+ •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
V$Oj@vI 4 2-T&7k 
,pf\ g[tz QyZ' %T5J 场追迹仿真
RF4B ]Gqd
;b=7m#5 HJpx,NU' •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
w-v8 P`V •单击Go！
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V2@( BliP !O'p{dj][ 场追迹结果（摄像机探测器）
oblw!) jO*H8 XO ?>vkY^/ •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
00y(E @~ •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
8. +f@wv Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
HxL uJ 7*Zm{r@u 
7X> @r"9< wGIRRM !b 场追迹结果（电磁场探测器）
k][{4~z
(r}StR+ Iq6EoDoq •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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8+(wAbp 文件信息
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1 un! t 0p 更多阅览
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Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer [=Nv=d<[p -
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination j-FMWEp Olt ;^> MQ （来源：讯技光电）
