上海光机所研制的激光反射薄膜元件第三次夺得冠军

从中国科学院上海光学精密机械研究所（简称上海光机所）获悉，据美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室9日证实的竞赛结果，上海光机所中科院激光材料重点实验室薄膜光学实验室研制的激光反射薄膜元件第三次夺得冠军。与第二名相比，其损伤阈值高20%。 PHAM(iC&D  
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这一薄膜元件是高功率激光装置的核心元件之一，也是西方国家对我国禁运、我国强激光领域的“卡脖子”技术之一。此类元件应用于激光惯性约束聚变研究，以及航空航天等使用激光器的领域。 NqlU?  
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来自6个国家的多个实验室提供了30多份薄膜样品参与了这一国际竞赛：2018年基频激光反射薄膜元件激光损伤阈值国际竞赛。  !n`9V^`  
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上海光机所提供的两份不同工艺的薄膜样品表现优异，拿到了一个第一，一个并列第三。 L`2(u!i J  
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2012年和2013年，上海光机所前述实验室也曾夺冠。 ,kQCCn]  
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出于国家相关部门的要求，2013年以后、2018年以前，上海光机所未再参与这一国际比赛。 7v']wA r]  
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该项目负责人朱美萍研究员表示，从第一次参与该国际竞赛到领先国际同行，中国科学家花了11年。 UuKW`(?^  
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据相关负责人介绍，这是一支完全由中国自主培养的团队，团队里没有一位带“帽子”的成员。他们在激光损伤与反激光的“矛”与“盾”的较量中，坚定执着的追求“打不坏”的激光薄膜。这支看似普普通通的团队，敢为人先，锐意进取，才逐步斩获并保持世界第一，实现了我国高功率激光薄膜技术跨越发展。 >sm~te$5  
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高功率激光薄膜的制备是一个工艺环节冗长、复杂的系统工程，多学科交叉，难度极大，西方国家对我国实施严密的技术封锁和产品禁运。 PIHix{YR  
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上海光机所薄膜光学实验室与建所同步，也是我国第一支专业从事激光薄膜研究的团队。半个多世纪以来，薄膜光学实验室不忘初心，紧紧聚焦大能量与高功率激光这个国家重大战略需求，半个世纪，四代科研人员攻坚克难，提出并逐步完善了激光薄膜研制全流程控制的系统工程解决方案，攻克了系列关键技术难题，成功建立了应用基础研究、关键技术攻关与工程应用的自主创新生态链，取得了具有自主知识产权的重大创新成果，一直为我国神光系列高功率激光装置、超强超短激光装置等系统提供了大量高性能核心激光薄膜元件。在国际范围内的激光薄膜损伤阈值提升竞争中，从跟跑、并跑，最终实现超越，并通过本次竞赛的绝对优势强化了我国在本领域的国际领先地位。 ul-O3]\'@  
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当今世界上规模最大的激光聚变装置是美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室的美国国家点火装置，其中有数千件米级尺寸薄膜元件和数万件中小口径薄膜元件。高功率激光反射薄膜是唯一能迫使只知道直线前行的强激光按照人类的想法“万宗归一”的独门元件！它不但需要抵挡住“所向无敌”的高能激光的冲击，保障高功率激光装置不会“自伤”，还要高效的“指挥”激光的方向，使将入射到它表面的激光完全按照人们的意愿，有次序地奔赴同一靶点。激光损伤阈值代表着这个元件“控制指挥”激光的能力，其数值大小决定着能不能把激光能量完整地护送到靶点。