上海光机所研制的激光反射薄膜元件第三次夺得冠军
从中国科学院上海光学精密机械研究所(简称上海光机所)获悉,据美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室9日证实的竞赛结果,上海光机所中科院激光材料重点实验室薄膜光学实验室研制的激光反射薄膜元件第三次夺得冠军。与第二名相比,其损伤阈值高20%。 这一薄膜元件是高功率激光装置的核心元件之一,也是西方国家对我国禁运、我国强激光领域的“卡脖子”技术之一。此类元件应用于激光惯性约束聚变研究,以及航空航天等使用激光器的领域。 来自6个国家的多个实验室提供了30多份薄膜样品参与了这一国际竞赛:2018年基频激光反射薄膜元件激光损伤阈值国际竞赛。 上海光机所提供的两份不同工艺的薄膜样品表现优异,拿到了一个第一,一个并列第三。 大尺寸激光薄膜反射元件。 中国科学院上海光学精密机械研究所供图 2012年和2013年,上海光机所前述实验室也曾夺冠。 出于国家相关部门的要求,2013年以后、2018年以前,上海光机所未再参与这一国际比赛。 |